[發(fā)明專利]光刻設(shè)備、可編程圖案形成裝置和光刻方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480056200.7
• 申請日: 2014-07-11
• 公開（公告）號: CN105637422A
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: F·范德克科夫
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B3/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 張啟程

相關(guān)申請的交叉引用

本申請要求于2013年8月16日遞交的美國臨時申請61/866,777 的優(yōu)先權(quán)，此處通過引用全文并入。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種光刻設(shè)備、一種可編程圖案形成裝置和一種器件制 造方法。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底或襯底的一部分上的機器。 例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(ICs)、平板顯示器和具有精細(xì)特 征的其他器件或結(jié)構(gòu)的制造中。在傳統(tǒng)的光刻設(shè)備中，可以將可稱為掩 ?；蜓谀０娴膱D案形成裝置用于生成與IC、平板顯示器或其他器件的 單個層相對應(yīng)的電路圖案?？梢詫⒃搱D案轉(zhuǎn)移到襯底(例如，硅晶片或 玻璃板)(的一部分)上，這例如通過把圖案成像到提供到襯底上的輻 射敏感材料(抗蝕劑)層上進行。

代替電路圖案，圖案形成裝置可以被用于生成其他圖案，例如彩色 濾光片圖案或者點矩陣。代替?zhèn)鹘y(tǒng)的掩模，圖案形成裝置可以包括圖案 形成陣列，所述圖案形成陣列包括獨立可控元件的陣列，這些獨立可控 元件的陣列生成電路或其他可應(yīng)用圖案。相比于傳統(tǒng)的基于掩模的系 統(tǒng)，這種“無掩模”系統(tǒng)的優(yōu)點在于：圖案可以被更快速、更便宜地提 供和/或改變。

因此，無掩模系統(tǒng)包括可編程圖案形成裝置(例如，空間光調(diào)制 器、對比度裝置，等等)?？删幊虉D案形成裝置被編程(例如，用電子 學(xué)方法或光學(xué)方法)，以使用獨立可控元件的陣列形成期望的被圖案化 的束。可編程圖案形成裝置的類型包括微反射鏡陣列、液晶顯示 (LCD)陣列、光柵光閥陣列，等等。

發(fā)明內(nèi)容

例如，期望提供一種柔性的、低成本的、包括可編程圖案形成裝置 的光刻設(shè)備。

在一實施例中，提供一種光刻設(shè)備，包括：襯底保持裝置，所述襯 底保持裝置被構(gòu)造用于保持襯底；調(diào)制器，所述調(diào)制器被配置用于將所 述襯底的曝光區(qū)域由根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個束曝光，所述調(diào)制器包 括多個垂直外腔表面發(fā)射激光器(VECSEL)或多個垂直腔表面發(fā)射激 光器(VCSEL)，以提供所述多個束；和投影系統(tǒng)，所述投影系統(tǒng)被配 置用于將被調(diào)制的束投影到所述襯底上。

在一實施例中，提供一種可編程圖案形成裝置，包括：多個 VECSEL或VCSEL，以提供根據(jù)期望的圖案調(diào)制的多個束；和透鏡陣 列，所述透鏡陣列用于接收所述多個束。

在一實施例中，提供一種光刻系統(tǒng)，包括多個光刻設(shè)備，所述多個 光刻設(shè)備中的至少一個光刻設(shè)備被布置在所述多個光刻設(shè)備中的另一個 光刻設(shè)備上方。

在一實施例中，提供一種波帶片陣列布置，所述波帶片陣列布置包 括布置成二維陣列的透鏡，在所述二維陣列中透鏡被布置成三角形布 局。

在一實施例中，提供一種器件制造方法，包括：使用多個 VECSEL或VCSEL根據(jù)期望的圖案調(diào)制多個束，其中所述多個 VECSEL或VCSEL提供多個束；和將被調(diào)制的束投影到襯底的曝光區(qū) 域上。

附圖說明

并入本文中并且形成說明書的一部分的附圖示出本發(fā)明的實施例， 并且與說明書文字描述部分一起進一步用于解釋本發(fā)明的原理，使得本 領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠制造和使用本發(fā)明。

圖1示出根據(jù)一實施例的光刻設(shè)備的示意性側(cè)視圖。

圖2示出根據(jù)一實施例的多個光刻設(shè)備的支架布置的示意性側(cè)視 圖。

圖3示出根據(jù)一實施例的光刻設(shè)備的示意性透視圖。

圖4示出根據(jù)一實施例的光刻設(shè)備的可編程圖案形成裝置模塊的示 意性側(cè)視圖。

圖5示出根據(jù)一實施例的圖4所示的多個模塊的布置的示意性仰視 圖。

圖6示出根據(jù)一實施例的光刻設(shè)備的透鏡陣列布置的示意性俯視 圖。

圖7示出根據(jù)一實施例的光刻設(shè)備的透鏡陣列布置的示意性俯視 圖。

圖8示出根據(jù)一實施例的光刻設(shè)備的輻射投影的示意性圖示。

圖9(A)-(C)示出根據(jù)一實施例的光刻設(shè)備的輻射投影的示意 性圖示。

圖10示出根據(jù)一實施例的光刻設(shè)備的定位裝置的示意性透視圖。

圖11示意性示出如何通過使用多個光引擎在單次掃描中曝光整個 襯底，其中每個光引擎包括一個或多個可獨立尋址的元件。