[發(fā)明專利]光刻方法和設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480062809.5
• 申請日: 2014-10-02
• 公開（公告）號: CN105723283B
• 公開（公告）日: 2018-06-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: J·博格斯尼古洛;H·諾貝爾;J·J·M·巴塞曼斯;B·斯米特斯;P·J·M·范艾德麗切姆
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種用于對由光學(xué)系統(tǒng)所形成的光學(xué)圖像進(jìn)行校正的方法，所述方法包括：

獲得指示橫跨所述光學(xué)系統(tǒng)的整個光瞳平面的、對于在所述光學(xué)系統(tǒng)的像平面中的每個空間位置的所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性的圖；

將指示所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性的圖與輸入輻射束的強度和偏振的輻射圖相組合以形成圖像圖；以及

使用所述圖像圖來對通過引導(dǎo)所述輸入輻射束經(jīng)過所述光學(xué)系統(tǒng)而形成的光學(xué)圖像進(jìn)行校正。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中在所述輸入輻射束進(jìn)入所述光學(xué)系統(tǒng)之前，圖案被圖案形成裝置賦予所述輸入輻射束，并且其中所述輻射圖包含與所述圖案相關(guān)的信息。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的方法，其中通過將校正圖確定為所述圖像圖與所述輻射圖之間的差異，并且隨后使用所述校正圖來對通過引導(dǎo)所述輸入輻射束經(jīng)過所述光學(xué)系統(tǒng)所形成的光學(xué)圖像進(jìn)行校正，而實現(xiàn)對所述光學(xué)圖像的校正。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的方法，其中通過使用所述圖像圖來確定所述偏振相關(guān)特性對于通過引導(dǎo)所述輸入輻射束經(jīng)過所述光學(xué)系統(tǒng)所形成的所述光學(xué)圖像的影響，并且隨后執(zhí)行對于該光學(xué)圖像進(jìn)行校正的校正，而實現(xiàn)對所述光學(xué)圖像的校正。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中通過操縱所述光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)元件而實現(xiàn)對所述光學(xué)圖像的校正。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中通過操縱所述光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)元件而實現(xiàn)對所述光學(xué)圖像的校正。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中通過修改所述圖案形成裝置的圖案，實現(xiàn)對所述光學(xué)圖像的校正。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中通過修改所述圖案形成裝置的圖案，實現(xiàn)對所述光學(xué)圖像的校正。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中獲得指示所述偏振相關(guān)特性的圖包括對指示所述偏振相關(guān)特性的圖進(jìn)行測量。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中測量指示所述偏振相關(guān)特性的圖包括：

依序地引導(dǎo)具有不同偏振狀態(tài)的三個或更多個校準(zhǔn)輻射束通過所述光學(xué)系統(tǒng)；

對于每個校準(zhǔn)輻射束確定從所述光學(xué)系統(tǒng)離開的所述校準(zhǔn)輻射束的特性的輸出圖；以及

組合所述輸出圖以確定指示橫跨所述光學(xué)系統(tǒng)的光瞳平面的光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性的量值和方向的圖。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性包括延遲，并且從所述光學(xué)系統(tǒng)離開的校準(zhǔn)輻射束的特性的輸出圖包括波前。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中使用剪切干涉儀來測量從所述光學(xué)系統(tǒng)離開的波前。

13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中所述光學(xué)系統(tǒng)的偏振相關(guān)特性包括雙衰減，并且從所述光學(xué)系統(tǒng)離開的校準(zhǔn)輻射束的特性的輸出圖包括強度圖。

14.根據(jù)權(quán)利要求10至13中任一項所述的方法，其中所述校準(zhǔn)輻射束中的一個或多個具有雙極強度分布并且在基本上與平分開所述雙極的兩個相對扇區(qū)的線垂直的方向上被線性地偏振，對于不同校準(zhǔn)輻射束的雙極的取向是不同的。

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中獲得指示所述偏振相關(guān)特性的圖包括使用建模軟件來對所述光學(xué)系統(tǒng)對于所述輸入輻射束的影響進(jìn)行建模。

16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中獲得指示所述偏振相關(guān)特性的圖包括確定取向澤尼克多項式(OZPs)的線性展開式中的系數(shù)。

17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中獲得指示所述偏振相關(guān)特性的圖包括從存儲器獲取所述圖。