[發明專利]一種真空吸附傳送帶裝置

有效

• 申請號: 201510013079.6
• 申請日: 2015-01-09
• 公開（公告）號: CN104609109A
• 公開（公告）日: 2015-05-13
• 發明（設計）人: 戴躍洪;王室翔
• 申請（專利權）人: 電子科技大學
• 主分類號: B65G21/20
• 分類號: B65G21/20
• 代理公司: 電子科技大學專利中心 51203
• 代理人: 張楊

1.一種真空吸附傳送帶裝置，該裝置包括：傳送機構和兩組真空吸附機構；傳送機構包括：傳送帶支架及位于支架上的傳送帶，其特征在于每組真空吸附機構包括：真空吸附面板、真空泵、控制器、真空吸附面板運動軌道或能實現真空吸附面板往復運動的機械臂；其中控制器有三個，分別控制真空泵的開關和真空吸附面板上各個氣嘴的工作狀態以及面板在其運動軌道上的運動狀態，真空吸附面板和真空泵通過通氣管道連接；兩組真空吸附機構分別設置于傳送帶的兩側，真空吸附面板在工作狀態時緊貼于傳送帶的下方，與傳送帶共同運動；當工作完成時，真空吸附面板向下移一段距離，脫離傳送帶，然后通過豎直設置的真空吸附面板運動軌道或機械臂往回移動，再重新貼合傳送帶的后半部分并與傳送帶再次同步運動，通過控制器使兩組真空吸附機構前后銜接，保證傳送帶的工作區域下方一直有真空吸附面板。

2.如權利要求1所述的一種真空吸附傳送帶裝置，其特征在于所述真空吸附面板由多個真空吸附塊組成，每個真空吸附塊包括：真空吸板、設置于真空吸板上的吸附孔、每個吸附孔內設置的傳感器、控制吸附孔開關的控制盒及連接真空泵的通氣管道；當傳感器探測到吸附孔上方有工件時控制盒將打開該吸附孔，吸附住工件。

3.如權利要求1所述的一種真空吸附傳送帶裝置，其特征在于所述傳送帶上設置有與吸附面板上吸附孔相配合的吸附孔。