[發(fā)明專利]磁盤用玻璃基板的制造方法和磁盤的制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201480047898.6
• 申請日: 2014-08-31
• 公開（公告）號: CN105493184B
• 公開（公告）日: 2019-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 德光秀造;長大介;田本宏一;飯泉京介
• 申請（專利權(quán)）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G11B5/84
• 分類號: G11B5/84;B08B3/08;C03C19/00;C03C23/00;C11D3/26;C11D7/32
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 龐東成;褚瑤楊

1.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，其包括使堿性的清洗液與研磨成鏡面的玻璃基板的表面接觸而進(jìn)行清洗的清洗處理，其特征在于，

所述玻璃基板在玻璃成分中含有鈉和鉀中的至少一種成分，

所述清洗處理中使用的清洗液含有由下述通式I表示的有機(jī)堿，在所述清洗處理中，在通過添加捕捉堿金屬離子的螯合劑、水稀釋或更換清洗液來抑制從所述玻璃基板溶出的鈉離子或鉀離子所導(dǎo)致的清洗液中所含有的鈉離子和鉀離子的含量的增加的同時進(jìn)行所述清洗處理，

通式I

[(R)₄N]⁺OH^-

其中，R表示烷基，與N原子鍵合的4個烷基之中的至少一個烷基具有一個以上的羥基(OH基)，

在所述有機(jī)堿中，與N原子鍵合的4個R之中的至少一個R為在未與N原子鍵合的一側(cè)的末端具有羥基的直鏈烷基，所述在未與N原子鍵合的一側(cè)的末端具有羥基的直鏈烷基為在N原子與羥基之間具有2個以上的碳原子的直鏈烷基。

2.如權(quán)利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在將所述清洗液中的鈉離子和鉀離子的總量抑制為4毫摩爾/升以下的同時進(jìn)行所述清洗處理。

3.如權(quán)利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗處理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)與即將進(jìn)行所述清洗處理之前的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)之差為0.05nm以內(nèi)。

4.如權(quán)利要求1所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗處理是在使用含有二氧化硅研磨磨粒的調(diào)節(jié)至酸性范圍的研磨液對所述玻璃基板的主表面進(jìn)行研磨的研磨工序之后進(jìn)行的清洗處理。

5.一種磁盤用玻璃基板的制造方法，其包括使堿性的清洗液與研磨成鏡面的玻璃基板的表面接觸而進(jìn)行清洗的清洗處理，其特征在于，

所述玻璃基板在玻璃成分中含有鈉和鉀中的至少一種成分，

所述清洗處理中使用的清洗液含有由下述通式I表示的有機(jī)堿，在所述清洗處理中，在通過添加捕捉堿金屬離子的螯合劑、水稀釋或更換清洗液來抑制從所述玻璃基板溶出的鈉離子或鉀離子所導(dǎo)致的清洗液中所含有的鈉離子和鉀離子的含量的增加的同時進(jìn)行所述清洗處理，

所述清洗液進(jìn)一步含有選自N,N’-四甲基乙二胺和N,N’-四甲基乙二胺的衍生物中的至少一種，

通式I

[(R)₄N]⁺OH^-

其中，R表示烷基，與N原子鍵合的4個烷基之中的至少一個烷基具有一個以上的羥基(OH基)。

6.如權(quán)利要求5所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在將所述清洗液中的鈉離子和鉀離子的總量抑制為4毫摩爾/升以下的同時進(jìn)行所述清洗處理。

7.如權(quán)利要求5所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗處理后的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)與即將進(jìn)行所述清洗處理之前的玻璃基板主表面的表面粗糙度(Ra)之差為0.05nm以內(nèi)。

8.如權(quán)利要求5所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗處理是在使用含有二氧化硅研磨磨粒的調(diào)節(jié)至酸性范圍的研磨液對所述玻璃基板的主表面進(jìn)行研磨的研磨工序之后進(jìn)行的清洗處理。