[發(fā)明專利]圓筒基體材料、原盤及原盤的制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480043133.5 | 申請日： | 2014-12-04 |
| 公開（公告）號： | CN105408265A | 公開（公告）日： | 2016-03-16 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 村本穣;菊池正尚;梶谷俊一;音羽孝聰;高橋康弘 | 申請（專利權(quán)）人： | 迪睿合株式會社 |
| 主分類號： | C03B20/00 | 分類號： | C03B20/00;B29C33/38;B29C59/04;G03F7/004;G03F7/09;G11B7/26;B29L11/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 何欣亭;陳嵐 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 圓筒 基體 材料 制造 方法 | ||
1.一種圓筒基體材料，由圓筒形狀的石英玻璃構(gòu)成，
內(nèi)部應(yīng)變以雙折射量為小于70nm/cm。
2.如權(quán)利要求1所述的圓筒基體材料，其中所述內(nèi)部應(yīng)變以雙折射量為20nm/cm以下。
3.如權(quán)利要求1或2所述的圓筒基體材料，其中外周表面中的圓周方向的周期10mm以下的起伏的振幅為小于100nm。
4.如權(quán)利要求1或2所述的圓筒基體材料，其中外周表面中的圓周方向的周期10mm以下的起伏的振幅為50nm以下。
5.一種原盤，具備：
所述權(quán)利要求1至4的任一項(xiàng)所述的圓筒基體材料；以及
由在所述圓筒基體材料的外周表面排列多個的凹部或凸部構(gòu)成的結(jié)構(gòu)體。
6.一種原盤的制造方法，包括：
抗蝕劑成膜工序，在所述權(quán)利要求1至4的任一項(xiàng)所述的圓筒基體材料的外周表面成膜抗蝕劑層；
曝光工序，在所述抗蝕劑層形成潛影；
顯影工序，對形成所述潛影的抗蝕劑層進(jìn)行顯影；以及
蝕刻工序，以所述顯影的抗蝕劑層的圖案為掩模進(jìn)行蝕刻，形成由在所述圓筒基體材料的外周表面排列多個的凹部或凸部構(gòu)成的結(jié)構(gòu)體。
7.如權(quán)利要求6所述的原盤的制造方法，其中在所述曝光工序?qū)λ隹刮g劑層照射激光而形成潛影。
8.如權(quán)利要求7所述的原盤的制造方法，其中在所述曝光工序利用熱壓印形成潛影。
9.如權(quán)利要求6所述的原盤的制造方法，其中在所述蝕刻工序利用干法蝕刻形成結(jié)構(gòu)體。
10.一種光學(xué)元件的制造方法，使光固化樹脂層密合到所述權(quán)利要求5所述的原盤的外周表面，使該光固化樹脂層固化剝離，對光固化樹脂層轉(zhuǎn)印所述原盤的結(jié)構(gòu)體。
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