[發明專利]真空泵

有效

• 申請號: 201480035337.4
• 申請日: 2014-06-06
• 公開（公告）號: CN105324578B
• 公開（公告）日: 2018-05-15
• 發明（設計）人: 坂口祐幸;三輪田透;三橋啟太
• 申請（專利權）人: 埃地沃茲日本有限公司
• 主分類號: F04D19/04
• 分類號: F04D19/04
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 劉林華;李婷

提供抑制螺紋槽的排氣側出口處的氣體生成物的產生而在長期內維持泵性能的真空泵。真空泵(1)將在內周側定子(80)的外周面(80a)沿著氣體排氣方向(D2)延伸設置的突條部(81)的排氣側端部(81b)比吸氣側端部(81a)朝向轉子旋轉方向(R)的前方加寬地形成，具備流入抑制壁(83)，流入抑制壁(83)抑制雕刻設置在突條部(81)之間的螺紋槽(82)的排氣側出口(82a)處的氣體的滯留。

技術領域

本發明涉及真空泵，尤其涉及能夠在中真空至超高真空的壓力范圍內利用的真空泵。

背景技術

在制造存儲器或集成電路等半導體裝置時，為了避免空氣中的塵土等所造成的影響，有必要在高真空狀態的室內對高純度的半導體基板(晶圓)進行摻雜或蝕刻，在室內的排氣中，例如，使用渦輪分子泵等真空泵。

作為這樣的真空泵，已知如下的真空泵：具備螺紋槽泵機構，該機構由具有外筒轉子和內筒轉子的轉子、具有交替地定位在外筒轉子與內筒轉子之間的外筒定子和內筒定子的定子、以及在定子的與轉子對置的壁面雕刻設置的螺紋槽構成，氣體在螺紋槽泵機構內沿上下方向以S字狀升降而排氣(例如，參照專利文獻1)。

另外，作為另一真空泵，已知如下的真空泵：具備螺紋槽泵機構，該機構由大致圓筒狀的殼體、配置在殼體的軸線部的大致圓筒狀的定子、以轉子軸能夠旋轉驅動的方式由定子的軸線部支撐且在殼體與定子之間具有大致圓筒狀的筒部的轉子、分別設置在殼體的與筒部對置的內周面和定子的與筒部對置的外周面的突條部、以及螺紋槽構成，氣體在螺紋槽泵機構內從上下方向的上方排氣至下方(例如，參照專利文獻2)。

在先技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利第3961273號公報。

專利文獻2：日本實開平5-38389號公報。

發明內容

發明要解決的課題

然而，在如上所述的前一真空泵中，如圖7所示，內筒定子90的螺紋槽91的排氣側出口91a附近的氣體越過突條部92的排氣側端部92a而流入內筒轉子93的旋轉方向R的前方的螺紋槽91(由圖7中的箭頭A表示流入的氣流)，在氣體流入的螺紋槽91的排氣側出口91a附近，氣流紊亂而容易產生氣體的滯留。

另外，在螺紋槽泵機構的排氣部，例如內筒定子90的上端面90a附近，如圖8中的箭頭B所示，氣體有時候不是輸送至內筒定子90的內周側，而是沿著內筒轉子93的旋轉方向R以環狀回旋并滯留。如圖8中的箭頭C所示，這樣的滯留于排氣部的氣體逆流至內筒定子90的外周側，在氣體逆流的螺紋槽91的排氣側出口91a附近，氣流紊亂而容易產生氣體的滯留。

另外，在如上所述的前一和后一真空泵中，在轉子的筒部的下端面，壓縮后的氣體有時候沿著轉子旋轉方向以環狀回旋并滯留。回旋并滯留的氣體在螺紋槽泵機構內逆流至上方而使螺紋槽的排氣側出口處的氣流紊亂，氣體有時候滯留在螺紋槽的排氣側出口。

由于如果如上所述地氣體滯留于螺紋槽的排氣側出口，則所滯留的氣體在高壓下固化而氣體生成物堆積，螺紋槽的排氣側出口的流路變窄，因而有可能壓縮比下降，泵性能下降。

于是，產生為了抑制螺紋槽的排氣側出口處的氣體生成物的產生并在長期內維持泵性能而應該解決的技術課題，本發明的目的在于解決該課題。

用于解決課題的方案