[發(fā)明專利]內(nèi)部檢查裝置的控制裝置及其方法、程序及檢查系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510014691.5 | 申請日： | 2015-01-12 |
| 公開（公告）號： | CN104777166B | 公開（公告）日： | 2017-09-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 田中真由子;森弘之 | 申請（專利權(quán)）人： | 歐姆龍株式會(huì)社 |
| 主分類號： | G01N21/88 | 分類號： | G01N21/88;G01B11/02;G01B11/24;G01N23/04;G01R31/02 |
| 代理公司： | 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司72003 | 代理人： | 樸海今,向勇 |
| 地址： | 日本京都*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 內(nèi)部 檢查 裝置 控制 及其 方法 程序 系統(tǒng) | ||
1.一種內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其用于在包括外觀檢查裝置和內(nèi)部檢查裝置的檢查系統(tǒng)中控制所述內(nèi)部檢查裝置，所述外觀檢查裝置通過可見光圖像檢查印刷電路板上的電極和通過錫焊安裝在所述印刷電路板上的電子零件之間的接合狀態(tài)，所述內(nèi)部檢查裝置通過可見光圖像以外的圖像檢查印刷電路板上的電極和通過錫焊安裝在所述印刷電路板上的電子零件之間的接合狀態(tài)，所述內(nèi)部檢查裝置的控制裝置的特征在于，包括：
檢查對象存儲(chǔ)單元，存儲(chǔ)第一檢查對象部位，所述第一檢查對象部位是通過可見光圖像無法判定接合狀態(tài)的檢查對象部位；
追加檢查對象獲取單元，獲取第二檢查對象部位，所述第二檢查對象部位是通過所述外觀檢查裝置判定為疑似接合不合格的檢查對象部位；
檢查執(zhí)行單元，對所述第一檢查對象部位及所述第二檢查對象部位執(zhí)行檢查；
所述第二檢查對象部位是接合部位的連接端子的高度比規(guī)定的高度高的部位。
2.如權(quán)利要求1所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，所述第二檢查對象部位是形成在接合部位的前焊腳的長度比規(guī)定的長度短的部位。
3.如權(quán)利要求1或2所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，所述第二檢查對象部位是形成在接合部位的前焊腳的焊錫潤濕角比規(guī)定的角度大的部位。
4.如權(quán)利要求1或2所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，所述第二檢查對象部位是形成在接合部位的前焊腳的高度比規(guī)定的高度低的部位。
5.如權(quán)利要求3所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，所述第二檢查對象部位是形成在接合部位的前焊腳的高度比規(guī)定的高度低的部位。
6.如權(quán)利要求1或2所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，還包括檢查對象排除單元，該檢查對象排除單元獲取第三檢查對象部位，并從所述第一檢查對象部位中排除所述第三檢查對象部位，其中，所述第三檢查對象部位是通過所述外觀檢查裝置判定為接合狀態(tài)明顯不合格的檢查對象部位。
7.如權(quán)利要求3所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，還包括檢查對象排除單元，該檢查對象排除單元獲取第三檢查對象部位，并從所述第一檢查對象部位中排除所述第三檢查對象部位，其中，所述第三檢查對象部位是通過所述外觀檢查裝置判定為接合狀態(tài)明顯不合格的檢查對象部位。
8.如權(quán)利要求4所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，還包括檢查對象排除單元，該檢查對象排除單元獲取第三檢查對象部位，并從所述第一檢查對象部位中排除所述第三檢查對象部位，其中，所述第三檢查對象部位是通過所述外觀檢查裝置判定為接合狀態(tài)明顯不合格的檢查對象部位。
9.如權(quán)利要求5所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，還包括檢查對象排除單元，該檢查對象排除單元獲取第三檢查對象部位，并從所述第一檢查對象部位中排除所述第三檢查對象部位，其中，所述第三檢查對象部位是通過所述外觀檢查裝置判定為接合狀態(tài)明顯不合格的檢查對象部位。
10.如權(quán)利要求1或2所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，所述內(nèi)部檢查裝置通過使用X射線的計(jì)算機(jī)斷層攝影來檢查接合狀態(tài)。
11.如權(quán)利要求3所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，所述內(nèi)部檢查裝置通過使用X射線的計(jì)算機(jī)斷層攝影來檢查接合狀態(tài)。
12.如權(quán)利要求4所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，所述內(nèi)部檢查裝置通過使用X射線的計(jì)算機(jī)斷層攝影來檢查接合狀態(tài)。
13.如權(quán)利要求5所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，所述內(nèi)部檢查裝置通過使用X射線的計(jì)算機(jī)斷層攝影來檢查接合狀態(tài)。
14.如權(quán)利要求6所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，所述內(nèi)部檢查裝置通過使用X射線的計(jì)算機(jī)斷層攝影來檢查接合狀態(tài)。
15.如權(quán)利要求7所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，所述內(nèi)部檢查裝置通過使用X射線的計(jì)算機(jī)斷層攝影來檢查接合狀態(tài)。
16.如權(quán)利要求8所述的內(nèi)部檢查裝置的控制裝置，其特征在于，所述內(nèi)部檢查裝置通過使用X射線的計(jì)算機(jī)斷層攝影來檢查接合狀態(tài)。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
