[發明專利]用于發光二極管結構中的內部量子效率的非接觸測量的方法及設備有效
| 申請號： | 201480057422.0 | 申請日： | 2014-09-13 |
| 公開（公告）號： | CN105829902B | 公開（公告）日： | 2019-08-06 |
| 發明（設計）人： | V·N·法伊費爾 | 申請（專利權）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分類號： | G01R31/26 | 分類號： | G01R31/26 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人： | 張世俊 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 發光二極管 結構 中的 內部 量子 效率 接觸 測量 方法 設備 | ||
【權利要求書】：
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