[發(fā)明專利]激光三維成像裝置及其制造方法有效

申請(qǐng)?zhí)枺?/td>	201510019136.1	申請(qǐng)日：	2015-01-14
公開(kāi)（公告）號(hào)：	CN105842706B	公開(kāi)（公告）日：	2019-02-22
發(fā)明（設(shè)計(jì)）人：	邢超;毛劍宏	申請(qǐng)（專利權(quán)）人：	上海麗恒光微電子科技有限公司
主分類號(hào)：	G01S17/89	分類號(hào)：	G01S17/89;H01L21/768
代理公司：	上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237	代理人：	鄭瑋
地址：	201203 上海市浦東新區(qū)張江***	國(guó)省代碼：	上海;31
權(quán)利要求書：	查看更多	說(shuō)明書：	查看更多
摘要：
搜索關(guān)鍵詞：	激光三維成像裝置及其制造方法
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專利分類

G 物理

G01 測(cè)量；測(cè)試
G01S 無(wú)線電定向；無(wú)線電導(dǎo)航；采用無(wú)線電波測(cè)距或測(cè)速；采用無(wú)線電波的反射或再輻射的定位或存在檢測(cè)；采用其他波的類似裝置
G01S17-00 應(yīng)用除無(wú)線電波外的電磁波的反射或再輻射系統(tǒng)，例如，激光雷達(dá)系統(tǒng)
G01S17-02 .應(yīng)用除無(wú)線電波外的電磁波反射的系統(tǒng)
G01S17-66 .應(yīng)用除無(wú)線電波外的電磁波的跟蹤系統(tǒng)
G01S17-74 .應(yīng)用除無(wú)線電波外的電磁波的再輻射系統(tǒng)，例如IFF，即敵我識(shí)別
G01S17-87 .應(yīng)用除無(wú)線電波外電磁波的系統(tǒng)的組合
G01S17-88 .專門適用于特定應(yīng)用的激光雷達(dá)系統(tǒng)

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專利文獻(xiàn)下載

說(shuō)明：

1、專利原文基于中國(guó)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局專利說(shuō)明書；

2、支持發(fā)明專利、實(shí)用新型專利、外觀設(shè)計(jì)專利（升級(jí)中）；

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