[發(fā)明專利]超聲波探頭、超聲波處理器具及處理系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201480053226.6
• 申請(qǐng)日: 2014-09-25
• 公開（公告）號(hào): CN105578977A
• 公開（公告）日: 2016-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 谷內(nèi)千恵;石川學(xué);植田莊平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 奧林巴斯株式會(huì)社
• 主分類號(hào): A61B18/00
• 分類號(hào): A61B18/00
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會(huì)華

1.一種超聲波探頭，其中，該超聲波探頭包括：

探頭主體，其沿著長(zhǎng)度軸線延伸設(shè)置，并從基端方向向頂端方向傳遞超 聲波振動(dòng)；以及

處理部，其設(shè)于所述探頭主體的所述頂端方向側(cè)，并使用經(jīng)由所述探頭 主體傳遞來的超聲波振動(dòng)進(jìn)行處理對(duì)象的處理，該處理部包括：

暴露表面，其暴露于外部；

接觸部，其設(shè)于所述暴露表面，利用傳遞來的所述超聲波振動(dòng)，一 邊從與所述處理對(duì)象相接觸的狀態(tài)向朝向所述處理對(duì)象的內(nèi)部的侵入 方向侵入，一邊對(duì)所述處理對(duì)象進(jìn)行處理；以及

標(biāo)識(shí)部，其在所述暴露表面上設(shè)置在比所述接觸部靠與所述侵入方 向相反的方向側(cè)的位置，并且成為表示所述接觸部相對(duì)于所述處理對(duì)象 向所述侵入方向侵入的侵入量的標(biāo)識(shí)，該標(biāo)識(shí)部具有在所述侵入方向上 排列設(shè)置的多個(gè)標(biāo)識(shí)面，所述標(biāo)識(shí)面相對(duì)于相鄰的所述標(biāo)識(shí)面分別使相 對(duì)于所述侵入方向的角度不同。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波探頭，其中，

所述標(biāo)識(shí)部在所述處理部的所述暴露表面上設(shè)于朝向與所述侵入方向 垂直的方向之一的部位。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲波探頭，其中，

在將與所述長(zhǎng)度軸線垂直的方向的一方向設(shè)為第1垂直方向、將與所述 第1垂直方向相反的方向設(shè)為第2垂直方向的情況下，所述接觸部位于比所述 長(zhǎng)度軸線靠所述第1垂直方向側(cè)的位置，

所述接觸部的所述侵入方向與所述第1垂直方向一致，

所述標(biāo)識(shí)部設(shè)于比所述接觸部靠所述第2垂直方向側(cè)的位置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的超聲波探頭，其中，

所述處理部具有彎曲突出部，該彎曲突出部通過相對(duì)于所述長(zhǎng)度軸線向 所述第1垂直方向彎曲而朝向所述第1垂直方向突出，

所述處理部的所述暴露表面具有第1彎曲暴露部，該第1彎曲暴露部在所 述彎曲突出部上朝向所述頂端方向，并形成所述處理部的頂端，

所述接觸部位于作為所述彎曲突出部的所述第1垂直方向側(cè)的端的突出 端，

所述標(biāo)識(shí)部設(shè)于比所述突出端靠所述第2垂直方向側(cè)的位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的超聲波探頭，其中，

在將與所述長(zhǎng)度軸線垂直、并且與所述第1垂直方向和所述第2垂直方向 垂直的兩個(gè)方向設(shè)為第3垂直方向和第4垂直方向的情況下，所述處理部的所 述暴露表面包括在所述彎曲突出部中朝向所述基端方向的第2彎曲暴露部、 在所述彎曲突出部中朝向所述第3垂直方向的第3彎曲暴露部以及在所述彎 曲突出部中朝向所述第4垂直方向的第4彎曲暴露部，

所述標(biāo)識(shí)部設(shè)于所述第1彎曲暴露部、所述第2彎曲暴露部、所述第3彎 曲暴露部以及所述第4彎曲暴露部中的至少一者上。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的超聲波探頭，其中，

所述處理部沿著所述長(zhǎng)度軸線不彎曲地延伸設(shè)置，

所述處理部的所述暴露表面包括在所述處理部的外周上朝向所述第1垂 直方向的第1外周暴露部、在所述處理部的所述外周上朝向所述第2垂直方向 的第2外周暴露部以及在所述第1外周暴露部與所述第2外周暴露部之間沿著 所述第1垂直方向和所述第2垂直方向連續(xù)地延伸設(shè)置的中繼暴露部，

所述處理部具有孔限定面，該孔限定面限定在位于所述第1外周暴露部 的第1開口端開口的開口孔，并從所述第1開口端朝向所述第2垂直方向延伸 設(shè)置，

所述接觸部位于所述開口孔的所述第1開口端，

所述標(biāo)識(shí)部設(shè)于所述中繼暴露部。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的超聲波探頭，其中，

所述開口孔在位于所述第2外周暴露部的第2開口端開口，在所述第1開 口端與所述第2開口端之間沿著所述第1垂直方向和所述第2垂直方向貫穿所 述處理部，

所述中繼暴露部包括位于所述開口孔的外部的外側(cè)中繼部和作為所述 孔限定面限定所述開口孔的內(nèi)側(cè)中繼部。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的超聲波探頭，其中，

該超聲波探頭還具有通路，該通路經(jīng)由所述探頭主體的內(nèi)部沿著所述長(zhǎng) 度軸線延伸設(shè)置，并與所述開口孔相連通。