[發明專利]配體化合物、用于烯烴低聚反應的催化劑體系及使用該催化劑體系的烯烴低聚方法

有效

• 申請號: 201480062051.5
• 申請日: 2014-11-17
• 公開（公告）號: CN105722846B
• 公開（公告）日: 2018-03-09
• 發明（設計）人: 史錫必;李龍湖;李琪樹;申恩知
• 申請（專利權）人: LG化學株式會社
• 主分類號: C07F9/50
• 分類號: C07F9/50;C07F9/24;C08F4/42
• 代理公司: 北京金信知識產權代理有限公司11225
• 代理人: 張皓,錢程

1.一種由以下化學式1表示的配體化合物：

[化學式1]

在化學式1中，

X是條件是R’是氫或C₁-C₃烷基，

R₃至R₆各自獨立地為苯基，并且

n是1至5的整數。

2.根據權利要求1所述的配體化合物，其中，

所述配體化合物選自以下化合物：

3.一種用于烯烴低聚反應的催化劑體系，其包含：根據權利要求1或2所述的配體化合物；過渡金屬源；以及助催化劑。

4.根據權利要求3所述的用于烯烴低聚反應的催化劑體系，其中，所述過渡金屬源是鉻源。

5.根據權利要求3所述的用于烯烴低聚反應的催化劑體系，其中，所述過渡金屬源選自乙酰丙酮鉻(III)、三(四氫呋喃)三氯化鉻、2-乙基己酸鉻(III)、三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)鉻(III)、苯甲酰丙酮酸鉻(III)、六氟-2,4-戊二酮酸鉻(III)和乙酸鉻(III)氫氧化物。

6.根據權利要求3所述的用于烯烴低聚反應的催化劑體系，其中，所述助催化劑選自以下化學式2至4表示的化合物：

[化學式2]

-[Al(R₇)-O]_c-

在化學式2中，

各個R₇獨立地為鹵素、C₁-C₂₀烷基或C₁-C₂₀鹵代烷基，并且

c是2或更大的整數，

[化學式3]

D(R₈)₃

在化學式3中，

D是鋁或硼，并且

R₈是氫、鹵素、C₁-C₂₀烷基或C₁-C₂₀鹵代烷基，

[化學式4]

[L-H]⁺[Q(E)₄]^-

在化學式4中，

L是中性路易斯堿，

[L-H]⁺是布朗斯臺德酸，

Q是B³⁺或Al³⁺，并且

各個E獨立地是C₆-C₂₀芳基或C₁-C₂₀烷基，其中，所述C₆-C₂₀芳基或C₁-C₂₀烷基是未取代的或以選自鹵素、C₁-C₂₀烷基、C₁-C₂₀烷氧基和苯氧基中的一個或多個取代基取代。

7.根據權利要求3所述的用于烯烴低聚反應的催化劑體系，其用在乙烯的低聚反應中。

8.一種烯烴低聚方法，其包括：在根據權利要求3所述的用于烯烴低聚反應的催化劑體系的存在下使烯烴多聚的步驟。

9.根據權利要求8所述的烯烴低聚方法，其中，所述多聚步驟在5℃至200℃的溫度下進行。

10.根據權利要求8所述的烯烴低聚方法，其中，所述多聚步驟在1巴至300巴的壓力下進行。

11.根據權利要求8所述的烯烴低聚方法，其中，所述烯烴是乙烯。