[發明專利]含酚羥基的化合物、感光性組合物、抗蝕劑用組合物、抗蝕劑涂膜、固化性組合物、抗蝕劑下層膜用組合物、及抗蝕劑下層膜

有效

• 申請號: 201480041092.6
• 申請日: 2014-06-12
• 公開（公告）號: CN105392765B
• 公開（公告）日: 2018-03-02
• 發明（設計）人: 今田知之;佐藤勇介;木本誠二
• 申請（專利權）人: DIC株式會社
• 主分類號: C07C39/14
• 分類號: C07C39/14;G03F7/023;G03F7/11
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙)11277
• 代理人: 劉新宇,李茂家

技術領域

本發明涉及耐熱性優異的含酚羥基的化合物；耐熱分解性、感光度以及分辨率優異的抗蝕劑用組合物；以及耐熱分解性和干蝕刻耐性優異的抗蝕劑下層膜用組合物。

背景技術

含酚羥基的化合物不僅在粘接劑、成形材料、涂料、光致抗蝕劑材料、環氧樹脂原料、環氧樹脂用固化劑等中被使用，而且固化物的耐熱性、耐濕性等優異，因此還作為以含酚羥基的化合物自身為主劑的固化性樹脂組合物或作為環氧樹脂等的固化劑，在半導體封裝材料、印刷布線板用絕緣材料等電氣·電子領域中被廣泛地使用。

其中，在光致抗蝕劑的領域中，不僅要求耐熱性，還要求堿溶解性、感光度、分辨率等各種特性。另外，作為用于形成更微細的布線圖案的方法而在最近進行開發的多層抗蝕劑法中，在基板上形成1層或多層被稱為抗蝕劑下層膜、防反射膜等的層后，在該層上形成利用通常的光刻法而得到的抗蝕劑圖案，接著，利用干蝕刻向基板加工轉印布線圖案。多層抗蝕劑法的技術中重要的構件之一為前述抗蝕劑下層膜，對于該下層膜，要求干蝕刻耐性高且抗蝕劑圖案線邊緣粗糙度(LER)低、光反射性低、耐熱分解性高等。另外，由于抗蝕劑下層膜是以溶劑稀釋的狀態被制膜的，因此需要抗蝕劑下層膜用的樹脂材料可溶于通用有機溶劑，而且，根據抗蝕劑圖案形成的方式，要求固化前的下層膜用樹脂組合物可溶于堿顯影溶液且在光致抗蝕劑的顯影時能夠同時除去等性能。

作為耐熱性優異的含酚羥基的化合物，已知有二羥基萘型酚醛清漆樹脂(參照專利文獻1)、具有被稱為杯芳烴結構的筒狀結構的含酚羥基的化合物(參照專利文獻2)，作為抗蝕劑下層膜用的含酚羥基的化合物，已知有具有下述結構式表示的分子結構的含芴骨架化合物(參照專利文獻3)。

其中，專利文獻1中記載的二羥基萘型酚醛清漆樹脂雖然在一般的苯酚酚醛清漆樹脂之中具有耐熱性優異的特征，但不滿足最近逐漸提高的對耐熱性的要求水平，另外，用于抗蝕劑用途時，靈敏度、分辨率差。另一方面，專利文獻2中記載的1-萘酚型杯(4)芳烴化合物對通用有機溶劑的溶解性不充分，難以應用于粘接劑、涂料、光致抗蝕劑、印刷布線基板用途。另外，專利文獻3中記載的含芴骨架化合物雖然對通用有機溶劑的溶解性優異且固化涂膜的光反射率低，但干蝕刻耐性、耐熱分解性不能滿足最近的要求水平，要求開發兼具更高的干蝕刻耐性和耐熱分解性的抗蝕劑下層膜用酚性化合物。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2010-248435號公報

專利文獻2：日本特開2012-162474號公報

專利文獻3：日本特開2012-252323號公報

發明內容

發明要解決的問題

因此，本發明要解決的課題為，提供耐熱性優異的含酚羥基的化合物；耐熱分解性、感光度以及分辨率優異的抗蝕劑用組合物；以及耐熱分解性和干蝕刻耐性優異的抗蝕劑下層膜用組合物。

用于解決問題的方案

本發明人等為解決上述課題而進行了深入研究，結果發現，二羥基萘型的杯芳烴化合物的耐熱性明顯高且在通用溶劑中的溶解性優異，利用其得到的正型抗蝕劑涂膜的感光度、分辨率優異，進而，由使用了它的固化性組合物形成的涂膜的干蝕刻耐性和耐熱分解性優異且光反射率低，并能夠適當地用于抗蝕劑下層膜用途，從而完成了本發明。

即，本發明涉及一種含酚羥基的化合物，其特征在于，其具有下述結構式(1)表示的分子結構，

(式中，R¹為氫原子、烷基或芳基，n為2～10的整數。R²為烷基、烷氧基、芳基、芳烷基、鹵素原子中的任一種，m為0～4的整數。m為2以上時，多個R²任選各自相同或不同，并任選與萘骨架的2個芳香環之中的任意一個鍵合。)。

本發明還涉及含有前述含酚羥基的化合物和光敏劑的感光性組合物。

本發明還涉及包含前述感光性組合物的抗蝕劑用組合物。

本發明還涉及由前述抗蝕劑用組合物形成的抗蝕劑涂膜。

本發明還涉及含有前述含酚羥基的化合物和固化劑的固化性組合物。

本發明還涉及使前述固化性組合物固化而成的固化物。

本發明還涉及包含前述固化性組合物的抗蝕劑下層膜用組合物。