[發明專利]同軸閥設備有效
| 申請號: | 201480064160.0 | 申請日: | 2014-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN105765283B | 公開(公告)日: | 2019-03-15 |
| 發明(設計)人: | S·巴蒂亞;J·謝帕德;J·卡緬斯基 | 申請(專利權)人: | 達納加拿大公司 |
| 主分類號: | F16K27/04 | 分類號: | F16K27/04;F16K11/07;F16K31/68;F28F27/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 江漪 |
| 地址: | 加拿大*** | 國省代碼: | 加拿大;CA |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 同軸 設備 | ||
1.一種閥設備,包括:
閥殼體;
主腔,其形成于所述閥殼體內并且從具有第一直徑的第一開口端延伸到具有第二減小直徑的第二閉合端,所述第二閉合端嵌入于所述閥殼體內;
第一流體入口通路,所述第一流體入口通路用于沿第一方向從流體源接納流體;
第一流體出口通路,所述第一流體出口通路用于使所述流體沿第二方向返回到所述流體源,所述第二方向與所述第一方向大致相反;
第二流體出口,所述第二流體出口用于從所述閥殼體排放所述流體;
第二流體入口,所述第二流體入口用于接納從所述閥殼體排放的所述流體并且使所述流體經由所述第一流體出口通路返回到所述流體源;
第一閥腔室,所述第一閥腔室形成于所述主腔內,并且與所述第一流體入口通路連通;
閥機構,所述閥機構滑動地安裝于所述第一閥腔室內,所述閥機構適于控制流體從所述第一流體入口通路到所述第二流體出口的流動;
第二閥腔室,當所述閥機構處于第一位置時,所述第二閥腔室與所述第一閥腔室和所述第一流體出口通路成流體連通;
第三閥腔室,當所述閥機構處于第二位置時,所述第三閥腔室與所述第一閥腔室和所述第二流體出口成流體連通;
其中所述第二閥腔室與所述第三閥腔室流體地隔離;以及
其中所述第一流體入口通路同軸地布置于所述第一流體出口通路內。
2.根據權利要求1所述的閥設備,其特征在于:
第一套筒構件安裝于所述閥殼體的所述主腔內,所述第一套筒構件具有在第一開口端與第二閉合端之間縱向延伸的外壁,所述第一套筒構件的所述外壁限定敞開的內部空間,所述敞開的內部空間形成所述第一閥腔室;以及
其中所述閥機構滑動地安裝于所述第一套筒構件內。
3.根據權利要求2所述的閥設備,其特征在于,還包括:
第一流體開口,其形成于所述第一套筒構件中,從而提供在所述第一閥腔室與所述第二閥腔室之間的流體連通;以及
第二流體開口,其形成于所述第一套筒構件中,從而提供在所述第一閥腔室與所述第三閥腔室之間的流體連通;
其中所述第一流體開口和第二流體開口分別與所述第二流體入口和所述第二流體出口對準。
4.根據權利要求3所述的閥設備,其特征在于,還包括:
第二套筒構件,其布置于所述第一套筒構件的外部并且與所述第一套筒構件接觸,所述第一套筒構件和第二套筒構件一起安裝于所述主腔內,所述第二套筒構件包括:
向外延伸的周界凸緣,其用來接觸并且密封所述主腔的內表面,所述向外延伸的周界凸緣形成在所述第二閥腔室與所述第三閥腔室之間的流體屏障并且流體地隔離所述第二閥腔室與所述第三閥腔室;
第一流體開口,其形成于所述第二套筒構件中并且與所述第一套筒構件中的所述第一流體開口對準;以及
第二流體開口,其形成于所述第二套筒構件中并且與所述第一套筒構件中的所述第二流體開口對準;
其中所述向外延伸的周界凸緣定位于所述第一流體開口與第二流體開口中間;以及
第三套筒構件,其圍繞所述第二套筒構件同軸布置,所述第三套筒構件具有第一開口端,所述第一開口端插入于所述主腔的所述第一開口端內并且形成在所述第二套筒構件與所述第三套筒構件之間的環形流動通路,所述環形流動通路與所述第二閥腔室成流體連通,并且用作所述第一流體出口通路。
5.根據權利要求4所述的閥設備,其特征在于,所述閥機構包括:
外殼體,其與所述第一套筒構件的內表面接觸,并且適于沿著所述第一套筒構件的內表面滑動運動;
致動器本體,其容納于所述外殼體內;
活塞,其聯接到所述致動器本體以使所述外殼體在所述第一位置與所述第二位置之間移動;
形成于所述外殼體中的第一開口;
第二開口,其形成于所述外殼體中、與所述第一開口間隔開;
其中當所述活塞處于所述第一位置時,所述第一開口與形成于所述第一套筒構件和第二套筒構件中的所述第一流體開口和所述閥殼體的所述第二流體入口對準;以及
其中當所述活塞處于所述第二位置時,所述第二開口與形成于所述第一套筒構件和第二套筒構件中的所述第二流體開口和所述閥殼體的所述第二流體出口對準。
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