[發明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法和磁盤的制造方法

有效

• 申請號: 201480047898.6
• 申請日: 2014-08-31
• 公開（公告）號: CN105493184B
• 公開（公告）日: 2019-06-04
• 發明（設計）人: 德光秀造;長大介;田本宏一;飯泉京介
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84;B08B3/08;C03C19/00;C03C23/00;C11D3/26;C11D7/32
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 龐東成;褚瑤楊

本發明提供一種在清洗處理后可得到高平滑表面的磁盤用玻璃基板的制造方法。在本發明中，在玻璃基板的鏡面研磨后，在使堿性的清洗液與玻璃基板的表面接觸而進行清洗的清洗處理中，清洗液含有下述通式I的有機堿，在抑制清洗液中所含有的鈉離子和鉀離子的含量的同時進行清洗處理。通式I：[(R)₄N]⁺OH^?(其中，R表示烷基，與N原子鍵合的4個烷基之中的至少一個烷基具有一個以上的羥基(OH基))。

技術領域

本發明涉及硬盤驅動器(HDD)等磁盤裝置中搭載的磁盤用玻璃基板的制造方法和磁盤的制造方法。

背景技術

作為硬盤驅動器(HDD)等磁盤裝置中搭載的信息記錄介質的一種，存在有磁盤。磁盤是通過在基板上形成磁性層等薄膜而構成的，作為該基板，以往一直使用鋁基板。但是，最近，隨著記錄的高密度化的要求，與鋁基板相比玻璃基板能夠使磁頭與磁盤的間隔變得更窄，因此玻璃基板所占的比例逐漸提高。另外，對玻璃基板表面高精度地進行研磨以使磁頭的懸浮高度盡量下降，由此實現記錄的高密度化。近年來，對于HDD的進一步大記錄容量化的要求始終在提高，為了實現該要求，對于磁盤用玻璃基板也需要進一步的高品質化，要求更平滑且更潔凈的玻璃基板表面。

為了實現如上所述的記錄的高密度化所需要的低飛行高度(懸浮量)，磁盤表面必須具有高平滑性。為了得到磁盤表面的高平滑性，結果就要求高平滑性的基板表面，因此，需要對玻璃基板表面高精度地進行研磨，但僅僅如此是不夠的，還需要通過研磨后的清洗將基板表面的附著異物去除而得到潔凈的基板表面。

作為現有的方法，通常的方法是例如像專利文獻1中公開的那樣，在研磨后利用將NaOH、KOH等無機堿劑溶解于水而成的清洗液對基板進行清洗。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2010-86563號公報

發明內容

發明所要解決的課題

現在的HDD已經達到了能夠實現每1平方英寸約500千兆字節的記錄密度的程度，例如1片2.5英寸型(直徑65mm)的磁盤能夠收納約320千兆字節的信息，但還要求實現進一步的記錄的高密度化、例如375～500千兆字節、甚至1太字節。伴隨著這種近年來的HDD的大容量化的要求，提高基板表面品質的要求變得比迄今為止更加嚴格。對于面向如上所述的例如375～500千兆字節的磁盤的下一代基板而言，基板對介質特性的影響增大，因此不僅要求改善基板表面的粗糙度，對于不存在由異物附著等導致的表面缺陷的方面，也要求在現有品的水平上進行進一步的改善。

下一代基板中基板對介質特性的影響增大的理由如下所述。

可以舉出磁頭的懸浮量(磁頭與介質(磁盤)表面的間隙)的大幅降低(低懸浮量化)這樣的理由。由此，磁頭與介質的磁性層的距離接近，因此能夠拾取更小的磁性顆粒的信號，能夠實現記錄的高密度化。近年來，為了實現現有水平以上的低懸浮量化，在磁頭上搭載了DFH(Dynamic Flying Height，動態飛行高度)這樣的功能。該功能是在磁頭的記錄再現元件部的附近設置極小的加熱器等加熱部、從而僅使記錄再現元件部周邊朝向介質表面方向突出的功能。今后，利用該DFH功能，磁頭的元件部與介質表面的間隙可望極度減小至小于2nm或小于1nm。在這樣的狀況下，極度減小了基板表面的平均粗糙度，結果，若存在由于以往不成為問題的極小的異物(例如主表面的面內方向的長度為10～40nm左右的小異物)的附著等而略微形成凸狀的程度的表面缺陷，則會直接在介質表面形成凸狀缺陷，因此磁頭碰撞的危險性增高。

根據本發明人的研究得知，即使使用以上述專利文獻1所公開的方法為代表的現有的各種精密研磨技術、精密清洗技術或者將它們組合使用，也無法兼顧清洗后的低粗糙度和高潔凈度。