[發(fā)明專利]用于3D多尺度顯微術(shù)的具有集成微鏡的微構(gòu)造表面在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201480047452.3 | 申請(qǐng)日: | 2014-08-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105556280A | 公開(公告)日: | 2016-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 維爾日勒·尼古拉斯·羅伯特·維亞諾夫;文森特·斯蒂德;詹盧卡·格倫奇;雷米·加朗;讓-巴蒂斯特·西巴里塔 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 新加坡國立大學(xué);國家科學(xué)研究中心 |
| 主分類號(hào): | G01N21/03 | 分類號(hào): | G01N21/03;G02B21/06;B01L3/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡勝有;鄭毅 |
| 地址: | 新加坡*** | 國省代碼: | 新加坡;SG |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 尺度 顯微 具有 集成 構(gòu)造 表面 | ||
1.一種用于對(duì)樣品或樣品的子組分進(jìn)行橫向照明的樣品保持裝置, 包括:支撐基底,所述支撐基底包括適于容納所述樣品并且與所述樣品匹 配的樣品孔,其中,所述孔設(shè)置在具有與所述樣品孔相鄰的成角度反射表 面的至少一個(gè)壁上,所述成角度反射表面在使用時(shí)引導(dǎo)來自光源的橫向光 束通過所述樣品孔中所容納的樣品,以向所述樣品孔中容納的樣品提供基 本橫向的照明,以及使用單個(gè)物鏡對(duì)所述樣品進(jìn)行成像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述孔包括兩個(gè)成角度的反射 表面,其中所述表面基本彼此相對(duì)地布置并且限定其中放置所述樣品的空 間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述孔是包括兩個(gè)成角度反射 表面的通道,其中所述表面基本彼此相對(duì)地布置并且限定其中放置所述樣 品的空間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的裝置,其中所述第一成角度 的反射表面和/或所述第二成角度的反射表面的角度在20°+/-5%至 80°+/-5%之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置,其中所述成角度反射表面在 44°+/-5%至46°+/-5%之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置,其中所述成角度反射表面的角度為 45°+/-5%。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的裝置,其中所述反射表面設(shè) 置為在一個(gè)或更多個(gè)所述成角度表面的全部或部分上的金屬沉積物。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其中所述反射表面包含金。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其中所述反射表面包含鉻。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其中所述反射表面包含所沉積的金 屬的混合物。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置,其中所述混合物包含鉻和金。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的裝置,其中所述支撐基底 為全部不透明或部分不透明的。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的裝置,其中所述支撐基底 為全部透明或部分透明的。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的裝置,其中所述支撐基底 是至少包含第一部分和第二部分的復(fù)合物,所述第一部分和第二部分至少 包含第一聚合物和第二聚合物,其中所述第一部分形成所述支撐基底的主 體并包含所述第一聚合物,所述第二部分形成樣品孔并包含所述第二聚合 物。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置,其中在與所述第二部分比較時(shí), 所述第一部分具有較高的反射率。
16.根據(jù)權(quán)利要求14或15中任一項(xiàng)所述的裝置,其中所述成角度反 射表面不包含所沉積的反射金屬化表面,并且光片通過全內(nèi)反射傳播。
17.根據(jù)權(quán)利要求15或16所述的裝置,其中所述第一部分的反射率 在1.40+/-5%與1.59+/-5%之間。
18.根據(jù)權(quán)利要求15至17中任一項(xiàng)所述的裝置,其中所述第二部分 的折射率為1.33+/-5%。
19.根據(jù)權(quán)利要求1至18中任一項(xiàng)所述的裝置,其中所述樣品包含 一個(gè)或更多個(gè)細(xì)胞。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的裝置,其中所述一個(gè)或更多個(gè)細(xì)胞是活 的。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的裝置,其中所述一個(gè)或更多個(gè)細(xì)胞是經(jīng) 固定的。
22.根據(jù)權(quán)利要求1至21中任一項(xiàng)所述的裝置,其中所述裝置包括 多個(gè)樣品孔,所述多個(gè)樣品孔具有相似或相同的尺寸并按陣列布置,并且 適于對(duì)所述樣品孔中所容納的樣品依次或同時(shí)進(jìn)行分析。
23.根據(jù)權(quán)利要求1至22中任一項(xiàng)所述的裝置,其中所述裝置由UV 可固化聚合物制造。
24.根據(jù)權(quán)利要求1至22中任一項(xiàng)所述的裝置,其中所述裝置由基 于丙烯酸酯的聚合物制造。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





