[發明專利]自走式清潔裝置

在審

• 申請號: 201510001661.0
• 申請日: 2015-01-04
• 公開（公告）號: CN105361818A
• 公開（公告）日: 2016-03-02
• 發明（設計）人: 洪祥榮
• 申請（專利權）人: 聯潤科技股份有限公司
• 主分類號: A47L11/24
• 分類號: A47L11/24;A47L11/40
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 徐潔晶

1.一種自走式清潔裝置，包括：

一清潔機構，設于自走式清潔裝置殼體底部，可撥掃污塵并將污塵吸入一 集塵機構內收集；

一容室，設于自走式清潔裝置殼體底部兩側，容室內設有一隔板，將該容 室分隔成一第一容室與一第二容室；

一驅動裝置，設于該容室內，設有包括一驅動輪與一驅動模塊；

該驅動輪設于該第一容室內而該驅動模塊設于該第二容室內。

2.如權利要求1所述的自走式清潔裝置，其特征在于，該隔板開設有一 鏤空的通槽。

3.如權利要求1所述的自走式清潔裝置，其特征在于，該隔板與該第二 容室的一側形成一限位區間，可供該驅動模塊的一端受其限位。

4.如權利要求2所述的自走式清潔裝置，其特征在于，該第二容室的一 側設有一定位槽。

5.如權利要求2所述的自走式清潔裝置，其特征在于，該驅動輪與該驅 動模塊間設有一傳動軸可橫越該通槽。

6.如權利要求4所述的自走式清潔裝置，其特征在于，該驅動模塊兩側 設有一第一定位軸與一第二定位軸，分別配合對應該定位槽與該通槽。

7.如權利要求1所述的自走式清潔裝置，其特征在于，該驅動模塊具有 一套殼，該套殼內設有包括一馬達與一齒輪組，該馬達的旋轉軸與該齒輪組的 第一嚙合齒輪旋轉軸相互垂直，且馬達的旋轉軸與驅動輪的旋轉軸相互垂直。

8.一種自走式清潔裝置，包括：

一清潔機構，設于自走式清潔裝置殼體底部，可撥掃污塵并將污塵吸入一 集塵機構內收集；

一容室，凹設于自走式清潔裝置殼體底部兩側，形成一罩殼；

一驅動裝置，設于該容室內，設有包括一驅動輪與一驅動模塊，該驅動模 塊具有一套殼，該套殼內設有包括一馬達與一齒輪組；

該套殼一端的馬達設置處，設有一第二樞接部與該罩殼相樞接，套殼另一 端的齒輪組設置處，設有一彈性件與該罩殼相抵觸。

9.如權利要求8所述的自走式清潔裝置，其特征在于，該罩殼的一端開 設有一鏤空區間，該鏤空區間可供部分的驅動模塊顯露于容室外。

10.如權利要求8所述的自走式清潔裝置，其特征在于，該罩殼之外緣設 有一第一樞接部，可供第二樞接部樞接；罩殼之內緣設有一抵頂座，可供彈性 件抵頂。

11.如權利要求8所述的自走式清潔裝置，其特征在于，該馬達的旋轉軸 與該齒輪組的一第一嚙合齒輪的旋轉軸相互垂直，且馬達的旋轉軸與驅動輪的 旋轉軸相互垂直。

12.如權利要求8所述的自走式清潔裝置，其特征在于，第二樞接部與一 嵌卡彈性件的定位座皆設于與馬達的旋轉軸平行的軸向上且馬達的旋轉軸與 驅動輪的旋轉軸垂直。

13.如權利要求10所述的自走式清潔裝置，其特征在于，該驅動裝置以 第一樞接部與第二樞接部樞接的一樞接點為旋轉中心，在容室內以弧形路徑擺 動。