[發(fā)明專利]一種涂布的電暈電離源的方法與設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201480035363.7
• 申請(qǐng)日: 2014-06-19
• 公開（公告）號(hào): CN105339787B
• 公開（公告）日: 2020-04-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: H·扎列斯基
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蒙特利爾史密斯安檢儀公司
• 主分類號(hào): G01N27/68
• 分類號(hào): G01N27/68;H01J49/16;H01J49/26
• 代理公司: 北京潤(rùn)平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283
• 代理人: 嚴(yán)政;劉兵

1.一種電暈電離源組合，包括：

細(xì)線材，該細(xì)線材包括：

含有第一材料的線材芯，所述含有第一材料的線材芯包含鉑銠合金線材；

含有第二材料的線材涂層，其中，所述線材涂層包裹部分所述線材芯，且所述線材涂層的直徑大于所述線材芯的直徑；

其中，被包裹的兩部分所述線材芯用于機(jī)械地牢固位于該兩部分之間的未被包裹的部分所述線材芯。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電暈電離源，其中，含有第一材料的所述線材芯包含鉑、鉑合金、金、銥或鎢。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電暈電離源，其中，所述線材芯包含直徑小于100微米的線材芯。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的電暈電離源，其中，含有第二材料的所述線材涂層包含鎳鈷合金。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的電暈電離源，其中，含有第二材料的所述線材涂層包含直徑小于100微米的線材涂層。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的電暈電離源，其中，進(jìn)一步包含耦合到至少一個(gè)固定標(biāo)桿上的細(xì)線材。

7.一種檢測(cè)系統(tǒng)，包括：

包括細(xì)線材的電暈電離源組合，該電暈電離源組合包括：

含有第一材料的線材芯，所述含有第一材料的線材芯包含鉑銠合金線材；

含有第二材料的線材涂層，其中，所述線材涂層包裹部分所述線材芯，且所述線材涂層的直徑大于所述線材芯的直徑；

其中被包裹的兩部分所述線材芯用于機(jī)械地牢固位于該兩部分之間的未被包裹的部分所述線材芯；

分析器；和

檢測(cè)器。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的檢測(cè)系統(tǒng)，其中，含有第一材料的所述線材芯包含鉑、鉑合金、金、銥或鎢。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的檢測(cè)系統(tǒng)，其中，所述線材芯包含直徑小于100微米的線材芯。

10.根據(jù)權(quán)利要求7-9中任意一項(xiàng)所述的檢測(cè)系統(tǒng)，其中，含有第二材料的所述線材涂層包含鎳鈷合金。

11.根據(jù)權(quán)利要求7-9中任意一項(xiàng)所述的檢測(cè)系統(tǒng)，其中，含有第二材料的所述線材涂層包含銅、鎳、鐵或金屬合金。

12.根據(jù)權(quán)利要求7-9中任意一項(xiàng)所述的檢測(cè)系統(tǒng)，其中，該檢測(cè)系統(tǒng)包括離子遷移光譜儀系統(tǒng)或質(zhì)譜儀系統(tǒng)中的至少一種。

13.一種制作包括細(xì)線材的電暈電離源組合的方法，所述方法包括：

形成鉑銠合金線材芯；

形成包裹所述線材芯的線材涂層；

在至少部分所述線材涂層上形成遮罩層；

蝕刻所述線材涂層；和

從所述線材涂層上去除所述遮罩層以形成所述細(xì)線材；

使用被包裹的兩部分所述線材芯機(jī)械地牢固位于該兩部分之間的未被包裹的部分所述線材芯。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制作電暈電離源組合的方法，其中，形成包裹所述線材芯的線材涂層包括在所述鉑銠合金線材芯上電解沉積鎳鈷合金。

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制作電暈電離源組合的方法，其中，形成包裹所述線材芯的線材涂層包括將線材芯插入所述線材涂層的管中。

16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制作電暈電離源組合的方法，其中，形成包裹所述線材芯的線材涂層包括使用氣相沉積或等離子體沉積中的至少一種。

17.根據(jù)權(quán)利要求13-16中任意一項(xiàng)所述的制作電暈電離源組合的方法，其中，形成遮罩層包括形成抗蝕刻層。

18.根據(jù)權(quán)利要求13-16中任意一項(xiàng)所述的制作電暈電離源組合的方法，其中，蝕刻所述線材涂層包括使用硝酸蝕刻劑。