[發(fā)明專利]等離子焊炬有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480045644.0 | 申請日： | 2014-08-18 |
| 公開（公告）號： | CN105474759B | 公開（公告）日： | 2018-11-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 木元亮介;本山昌利;飯塚哲也;神田晉;坂本克彥;古城昭;坂井大司 | 申請（專利權(quán)）人： | 小池酸素工業(yè)株式會社 |
| 主分類號： | H05H1/34 | 分類號： | H05H1/34;B23K10/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 張剛 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 等離子 | ||
1.一種等離子焊炬，其特征在于，
所述等離子焊炬具有：噴嘴，在該噴嘴的中心形成有噴射等離子弧的噴射孔，并且該噴嘴形成有冷卻水的環(huán)狀通路和與該環(huán)狀通路連通的多個獨立的水路；以及焊炬主體，其形成有供用于冷卻所述噴嘴的冷卻水流通的多個水路，
所述噴嘴具有噴射等離子弧的內(nèi)噴嘴、以及與該內(nèi)噴嘴一起緊固于焊炬主體的內(nèi)帽，
在所述內(nèi)噴嘴嵌合于所述內(nèi)帽時，在所述內(nèi)噴嘴與所述內(nèi)帽之間形成所述環(huán)狀通路，并且利用在所述內(nèi)噴嘴的外側(cè)與所述內(nèi)噴嘴一體形成的多個間隔件而形成與該環(huán)狀通路連通的多個獨立的水路，并且，所述內(nèi)帽緊固于焊炬主體時的緊固力能夠通過所述內(nèi)帽與所述間隔件的一端接觸而從內(nèi)噴嘴經(jīng)由所述間隔件而傳遞至焊炬主體，
所述焊炬主體具有與任一水路連接且向所述噴嘴供給冷卻水的供給口、以及與任一水路連接且將通過了所述噴嘴的冷卻水排出的排水口，
所述供給口及排水口形成于具有導(dǎo)電性的噴嘴臺的端面，并且利用槽構(gòu)成該供給口及排水口或者供給口與排水口中的任一者，該槽與水路連接且在與該水路的軸心交叉的方向上的面內(nèi)延長，并且，所述供給口及排水口的槽彼此的端部的圓周上的間隔、或者任一者的槽的端部與供給口或排水口的端部之間的圓周上的間隔具有大于形成于噴嘴且用于形成獨立的水路的間隔件的圓周上的間距的尺寸，
在所述噴嘴緊固于焊炬主體時，形成于該噴嘴的任一獨立的水路與所述供給口連通，任一獨立的水路與所述排水口連通，并且構(gòu)成該噴嘴的內(nèi)噴嘴的間隔件側(cè)的端面與所述噴嘴臺的端面抵接而能夠通電。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于小池酸素工業(yè)株式會社，未經(jīng)小池酸素工業(yè)株式會社許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201480045644.0/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
