[發明專利]蒸鍍裝置、蒸鍍方法和有機電致發光元件的制造方法

有效

• 申請號: 201480039163.9
• 申請日: 2014-03-04
• 公開（公告）號: CN105378139B
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發明（設計）人: 磯村良幸;菊池克浩;川戶伸一;井上智;越智貴志;小林勇毅;松本榮一;市原正浩
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司11322
• 代理人: 龍淳,池兵

技術領域

本發明涉及蒸鍍裝置、蒸鍍方法和有機電致發光元件的制造方法。更詳細而言，涉及適用于在大型基板上制造有機EL元件的蒸鍍裝置、蒸鍍方法和有機電致發光元件的制造方法。

背景技術

近年來，平板顯示器被應用于各種各樣的商品和領域中，因此要求平板顯示器進一步大型化、高畫質化和低耗電化。

在這種狀況下，具有利用了有機材料的電場發光(Electro Luminescence，以下也簡稱為EL)的有機EL元件的有機EL顯示裝置是全固體型的，作為在低電壓驅動、高速響應性、自發光性等方面優異的平板顯示器，受到高度關注。

有機EL顯示裝置例如在玻璃基板等的基板上具有薄膜晶體管(TFT)和與TFT連接的有機EL元件。

有機EL元件是能夠通過低電壓直流驅動進行高亮度發光的發光元件，具有第一電極、有機EL層和第二電極依次層疊而成的結構。其中，第一電極與TFT連接。有機EL層具有空穴注入層、空穴輸送層、電子阻擋層、發光層、空穴阻擋層、電子輸送層、電子注入層等有機層層疊而成的結構。

全彩色顯示的有機EL顯示裝置通常具有紅(R)、綠(G)和藍(B)3種顏色的有機EL元件作為子像素，這些子像素在基板上排列成矩陣狀，由3種顏色的子像素構成像素。而且，該顯示裝置利用TFT使這些有機EL元件有選擇地以期望的亮度發光，由此進行圖像顯示。

在這樣的有機EL顯示裝置的制造中，與各顏色的子像素對應地由有機發光材料形成發光層的圖案。

作為發光層圖案的形成方法，近年來提出了使用比基板小型的掩模，一邊使基板相對于掩模和蒸鍍源相對移動，一邊對基板整個面進行蒸鍍，由此在比掩模大型的基板上形成有機EL元件的方法(例如參照專利文獻1～5)。以下，將這樣一邊使基板相對于掩模和蒸鍍源相對移動(掃描)一邊進行蒸鍍的方法也稱為掃描蒸鍍法。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2010-270396號公報

專利文獻2：國際公開第2011/034011號

專利文獻3：國際公開第2011/145456號

專利文獻4：國際公開第2012/029545號

專利文獻5：國際公開第2012/121139號

發明內容

發明要解決的技術問題

在掃描蒸鍍法中，為了防止在基板的掃描中基板與掩模接觸而損傷，基板與掩模隔開間隔地配置。因此，在基板上形成的薄膜的圖案的輪廓中會產生模糊。即，在膜厚固定的部分的兩側產生膜厚逐漸減少的部分。

此外，在掃描蒸鍍法中，存在如下方法：在蒸鍍源的上方配置作為板狀部件的限制板，利用限制板控制從蒸鍍源的噴嘴噴出的蒸鍍流，使得對于掩模的各開口不會從期望的噴嘴以外的噴嘴飛來蒸鍍顆粒。

但是，例如由于提高蒸鍍速率、使噴嘴接近限制板等主要原因，當蒸鍍流內的蒸鍍顆粒的密度變高時，即使使用上述方法也不能完全控制蒸鍍流，有可能從不期望的噴嘴向掩模的各開口飛來蒸鍍顆粒。在此情況下，所形成的薄膜混入從不期望的噴嘴飛來的蒸鍍顆粒。其結果是，有時在所形成的薄膜的圖案中產生超出設想的模糊。即，有時形成與設計上設想的寬度相比寬度寬的圖案。此外，有時在正常的圖案之外形成稱為重影(ghost)的異常的(不需要的)圖案。這些現象在例如RGB全彩色顯示的有機EL顯示裝置中，有可能引起混色發光等的異常發光。異常發光大幅損傷有機EL顯示裝置的顯示品質。像這樣，當蒸鍍流內的蒸鍍顆粒的密度變高時，限制板的功能有可能下降。

該原因可以認為是以下這樣。在蒸鍍顆粒的密度高的狀態下，蒸鍍顆粒彼此碰撞的概率增加，蒸鍍顆粒的散射的程度增強。此外，限制板通常配置在蒸鍍源附近，所以即使在蒸鍍流中也是蒸鍍顆粒的密度相對高的部分通過限制板。因此，如果蒸鍍流內的蒸鍍顆粒的密度達到高的狀態，則在蒸鍍流通過限制板時，發生蒸鍍顆粒彼此的碰撞和蒸鍍顆粒的散射的可能性變高。此外，沒能通過限制板而附著在限制板、例如限制板的開口內的側面部的蒸鍍顆粒，也有可能由于限制板的溫度上升而再蒸發。再蒸發后的蒸鍍顆粒與從噴嘴剛噴出的蒸鍍顆粒不同，沒有被控制，因此有可能在設想外的方向上飛行。其結果是，本應由限制板控制的蒸鍍流在通過限制板后擴展為超過所需的程度，其一部分到達應由相鄰的蒸鍍流成膜的區域，從而產生超出設想的模糊和/或重影。

例如，在專利文獻1所記載的薄膜蒸鍍裝置中，在作為限制板起作用的遮斷壁與作為掩模起作用的第二噴嘴之間什么都不存在，因此，當提高蒸鍍速率時，可以認為與上述情況同樣，產生超出設想的模糊和/或重影。