[發(fā)明專利]光刻方法和設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480062809.5
• 申請日: 2014-10-02
• 公開（公告）號: CN105723283B
• 公開（公告）日: 2018-06-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: J·博格斯尼古洛;H·諾貝爾;J·J·M·巴塞曼斯;B·斯米特斯;P·J·M·范艾德麗切姆
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

本發(fā)明提供一種對由光學(xué)系統(tǒng)形成的光學(xué)圖像進行校正的方法，所述方法包括：獲得指示所述光學(xué)系統(tǒng)的整個光瞳平面上的、對于在光學(xué)系統(tǒng)的像平面中的每個空間位置的所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性的圖，將指示所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性的圖與輸入輻射束的強度和偏振的輻射圖相組合以形成圖像圖，以及使用所述圖像圖來對通過引導(dǎo)所述輸入輻射束經(jīng)過所述光學(xué)系統(tǒng)而形成的光學(xué)圖像進行校正。

相關(guān)申請的交叉引用

本申請主張2013年11月20日提交的美國臨時申請61/906,764的權(quán)益，其通過援引而全文合并到本文中。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及對偏振相關(guān)光學(xué)效應(yīng)進行校正的方法。所述方法可以與光刻設(shè)備結(jié)合使用。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底的目標(biāo)部分上的機器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成與所述IC的單層相對應(yīng)的電路圖案，并且可以將該圖案成像到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯)上，其中所述襯底具有輻射敏感材料(抗蝕劑)層。通常，單個襯底將包含被連續(xù)曝光的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。公知的光刻設(shè)備包括：所謂的步進機，在所述步進機中，通過將整個圖案一次曝光到所述目標(biāo)部分上來輻射每一個目標(biāo)部分；以及所謂的掃描器，在所述掃描器中，通過輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向掃描所述襯底來輻射每一個目標(biāo)部分。

發(fā)明內(nèi)容

使用一種投影系統(tǒng)將已由所述圖案形成裝置形成圖案的輻射聚焦到所述襯底上。所述投影系統(tǒng)可能引入一個或多個光學(xué)像差，這可導(dǎo)致從襯底形成的圖像偏離由所述圖案形成裝置所賦予的圖案。

期望例如對于這樣的一個或多個像差進行校正。

期望例如提供一種圖像校正方法，其至少部分地解決了本領(lǐng)域的、無論是在本文中還是在其他地方所確定的問題中的一個或多個。

根據(jù)一方面，提供一種對由光學(xué)系統(tǒng)形成的光學(xué)圖像進行校正的方法，所述方法包括獲得所述光學(xué)系統(tǒng)的整個光瞳平面上的、對于在光學(xué)系統(tǒng)的像平面中每個空間位置指示出所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性的圖，將所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性的圖與輸入輻射束的強度和偏振的輻射圖相組合以形成圖像圖，以及使用所述圖像圖來對通過引導(dǎo)所述輸入輻射束經(jīng)過所述光學(xué)系統(tǒng)而形成的光學(xué)圖像進行校正。

對所述偏振相關(guān)特性的效應(yīng)進行校正是有益的，這是因為其改進了由所述光學(xué)系統(tǒng)所形成的光學(xué)圖像的精確度。本文中所稱作的對光學(xué)圖像進行校正可以解釋為意思是所述光學(xué)圖像被調(diào)整為使得其更接近于所需的的光學(xué)圖像。并非旨在對所述光學(xué)圖像進行調(diào)整使得其極佳地對應(yīng)于所需光學(xué)圖像。

在輸入輻射束進入所述光學(xué)系統(tǒng)之前，圖案可以被圖案形成裝置賦予給輸入輻射束，所述輻射圖包含與所述圖案相關(guān)的信息。

通過將校正圖確定為所述圖像圖與所述輻射圖之間的差異，并且隨后使用所述校正圖來對通過引導(dǎo)所述輸入輻射束經(jīng)過所述光學(xué)系統(tǒng)而形成的光學(xué)圖像進行校正，則可以實現(xiàn)對所述光學(xué)圖像的校正。

通過使用所述圖像圖來確定所述偏振相關(guān)特性對于通過引導(dǎo)所述輸入輻射束經(jīng)過所述光學(xué)系統(tǒng)而形成的光學(xué)圖像的影響，并且隨后執(zhí)行對于所述光學(xué)圖像進行校正的校正，則可以實現(xiàn)所述光學(xué)圖像的校正。

通過操縱所述光學(xué)系統(tǒng)的一個或多個光學(xué)元件(例如透鏡)，可以實現(xiàn)所述光學(xué)圖像的校正。

通過修改所述圖案形成裝置的圖案，則可以實現(xiàn)所述光學(xué)圖像的校正。

獲得所述偏振相關(guān)特性的圖可以包括對所述偏振相關(guān)特性的圖進行測量。