[發明專利]用于在反應室中合成聚合物同時減少沉積物形成的設備

有效

• 申請號: 201480044244.8
• 申請日: 2014-06-11
• 公開（公告）號: CN105555397B
• 公開（公告）日: 2017-07-14
• 發明（設計）人: 朱寧;A·斯坦默;J·克勞斯;U·威特;G·科里;S·比達塞克
• 申請（專利權）人: 巴斯夫歐洲公司
• 主分類號: B01J19/00
• 分類號: B01J19/00;B01J19/18;C08G69/00;B01J19/20;B01J4/00
• 代理公司: 北京北翔知識產權代理有限公司11285
• 代理人: 隋丹丹,鐘守期

1.一種在裝置中合成聚合物同時分離氣態物質的連續方法，所述裝置包括

-反應空間(1)，其包括基本上為圓柱形的上部(11)，以及下部(12)，所述上部(11)被兩個圓形表面(111，112)和一個殼體表面(113)所界定并具有縱向柱軸線，所述上部(11)和所述下部(12)通過第一圓形表面(111)彼此連接，

-進料口(2)，其設置在殼體表面(113)中，或者，進料口(2)通過入口管線(21)與上部(11)的第二圓形表面(112)連接，第一移除裝置(51)具有引導入口管線(21)穿過的孔口，

使得在兩種情況下能夠通過進料口(2)沿著殼體表面(113)向上部(11)中切向引入液體，

-第一排料口(3)，其設置在下部(12)的壁中，

-第二排料口(4)，其設置在第二圓形表面(112)中或進料口(2)與第二圓形表面(112)之間的殼體表面(113)中，和

-至少一個第一移除裝置(51)，其被設置成可沿著至少第二圓形表面(112)與進料口(2)之間的縱向柱軸線移動并與殼體表面(113)接觸，

所述連續方法具有下列方法步驟：

a)通過與上部(11)的殼體表面(113)相切的進料口(2)，將預聚物熔體(7)進料至反應空間(1)的圓柱形的上部(11)中，

b)使所述預聚物熔體(7)聚合以形成聚合物熔體(8)，

c)通過反應空間(1)的第一排料口(3)，從反應空間(1)中移除聚合物熔體(8)，以及

d)通過進料口(2)上方的反應空間(1)的第二排料口(4)，從反應空間(1)中移除氣態物質(9)，

其中通過至少第一移除裝置(51)移除進料口(2)上方的反應空間(1)的上部(11)的至少一個內壁上的沉積物。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述第一移除裝置(51)繞上部(11)的縱向柱軸線轉動。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述第二排料口(4)與出口管線(41)連接，在所述出口管線(41)中設置有第二移除裝置(52)，其被設置成可沿著出口管線(41)移動并與出口管線(41)的內表面接觸。

4.根據權利要求1或2所述的方法，其中下部(12)的橫截面從上部(11)朝向第一排料口(3)遞減。

5.根據權利要求1或2所述的方法，其中聚合物熔體(8)移向第一排料口(3)的速度隨著與第一排料口(3)的距離的降低而增加。

6.根據權利要求5所述的方法，其中通過輸送裝置(6)將聚合物熔體(8)輸送至第一排料口(3)。

7.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述聚合物為熱塑性聚合物。

8.根據權利要求7所述的方法，其中所述聚合物選自聚酰胺、熱塑性聚氨酯、聚烯烴、乙烯基芳族聚合物、聚酯、聚縮醛、聚碳酸酯、聚砜，及其混合物。

9.根據權利要求8所述的方法，其中所述聚合物為聚醚砜。

10.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述聚合物為聚酰胺且所述氣態物質為水蒸汽。

11.根據權利要求1或2所述的方法，其中所述聚合物為半芳族聚酰胺，所述半芳族聚酰胺包含至少一個具有芳族基團的重復單元和至少一個具有結合形式的脂族基團或脂環族基團的重復單元。

12.根據權利要求7所述的方法，其中所述聚合物為選自以下的聚酰胺：

PA 6.T、PA 9.T、PA8.T、PA 10.T、PA 12.T、PA 6.I、PA 8.I、PA 9.I、PA 10.I、PA 12.I、PA 6.T/6、PA 6.T/10、PA 6.T/12、PA 6.T/6.I、PA6.T/8.T、PA 6.T/9.T、PA 6.T/10T、PA 6.T/12.T、PA 12.T/6.T、PA 6.T/6.I/6、PA 6.T/6.I/12、PA 6.T/6.I/6.10、PA 6.T/6.I/6.12、PA 6.T/6.6、A 6.T/6.10、PA 6.T/6.12、PA 10.T/6、PA 10.T/11、PA 10.T/12、PA 8.T/6.T、PA 8.T/66、PA 8.T/8.I、PA 8.T/8.6、PA 8.T/6.I、PA 10.T/6.T、PA 10.T/6.6、PA 10.T/10.I、PA 10T/10.I/6.T、PA 10.T/6.I、PA 4.T/4.I/46、PA 4.T/4.I/6.6、PA 5.T/5.I、PA 5.T/5.I/5.6、 PA 5.T/5.I/6.6、PA 6.T/6.I/6.6、PA MXDA.6、PA IPDA.I、PA IPDA.T、PA MAC M.I、PA MACM.T、PA PACM.I、PA PACM.T、PA MXDA.I、PA MXDA.T、PA 6.T/IPDA.T、PA 6.T/MACM.T、PA 6.T/PACM.T、PA 6.T/MXDA.T、PA 6.T/6.I/8.T/8.I、PA 6.T/6.I/10.T/10.I、PA 6.T/6.I/IPDA.T/IPDA.I、PA 6.T/6.I/MXDA.T/MXDA.I、PA 6.T/6.I/MACM.T/MACM.I、PA 6.T/6.I/PACM.T/PACM.I、PA 6.T/10.T/IPDA.T、PA 6.T/12.T/IPDA.T、PA 6.T/10.T/PACM.T、PA 6.T/12.T/PACM.T、PA 10.T/IPDA.T、PA 12.T/IPDA.T，及其共聚物和混合物。