[發明專利]一種真空吸附傳送帶裝置

有效

• 申請號: 201510013079.6
• 申請日: 2015-01-09
• 公開（公告）號: CN104609109A
• 公開（公告）日: 2015-05-13
• 發明（設計）人: 戴躍洪;王室翔
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: B65G21/20
• 分類號: B65G21/20
• 代理公司: 電子科技大學專利中心 51203
• 代理人: 張楊

技術領域

本發明屬于傳送帶機械結構領域，特別是一種具有真空吸附功能的傳送帶裝置。

技術背景

傳送帶是一種常見的連續性傳送方式，在各種生產制造運輸領域得到廣泛應用。而真空吸附傳送帶能在傳送過程中把工件吸附在傳送帶表面，防止產生滑移。但是現有的真空吸附傳送帶存在一個明顯的缺點：傳送帶靜止時真空吸附能很好的將物體吸附在傳送帶表面，但當傳送帶運轉移動時，由于氣嘴配合等問題就會產生漏氣，進而導致無法牢固吸附住物體。從而大大的影響生產效率。現有的真空吸附傳送帶如下圖1，由于真空吸附氣嘴是固定在一個位置不變的，并不隨物體和傳送帶移動，因而當物體在傳送帶上隨傳送帶移動的時候就會產生漏氣，因此目前的真空吸附傳送帶吸附并不牢固，從而影響產品質量。例如圖1中的去毛刺機，如果工件不能牢固的吸附在傳送帶上，工件在與毛刷接觸中就會在傳送帶上晃動，使得去毛刺效果變差。

發明內容

本發明針對現有真空吸附傳送帶不能在傳送帶運動的同時穩定吸附住傳送帶上物體的這一不足，設計了一種真空吸附傳送帶裝置，從而達到在流水線(不僅限于流水線)工作臺上穩定、可靠的固定工作件，方便，快捷的對工件進行加工。

本發明一種真空吸附傳送裝置，該裝置將背景技術中固定不動的真空吸附氣嘴替換為可隨著傳送帶一起運動的真空吸附面板，從而在傳送帶運動過程中能可靠的吸附工件。因而本發明一種真空吸附傳送帶裝置，該裝置包括：傳送機構和兩組真空吸附機構；傳送機構包括：傳送帶支架及位于支架上的傳送帶，其特征在于每組真空吸附機構包括：真空吸附面板、真空泵、控制器、真空吸附面板運動軌道或能實現真空吸附面板往復運動的機械臂；其中控制器有三個，分別控制真空泵的開關和真空吸附面板上各個氣嘴的工作狀態以及面板在其運動軌道上的運動狀態，真空吸附面板和真空泵通過通氣管道連接；兩組真空吸附機構分別設置于傳送帶的兩側，真空吸附面板在工作狀態時緊貼于傳送帶的下方，與傳送帶共同運動；當工作完成時，真空吸附面板向下移一段距離，脫離傳送帶，然后通過豎直設置的真空吸附面板運動軌道或機械臂往回移動，再重新貼合傳送帶的后半部分并與傳送帶再次同步運動，通過控制器使兩組真空吸附機構前后銜接，保證傳送帶的工作區域下方一直有真空吸附面板。

其中所述真空吸附面板由多個真空吸附塊組成，每個真空吸附塊包括：真空吸板、設置于真空吸板上的吸附孔、每個吸附孔內設置的傳感器、控制吸附孔開關的控制盒及連接真空泵的通氣管道；當傳感器探測到吸附孔上方有工件時控制盒將打開該吸附孔，吸附住工件。

所述傳送帶上設置有與吸附面板上吸附孔相配合的吸附孔。

本發明一種真空吸附傳送帶裝置，具有在流水線工作臺上穩定、可靠的固定工件，方便，快捷的對工件進行加工的效果。

附圖說明

圖1為現有的常規真空吸附傳送帶結構示意圖；

圖2為真空吸附塊示意圖；

圖3為由真空吸附塊組成的真空吸附面板示意圖；

圖4為本發明一種真空吸附傳送帶裝置俯視示意圖；

圖5為本發明一種真空吸附傳送帶裝置側視示意圖。

具體實施方式

1.傳送帶、整個系統由真空吸附面板、通氣管道、控制器、真空泵、軌道運行系統組成。

2.傳送帶為特制產品，傳送帶上有氣孔，能很好的和真空吸附面板靜態貼合且不漏氣。

3.真空吸附面板由很多真空吸附組件組合而成，如圖2和圖3。每個真空吸附組件上有很多氣嘴，并由一個控制盒控制這些氣嘴的開閉。當一個氣嘴上沒有物體時，控制器會關閉該氣嘴，以減輕真空泵的負荷。

4.當工件進入工作區間時，真空吸附面板就提前和傳送帶貼合，并對傳送帶表面產生真空吸附力。如圖4所示。

5.整個系統有兩塊真空吸附面板，并相互輪換，無縫銜接。真空吸附面板會隨著傳送帶向前移動，如圖4從左向右移動，隨著傳送帶和吸附面板向右移動一段距離后，工作區間左邊就會產生一段沒有被吸附面板覆蓋的區域，這個時候，另一塊真空吸附面板就會馬上從左側補上去貼合左側的傳送帶產生新的真空吸附力，不讓工作區間產生真空吸附力的空缺區域。

6.如圖4，隨著傳送帶繼續向右移動，第一塊真空吸附面板會完全走出工作區間，這時，這塊吸附面板就和傳送帶分離，沿著軌道迅速的從工作區間的右邊回到左邊等待下一次循環。軌道如圖5所示，軌道也可換成機械臂。兩塊真空吸附面板的軌道和通氣管道分別位于傳送帶的左邊和右邊，相互之間就不會糾纏到一起對運行產生影響。

上述實施方式只是對本設計思路的簡單文字描述，而不是對發明設計思路的限制，任何不超出本專利思路的組合，增加或修改，尤其是動態吸附轉換成相對靜態吸附的方式，均落入本專利的保護范圍。