[發明專利]一種柔性顯示裝置及其制作方法在審
| 申請號: | 201510022265.6 | 申請日: | 2015-01-16 |
| 公開(公告)號: | CN104600029A | 公開(公告)日: | 2015-05-06 |
| 發明(設計)人: | 黨鵬樂;張小寶;張秀玉;丁立薇;姜海斌;劉周英;胡思明;楊楠;張婷婷;朱暉 | 申請(專利權)人: | 昆山工研院新型平板顯示技術中心有限公司;昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/77 | 分類號: | H01L21/77;H01L21/762;H01L27/12 |
| 代理公司: | 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228 | 代理人: | 馬廷昭 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 柔性 顯示裝置 及其 制作方法 | ||
1.一種柔性顯示裝置制作方法,其特征在于,該方法包括如下步驟:
步驟一、在柔性基板上制作TFT層,將所述TFT層劃分為像素區和像素間隔區,所述像素間隔區以行和列的方式間隔出多行多列的像素區;
步驟二、將所述像素間隔區的TFT層刻蝕直至柔性基板處,在經刻蝕后的像素間隔區內填充第一有機物平坦化層;
步驟三、在所述像素區和像素間隔區上制作金屬線,所述金屬線跨越所述像素間隔區的第一有機物平坦化層實現相鄰像素區的電連接;
步驟四、在實現相鄰像素電連接的TFT層上制作發光器件,所述發光器件包括像素單元,所述像素單元在柔性基板上的投影與所述TFT層的像素區在柔性基板上的投影重疊,各像素單元之間的區域在柔性基板上的投影與所述TFT層的像素間隔區在柔性基板上的投影重疊。
2.如權利要求1所述的柔性顯示裝置制作方法,其特征在于,在所述步驟三還包括如下工藝:在所述像素區制作通孔,所述金屬線跨越所述像素間隔區通過所述通孔實現相鄰像素區的電連接。
3.如權利要求1或2所述的柔性顯示裝置制作方法,其特征在于,在所述步驟三與步驟四之間進行如下工藝:在所述實現相鄰像素電連接的TFT層上制作第二有機物平坦化層,覆蓋所述金屬線。
4.如權利要求3所述的柔性顯示裝置制作方法,其特征在于,所述第一有機物平坦化層與第二有機物平坦化層的材質為聚酰亞胺。
5.一種柔性顯示裝置,其特征在于,包括:
柔性基板;
設于所述柔性基板上的TFT層,所述TFT層包括像素區和像素間隔區,所述像素區被所述像素間隔區間隔成多行多列的陣列,所述像素間隔區內設有第一有機物平坦化層,各相鄰的像素區通過跨越所述第一有機物平坦化層上的金屬線電連接;
設于所述TFT層上的發光器件,所述發光器件包括像素單元,所述像素單元在柔性基板上的投影與所述TFT層的像素區在柔性基板上的投影重疊,各像素單元之間的區域在柔性基板上的投影與所述TFT層的像素間隔區在柔性基板上的投影重疊。
6.如權利要求5所述的柔性顯示裝置,其特征在于,所述像素區設有通孔,所述金屬線通過所述通孔連接所述各相鄰的像素區。
7.如權利要求5或6所述的柔性顯示裝置,其特征在于,所述TFT層與所述發光器件之間還設有第二有機物平坦化層,所述第二有機物平坦化層覆蓋所述金屬線。
8.如權利要求7所述的柔性顯示裝置,其特征在于,所述第一有機物平坦化層和第二有機物平坦化層的材質為聚酰亞胺。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





