[發明專利]復合基板及其制造方法有效
| 申請號： | 201480041519.2 | 申請日： | 2014-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN105409119B | 公開（公告）日： | 2019-04-26 |
| 發明（設計）人： | 多井知義;堀裕二;山寺喬纮;服部良祐;鈴木健吾 | 申請（專利權）人： | 日本礙子株式會社;NGK陶瓷設備株式會社 |
| 主分類號： | H03H9/145 | 分類號： | H03H9/145;H03H3/08 |
| 代理公司： | 北京旭知行專利代理事務所(普通合伙) 11432 | 代理人： | 王軼;鄭雪娜 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 壓電基板 負極化 蝕刻 支撐基板 正極化 強酸 復合基板 直接接合 接合 離子束 速率比 制作 制造 | ||
1.一種復合基板，包括：
壓電基板，所述壓電基板的一面為負極化面，另一面為正極化面，
支撐基板，所述支撐基板通過直接接合而與所述壓電基板的所述正極化面接合，
所述壓電基板是鉭酸鋰基板或鈮酸鋰基板，所述支撐基板為硅基板或玻璃基板。
2.根據權利要求1所述的復合基板，其中，
所述壓電基板的所述負極化面被強酸蝕刻，
關于用所述強酸蝕刻的蝕刻速率，所述負極化面的蝕刻速率比所述正極化面的蝕刻速率快，所述支撐基板的蝕刻速率比所述負極化面的蝕刻速率更快。
3.根據權利要求2所述的復合基板，其中，
所述強酸是氫氟酸-硝酸混合液或氫氟酸。
4.一種復合基板的制造方法，包含：
作為一面為負極化面、另一面為正極化面的壓電基板，準備鉭酸鋰基板或鈮酸鋰基板，作為支撐基板，準備硅基板或玻璃基板的工序，和，
接合工序，所述接合工序是通過直接接合法將所述壓電基板的所述正極化面和所述支撐基板的單面接合起來來制造復合基板的工序。
5.根據權利要求4所述的復合基板的制造方法，其中，包括：
薄板化工序，對所述接合工序中得到的復合基板中所述壓電基板的所述負極化面進行磨削和研磨，
蝕刻工序，用強酸對在所述薄板化工序后出現在所述負極化面的加工變質層進行蝕刻，
作為所述壓電基板和所述支撐基板，使用下述的材料，即：關于用所述強酸蝕刻的蝕刻速率，所述負極化面的蝕刻速率比所述正極化面的蝕刻速率快、所述支撐基板的蝕刻速率比所述負極化面的蝕刻速率更快的材料。
6.根據權利要求5所述的復合基板的制造方法，其中，
作為所述強酸，使用氫氟酸-硝酸混合液或氫氟酸。
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