[發明專利]阻擋層疊層、用于制造阻擋層疊層的方法以及超高阻擋層與抗反射系統

有效

• 申請號: 201480078901.0
• 申請日: 2014-05-16
• 公開（公告）號: CN106415873B
• 公開（公告）日: 2018-02-16
• 發明（設計）人: H-G·洛茨;N·莫里森;T·斯托利
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 侯穎媖

1.一種阻擋層疊層，所述阻擋層疊層包括：

依序布置的第一層、第二層、第三層和第四層，

其特征在于所述第一層與所述第三層具有至少1.9的折射率，

其特征在于所述第二層與所述第四層具有小于1.7的折射率，并且

其特征在于所述層中的每一層都具有至少70nm的厚度，

其特征在于所述阻擋層疊層的奇數層包括聚合物材料，和/或其特征在于所述阻擋層疊層的偶數層包括聚合物材料。

2.如權利要求1所述的阻擋層疊層，進一步包括在所述第四層上方的更進一步的層。

3.如權利要求1所述的阻擋層疊層，進一步包括第五層，或者第五和第六層。

4.如權利要求1所述的阻擋層疊層，其特征在于所述層直接設置在彼此上。

5.如權利要求1所述的阻擋層疊層，其特征在于奇數層具有至少1.9的折射率，并且其特征在于偶數層具有小于1.7的折射率。

6.如權利要求1所述的阻擋層疊層，其特征在于奇數層具有約為2的折射率。

7.如權利要求1所述的阻擋層疊層，其特征在于偶數層具有小于1.6的折射率。

8.如權利要求1所述的阻擋層疊層，其特征在于所述阻擋層疊層的奇數層包括以下至少一者：SiNx、NbOx、SiN、SiOxNy、AlOx、AlOxNy、TiOx、TaOx、有機材料，和/或其特征在于所述阻擋層疊層的偶數層包括以下至少一者：SiOx、MgFx、SiOxNy、有機材料。

9.如權利要求1所述的阻擋層疊層，其特征在于所述層中的至少一層具有大于100nm的厚度。

10.如權利要求1所述的阻擋層疊層，其特征在于所述層中的至少一層具有在100nm至300nm的范圍中的厚度。

11.如權利要求1所述的阻擋層疊層，其特征在于奇數層中的每一層的厚度小于偶數層中的每一層的厚度。

12.如權利要求1所述的阻擋層疊層，其特征在于所述阻擋層疊層的水蒸汽穿透速率小于10^-4。

13.如權利要求1所述的阻擋層疊層，其特征在于所述阻擋層疊層的水蒸汽穿透速率小于10^-5。

14.如權利要求1所述的阻擋層疊層，進一步包括基板，其特征在于所述層設在所述基板上方。

15.如權利要求14所述的阻擋層疊層，其特征在于所述基板包括從包括以下各項的組中選擇的透明的聚合物材料：聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚(甲基丙烯酸甲酯)、三醋酸纖維素、環烯烴聚合物、聚(乙二醇對萘二甲酸酯)以及上述各項的組合。

16.如權利要求1至15中的任一項所述的阻擋層疊層，其特征在于所述阻擋層疊層的透過率為至少85％。

17.如權利要求1至15中的任一項所述的阻擋層疊層，其特征在于所述阻擋層疊層的透過率大于90％。

18.一種用于制造阻擋層疊層的方法，所述方法包括以下步驟

在基板上交替地沉積第一層材料和第二層材料以形成至少四層，

其特征在于所述第一層材料具有至少1.9的折射率，

其特征在于所述第二層材料具有小于1.7的折射率，并且

其特征在于所述層中的每一層都具有至少70nm的厚度，

其特征在于所述阻擋層疊層的奇數層包括聚合物材料，和/或其特征在于所述阻擋層疊層的偶數層包括聚合物材料。

19.一種超高阻擋層和抗反射系統，所述系統包括：

基板，以及

層疊層，所述層疊層在所述基板上方，其特征在于所述層疊層包括：

依序布置的第一層、第二層、第三層和第四層，

其特征在于所述第一層和所述第三層具有至少1.9的折射率，

其特征在于所述第二層和所述第四層具有小于1.7的折射率，并且其特征在于所述層中的每一層都具有至少70nm的厚度，

其特征在于所述阻擋層疊層的奇數層包括聚合物材料，和/或其特征在于所述阻擋層疊層的偶數層包括聚合物材料。