[發(fā)明專利]發(fā)光裝置用基板、發(fā)光裝置、以及發(fā)光裝置用基板的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480048564.0 | 申請日: | 2014-07-25 |
| 公開(公告)號: | CN105518883B | 公開(公告)日: | 2018-09-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 小西正宏;伊藤晉 | 申請(專利權(quán))人: | 夏普株式會社 |
| 主分類號: | H01L33/60 | 分類號: | H01L33/60;C25D11/04;H01L33/62 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 吳秋明 |
| 地址: | 日本國大阪府大阪*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 裝置 用基板 以及 制造 方法 | ||
1.一種發(fā)光裝置用基板,在由鋁構(gòu)成的基體上形成有使來自發(fā)光元件的光反射的絕緣性的反射層,其特征在于,
所述基體的形成有所述反射層的面以外的面被鋁的陽極氧化覆膜覆蓋,
與所述發(fā)光元件的電極電連接的電極圖案埋設(shè)于所述反射層中,
所述電極圖案的端子部在所述反射層的表面露出。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置用基板,其特征在于,
所述反射層由陶瓷與玻璃的混合物、陶瓷與樹脂的混合物、或者陶瓷構(gòu)成。
3.一種發(fā)光裝置用基板,在由鋁構(gòu)成的基體上形成有使來自發(fā)光元件的光反射的絕緣性的反射層,其特征在于,
所述基體的形成有所述反射層的面以外的面被鋁的陽極氧化覆膜覆蓋,
導(dǎo)熱率比所述反射層高的絕緣性的導(dǎo)熱層介于所述基體與所述反射層之間,
與所述發(fā)光元件的電極電連接的電極圖案埋設(shè)于所述反射層中,并且在所述導(dǎo)熱層上與所述導(dǎo)熱層接觸或者埋設(shè)于所述導(dǎo)熱層,
所述電極圖案的端子部在所述反射層的表面露出。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光裝置用基板,其特征在于,
所述反射層由陶瓷與玻璃的混合物、陶瓷與樹脂的混合物、或者陶瓷構(gòu)成。
5.一種發(fā)光裝置,其特征在于,
在權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置用基板上具備發(fā)光元件。
6.一種發(fā)光裝置,其特征在于,
在權(quán)利要求2所述的發(fā)光裝置用基板上具備發(fā)光元件。
7.一種發(fā)光裝置,其特征在于,
在權(quán)利要求3所述的發(fā)光裝置用基板上具備發(fā)光元件。
8.一種發(fā)光裝置用基板的制造方法,其特征在于,包括:
反射層形成工序,在由鋁構(gòu)成的基體上形成絕緣性的反射層;
覆膜形成工序,在所述基體的形成有所述反射層的面以外的面上形成鋁的陽極氧化覆膜;
導(dǎo)電層形成工序,在所述反射層上形成導(dǎo)電層;和
電極圖案形成工序,在所述導(dǎo)電層上形成電極圖案,
在所述反射層形成工序中,在所述基體上涂敷包含陶瓷的粒子以及玻璃原料的涂料,通過溶膠凝膠法從該玻璃原料合成玻璃,從而形成由陶瓷與玻璃的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述反射層。
9.一種發(fā)光裝置用基板的制造方法,其特征在于,包括:
導(dǎo)熱層形成工序,在由鋁構(gòu)成的基體上形成絕緣性的導(dǎo)熱層;
反射層形成工序,在所述導(dǎo)熱層上形成絕緣性的反射層;
覆膜形成工序,在所述基體的形成有所述導(dǎo)熱層的面以外的面上形成鋁的陽極氧化覆膜;
導(dǎo)電層形成工序,在所述反射層上或者所述反射層中形成導(dǎo)電層;和
電極圖案形成工序,在所述導(dǎo)電層上形成電極圖案,
在所述反射層形成工序中,
將包含陶瓷的粒子以及玻璃原料的涂料涂敷于成為所述反射層的底層的層,通過溶膠凝膠法從該玻璃原料合成玻璃,從而形成由陶瓷與玻璃的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述反射層,或者,
將包含陶瓷的粒子以及樹脂的涂料涂敷于成為所述反射層的底層的層,進(jìn)行固化,從而形成由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述反射層,或者,
將陶瓷的粒子高速地噴射至成為所述反射層的底層的層,從而形成陶瓷的沉積層作為所述反射層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的發(fā)光裝置用基板的制造方法,其特征在于,
在將由陶瓷與樹脂的混合物構(gòu)成的陶瓷層作為所述反射層來使用的情況下,所述覆膜形成工序在所述導(dǎo)熱層形成工序之后且在所述反射層形成工序之前進(jìn)行。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于夏普株式會社,未經(jīng)夏普株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201480048564.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:發(fā)光裝置及其制造方法
- 下一篇:發(fā)光元件
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





