[發(fā)明專利]成膜掩模、成膜裝置、成膜方法以及觸摸面板基板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480049663.0 | 申請日: | 2014-09-09 |
| 公開(公告)號: | CN105531394B | 公開(公告)日: | 2019-04-30 |
| 發(fā)明(設計)人: | 杉本重人 | 申請(專利權)人: | 株式會社V技術 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;G06F3/041 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227 | 代理人: | 李洋;青煒 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 成膜掩模 裝置 方法 以及 觸摸 面板 | ||
1.一種成膜掩模,其特征在于,構成為具備:
第一掩模,其構成為將在一面的周邊區(qū)域形成由獨立的多個圖案構成的金屬薄膜、并形成有與在基板上成膜的薄膜圖案相同的形狀尺寸的多個第一開口圖案的樹脂制薄膜,通過將所述金屬薄膜點焊于金屬框架從而固定于所述金屬框架;以及
第二掩模,其設置于所述第一掩模的所述樹脂制薄膜的另一面?zhèn)龋纬膳c上述多個第一開口圖案一一對應的大小的第二開口圖案,并以相對于所述第一掩模成為非約束狀態(tài)的方式與之重疊。
2.根據(jù)權利要求1所述的成膜掩模,其特征在于,
在上述第一掩模,與上述第一開口圖案獨立地設置了用于測量上述第二掩模的變形量的貫通的開口部。
3.一種成膜裝置,其特征在于,
在成膜室內(nèi),構成為具備:
掩模支架,其以具備第一掩模和第二掩模的成膜掩模中的所述第一掩模成為基板側的方式進行保持,并且所述第一掩模和所述第二掩模以在兩者間成為非約束狀態(tài)的方式重疊,所述第一掩模構成為將在一面的周邊區(qū)域形成由獨立的多個圖案構成的金屬薄膜、并形成有與在基板上成膜的薄膜圖案相同的形狀尺寸的多個第一開口圖案的樹脂制薄膜,通過將所述金屬薄膜點焊于金屬框架從而固定于所述金屬框架,所述第二掩模設置于該第一掩模的所述樹脂制薄膜的另一面?zhèn)龋纬闪伺c上述多個第一開口圖案一一對應的大小的第二開口圖案;以及
掩模加載機構,其使上述掩模支架移動并使上述第一掩模的所述樹脂制薄膜緊貼于被基板支架保持的上述基板的成膜面。
4.根據(jù)權利要求3所述的成膜裝置,其特征在于,
上述基板是透明基板,
上述第一掩模的所述樹脂制薄膜與上述第一開口圖案獨立地設置用于測量上述第二掩模的變形量的貫通的開口部,
上述基板支架內(nèi)置有用于通過上述第一掩模的所述樹脂制薄膜的上述開口部來測量上述第二掩模的上述基板側的面的位置的第一傳感器、以及用于測量上述第一掩模的所述樹脂制薄膜的上述基板側的面的位置的第二傳感器。
5.根據(jù)權利要求3或4所述的成膜裝置,其特征在于,
設置了通過閘閥與上述成膜室分隔并能夠抽真空的前室。
6.一種成膜方法,其特征在于,進行以下步驟:
使具備第一掩模和第二掩模的成膜掩模中的上述第一掩模的樹脂制薄膜緊貼于基板的成膜面的第一步驟,其中,上述第一掩模和上述第二掩模以在兩者間成為非約束狀態(tài)的方式重疊,并且上述第一掩模構成為將在一面的周邊區(qū)域形成由獨立的多個圖案構成的金屬薄膜、并形成有與在基板上成膜的薄膜圖案相同的形狀尺寸的多個第一開口圖案的所述樹脂制薄膜,通過將所述金屬薄膜點焊于金屬框架從而固定于所述金屬框架,上述第二掩模設置于該第一掩模的所述樹脂制薄膜的另一面?zhèn)龋纬闪伺c上述多個第一開口圖案一一對應的大小的第二開口圖案;
經(jīng)由上述第一掩模的上述第一開口圖案在上述基板的成膜面成膜上述薄膜圖案的第二步驟;以及
對多個基板實施了上述第一以及第二步驟后,從上述第一掩模剝離上述第二掩模的第三步驟。
7.根據(jù)權利要求6所述的成膜方法,其特征在于,
上述第三步驟利用在透明的上述基板的與上述成膜面相反的一側具備的第一傳感器,通過在上述第一掩模的所述樹脂制薄膜與上述第一開口圖案獨立地形成的開口部來測量上述第二掩模的上述基板側的面的位置,利用與上述第一傳感器鄰接地具備的第二傳感器測量上述第一掩模的所述樹脂制薄膜的上述基板側的面的位置,若基于兩個測量值計算出的上述第二掩模的變形量超過預先決定的值則從上述第一掩模剝離上述第二掩模。
8.根據(jù)權利要求6或7所述的成膜方法,其特征在于,
上述薄膜圖案是被形成在透明的玻璃基板上的透明導電膜。
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