[發(fā)明專利]復(fù)合陶瓷研磨拋光液

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480049117.7
• 申請日: 2014-09-22
• 公開（公告）號: CN105517758B
• 公開（公告）日: 2020-03-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: P·S·拉格;D·K·勒胡
• 申請（專利權(quán)）人: 3M創(chuàng)新有限公司
• 主分類號: B24B7/20
• 分類號: B24B7/20;B24D3/10;B24D3/18
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 牛海軍

1.一種拋光液，包含：

流體組分；和

多種陶瓷磨料復(fù)合物，所述陶瓷磨料復(fù)合物包含均勻地分散在整個多孔陶瓷基體上的單獨(dú)的磨料顆粒；

其中所述多孔陶瓷基體的至少一部分包含玻璃陶瓷材料；

其中所述陶瓷磨料復(fù)合物分散在所述流體組分中；并且

其中所述流體組分以至少50重量％的量包含非水性流體，并且非水性流體組分包含乙二醇、丙二醇、甘油或乙二醇的低聚物。

2.一種拋光液，包含：

流體組分；和

多種陶瓷磨料復(fù)合物，所述陶瓷磨料復(fù)合物包含分散在多孔陶瓷基體中的單獨(dú)的磨料顆粒；

其中所述陶瓷磨料復(fù)合物中的多孔陶瓷基體的量介于所述多孔陶瓷基體和所述單獨(dú)的磨料顆粒的總重量的5重量百分比和95重量百分比之間；

其中所述多孔陶瓷基體的至少一部分包含玻璃陶瓷材料；

其中所述陶瓷磨料復(fù)合物分散在所述流體組分中；并且

其中所述流體組分以至少50重量％的量包含非水性流體，并且非水性流體組分包含乙二醇、丙二醇、甘油或乙二醇的低聚物。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的拋光液，其中所述陶瓷磨料復(fù)合物具有4％至70％的范圍內(nèi)的孔內(nèi)容積。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的拋光液，其中所述磨料顆粒包括金剛石、立方氮化硼、陶瓷氧化鋁、加熱處理的氧化鋁、碳化硅、碳化硼、氧化鋁氧化鋯、氧化鐵、二氧化鈰、或石榴石。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的拋光液，其中所述磨料顆粒包括金剛石。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的拋光液，其中所述陶瓷磨料復(fù)合物具有小于500微米的平均顆粒尺寸。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的拋光液，其中所述陶瓷磨料復(fù)合物的平均尺寸為所述磨料顆粒的平均尺寸的至少5倍。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的拋光液，其中所述多孔陶瓷基體包含玻璃，所述玻璃包含氧化鋁、氧化硼、氧化硅、氧化鎂、氧化鈉、氧化錳或氧化鋅。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的拋光液，其中所述流體組分中的所述磨料復(fù)合物的濃度介于0.065重量％和6.5重量％之間。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的拋光液，其中所述多孔陶瓷基體包含至少50重量％的玻璃陶瓷材料。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的拋光液，其中所述多孔陶瓷基體基本上由玻璃陶瓷材料組成。

12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的拋光液，其中所述磨料顆粒包括熔融氧化鋁。

13.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的拋光液，其中所述流體組分中的所述磨料復(fù)合物的濃度介于2重量％和6.5重量％之間。

14.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的拋光液，其中所述陶瓷磨料復(fù)合物具有介于5微米和200微米之間的平均顆粒尺寸。

15.一種拋光基板的方法，所述方法包括：

提供拋光墊；

提供具有待拋光的主表面的基板；以及

在存在所述拋光墊與所述基板之間的相對運(yùn)動時，使所述表面與所述拋光墊和根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的拋光液接觸。

16.一種拋光系統(tǒng)，包括拋光墊和根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的拋光液。