[發(fā)明專利]光刻設(shè)備、可編程圖案形成裝置和光刻方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201480056200.7
• 申請(qǐng)日: 2014-07-11
• 公開（公告）號(hào): CN105637422A
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: F·范德克科夫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G02B3/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種光刻設(shè)備，包括：

襯底保持裝置，所述襯底保持裝置被構(gòu)造用于保持襯底；

調(diào)制器，所述調(diào)制器被配置用于以根據(jù)期望圖案被調(diào)制的多個(gè)束 對(duì)襯底的曝光區(qū)域曝光，所述調(diào)制器包括多個(gè)垂直外腔表面發(fā)射激光器 或垂直腔表面發(fā)射激光器，用于提供所述多個(gè)束；和

投影系統(tǒng)，所述投影系統(tǒng)被配置用于將經(jīng)調(diào)制的束投影到所述襯 底上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述投影系統(tǒng)包括透鏡陣 列，用于接收多個(gè)束。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中，所述透鏡陣列是波帶片陣 列。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的設(shè)備，其中，所述透鏡陣列被布置 成二維陣列，在所述二維陣列中透鏡被布置成三角形布局。

5.根據(jù)權(quán)利要求2-4中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，還包括致動(dòng)器，所述 致動(dòng)器使所述透鏡陣列在曝光區(qū)域的曝光期間相對(duì)于多個(gè)垂直外腔表面 發(fā)射激光器或垂直腔表面發(fā)射激光器移動(dòng)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，還包括控制器，所述控制器被配 置用于使所述透鏡陣列以李薩如圖形振蕩。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的設(shè)備，還包括定位裝置，用于使所 述致動(dòng)器和透鏡陣列相對(duì)于所述襯底移動(dòng)。

8.根據(jù)權(quán)利要求5-7中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，包括具有所述透鏡的 結(jié)構(gòu)和圍繞所述結(jié)構(gòu)的框架，所述框架包括可移動(dòng)地將所述結(jié)構(gòu)連接至 所述框架的安裝件。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述致動(dòng)器被配置用于將所 述結(jié)構(gòu)相對(duì)于所述框架移位。

10.一種可編程圖案形成裝置，包括：

多個(gè)垂直外腔表面發(fā)射激光器或者垂直腔表面發(fā)射激光器，用于 提供根據(jù)所期望的圖案被調(diào)制的多個(gè)束；和

透鏡陣列，用于接收所述多個(gè)束。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，其中，所述透鏡陣列是波帶片 陣列，透鏡的數(shù)量與垂直外腔表面發(fā)射激光器或垂直腔表面發(fā)射激光器 的數(shù)量相對(duì)應(yīng)，并且所述透鏡被定位用于將由垂直外腔表面發(fā)射激光器 或垂直腔表面發(fā)射激光器中的各個(gè)垂直外腔表面發(fā)射激光器或垂直腔表 面發(fā)射激光器選擇性通過的輻射聚焦成點(diǎn)陣列。

12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的裝置，其中，所述透鏡陣列被布 置成其中所述透鏡以三角形布局布置的兩維陣列。

13.根據(jù)權(quán)利要求10-12中任一項(xiàng)所述的裝置，還包括致動(dòng)器，所 述致動(dòng)器被配置用于在提供所述多個(gè)束期間使得所述透鏡陣列相對(duì)于所 述多個(gè)垂直外腔表面發(fā)射激光器或垂直腔表面發(fā)射激光器移動(dòng)。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置，其中，所述致動(dòng)器被配置用于 使得所述透鏡陣列在同一平面中在至少兩個(gè)正交方向上移動(dòng)。

15.根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的裝置，還包括控制器，所述控制 器被配置用于使所述透鏡陣列以李薩如圖形振蕩。

16.根據(jù)權(quán)利要求13-15中任一項(xiàng)所述的裝置，還包括定位裝置， 所述定位裝置被配置用于在至少兩個(gè)自由度上移動(dòng)所述致動(dòng)器和所述透 鏡陣列。

17.根據(jù)權(quán)利要求13-16中任一項(xiàng)所述的裝置，包括具有所述透鏡 的結(jié)構(gòu)和圍繞所述結(jié)構(gòu)的框架，所述框架包括可移動(dòng)地將所述結(jié)構(gòu)連接 至所述框架的安裝件。

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的裝置，其中，所述致動(dòng)器被配置用于 將所述結(jié)構(gòu)相對(duì)于所述框架移位。

19.根據(jù)權(quán)利要求10-18中任一項(xiàng)所述的裝置，還包括控制器，所 述控制器被配置用于將脈沖信號(hào)提供至所述多個(gè)垂直外腔表面發(fā)射激光 器或垂直腔表面發(fā)射激光器，以調(diào)制所述多個(gè)垂直外腔表面發(fā)射激光器 或垂直腔表面發(fā)射激光器。

20.一種光刻系統(tǒng)，包括多個(gè)光刻設(shè)備，所述多個(gè)光刻設(shè)備中的至 少一個(gè)光刻設(shè)備被布置在所述多個(gè)光刻設(shè)備中的另一光刻設(shè)備上方。