[發明專利]測量同位素比的方法

有效

• 申請號: 201480056911.4
• 申請日: 2014-11-10
• 公開（公告）號: CN105659354B
• 公開（公告）日: 2017-10-10
• 發明（設計）人: H-J·舒呂特;O·克拉克;J·拉德克;B·斯特拉瑟;J·施韋特斯;E·瓦佩爾郝斯特
• 申請（專利權）人: 塞莫費雪科學(不來梅)有限公司
• 主分類號: H01J49/00
• 分類號: H01J49/00;G01N21/31
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司31100
• 代理人: 樂洪詠,郭輝

1.一種在同位素比光譜儀中測量連續樣品的同位素比的方法，所述方法包含：

a)在所述光譜儀中在測量時間段內測量至少一個樣品同位素比，其中n≥1；

b)在所述測量時間段的至少一部分內測量樣品濃度

c)使在所述測量時間段期間測量的所述樣品作參考的用于所述光譜儀的參考氣體濃度與所述測量的樣品濃度匹配；

d)在所述光譜儀中在所述匹配的參考氣體濃度下測量所述參考氣體的同位素比；

e)使用在所述對應的參考氣體濃度下所測量的所述參考氣體的同位素比，校準在所述測量時間段期間測量的具有樣品濃度的所述樣品的所述至少一個同位素比；以及

f)確定多個經校準的同位素比和多個樣品氣體濃度測量，所述多個經校準的同位素比和所述多個樣品氣體濃度測量中的每一個維持不同、相應的時間。

2.根據權利要求1所述的方法，其還包含：

對于n＝n+1，n+2……，迭代地重復步驟a)至e)，使得在某一測量時間段期間，使在所述某一測量時間段期間所述參考氣體的濃度與在所述某一測量時間段期間所測量的樣品濃度匹配，其中n≥1；以及

其中確定所述多個經校準的同位素比和所述多個樣品氣體濃度測量的所述步驟f)包含對于每個測量時間段使所述至少一個經校準的同位素比和所述測量的樣品濃度與來自所述相應測量時間段的時間關聯，其中n≥1。

3.根據權利要求2所述的方法，其中基于在所述某一測量時間段期間樣品濃度的變化率設定在所述某一測量時間段之后的測量時間段的持續時間。

4.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中在所述光譜儀中在所述測量時間段內測量至少一個樣品同位素比的所述步驟a)包含在所述光譜儀中在所述測量時間段內測量多個樣品同位素比并且其中確定所述多個經校準的同位素比和所述多個樣品氣體濃度測量的所述步驟f)包含使在所述測量時間段內測量的所述多個樣品同位素比中的每一個與來自所述測量時間段的相應的時間關聯。

5.根據權利要求1-3中任一項所述的方法，其中在所述光譜儀中在所述參考氣體濃度下測量所述參考氣體的所述同位素比的所述步驟d)在所述測量時間段之后的參考時間段期間發生。

6.根據權利要求1-3中任一項所述的方法，其在步驟a)之前還包含：

選擇用于關聯到在所述測量時間段之前的時間段的前一參考氣體濃度

其中使在所述測量時間段期間測量的所述樣品作參考的用于所述光譜儀的參考氣體濃度與所述測量的樣品濃度匹配的所述步驟c)是基于所述選擇的前一參考氣體濃度

7.根據權利要求6所述的方法，其還包含：

在所述選擇的前一參考氣體濃度下測量所述參考氣體的所述濃度；以及

基于所述選擇的前一參考氣體濃度與所述前一參考氣體濃度的所述測量值的比，計算修正系數；以及

其中匹配所述參考氣體濃度的所述步驟c)包含將所述計算的修正系數應用到在所述測量時間段的所述至少一部分內測量的所述樣品濃度

8.根據權利要求7所述的方法，其中在所述選擇的前一參考氣體濃度下測量所述參考氣體的所述濃度的所述步驟在所述測量時間段之前的前一參考時間段期間進行。

9.根據權利要求6所述的方法，其中選擇前一參考氣體濃度的所述步驟是基于所述測量時間段的預期樣品濃度。

10.根據權利要求1-3中任一項所述的方法，其中在所述測量時間段的至少一部分內測量所述樣品濃度的所述步驟b)包含在所述測量時間段的所述至少一部分內確定平均樣品濃度并且其中校準所述樣品的所述同位素比的所述步驟e)使用在所述確定的平均樣品濃度下所測量的所述參考氣體的同位素比。

11.根據權利要求10所述的方法，其中所述測量時間段的所述至少一部分為所述測量時間段的整個部分。

12.根據權利要求10所述的方法，其中所述測量時間段的所述至少一部分僅為所述測量時間段的最后一部分。