[發明專利]用于電子器件制造裝置的指示器、以及該裝置的設計及/或管理方法

有效

• 申請號: 201480033301.2
• 申請日: 2014-08-04
• 公開（公告）號: CN105283516B
• 公開（公告）日: 2018-02-16
• 發明（設計）人: 采山和弘;大城盛作
• 申請（專利權）人: 株式會社櫻花彩色筆
• 主分類號: C09D11/037
• 分類號: C09D11/037;C09D11/50;H01J37/32
• 代理公司: 北京匯思誠業知識產權代理有限公司11444
• 代理人: 龔敏,王剛

技術領域

本發明涉及一種用于電子器件制造裝置的指示器、以及該裝置的設計及/或管理方法。

背景技術

以往，為了制造電子器件，而對基板(被處理基板)進行各種處理。例如，電子器件為半導體時，投入半導體晶圓(晶圓)之后，經過生成絕緣膜或金屬膜的成膜工序、形成光致抗蝕劑圖案的光刻工序、使用光致抗蝕劑圖案對膜進行加工的蝕刻工序、在半導體晶圓形成導電層的雜質添加工序(也稱作摻雜、或者擴散工序)、對具有凹凸的膜的表面進行拋光而使其平坦的CMP工序(化學機械拋光)等，進行用于檢查圖案的完成度或電特性的半導體晶圓電特性檢查(有時將至此的工序總稱為前工序)。之后，轉移至形成半導體晶片的后工序。

在前工序中，除上述工序外，還包括利用等離子體、臭氧、紫外線等的清洗工序；以及利用等離子體、含自由基氣體等的光致抗蝕劑圖案的去除工序(也稱作灰化或灰化去除)等工序。另外，在上述成膜工序中，包括在晶圓表面使反應性氣體發生化學反應而成膜的CVD、形成金屬膜的濺射等，另外，在上述蝕刻工序中，可列舉通過在等離子體中的化學反應而進行的干法刻蝕、通過離子束進行的蝕刻等。上述等離子體是指氣體的電離狀態，離子、自由基、及電子存在于其內部。

在這樣的前工序中，各種處理的晶圓面內均勻性比較重要。這是因為當面內均勻性受損時，則在半導體晶圓會形成多個半導體晶片，從而成為各晶片的性能偏差的原因，影響成品率。因此，為了確認各種處理的面內均勻性，采用單獨地實施上述各種處理、并對晶圓的面內均勻性進行評價的方法，實現工藝條件的最優化。關于等離子體自身的均勻性的評價，已有在裝置內設置朗繆耳探頭來測量等離子體的物理常數的方法。通過對探頭位置進行掃描，來評價空間內偏差?；蛘咭灿型ㄟ^對產生的等離子體進行發光分析，來測定等離子體內產生的激發種的方法。通過改變測量視場，對各視場的空間內分布進行評價。

現有技術文獻：

專利文獻

專利文獻1:日本國特開2001-237097號公報

專利文獻2:日本國特開2000-269191號公報

發明內容

發明要解決的課題

如上所述，在半導體制造裝置內需要對半導體晶圓整體均勻地進行上述處理(選自由等離子體、臭氧、紫外線、及含自由基氣體構成的組中的至少一種的處理)，在制造半導體以外的電子器件(發光二極管(LED)、太陽能電池、液晶顯示器、有機EL(Electro-Luminescence)顯示器、半導體激光器、功率器件等)方面，也同樣需要對基板整體均勻地進行上述處理。然而，在是否均勻地對基板整體進行了上述處理方面存在如下問題，即，上述方法通過實際實施該處理后，另外測量得到的膜的特性或加工精度等來進行確認，在均勻性的確認(從一系列處理至評價為止)方面需要較多的勞力和時間。

另外，通過朗繆耳探頭進行確認的方法，需要將本來未設置在裝置內的探頭設置在上述裝置內，針對真空保持的裝置伴隨有暫時釋放大氣、設置探頭的作業。另外，還存在如下問題，由于需要在實施工藝的空間內插入探頭，因此由物理屏蔽的觀點來看，在實際進行上述處理時，有時需要再次將其取出，從測定準備至結束需要諸多勞力和時間。

另外，針對通過使用分光裝置進行等離子體的發光分析從而對均勻性進行評價的技術而言，雖沒有測定裝置物理屏蔽的情況，但由于限定于從設置在裝置的窗口進行測定，因此在無法看到裝置內的情況下，難以對等離子體整體進行測定，效果是有限的。

此外，在朗繆耳探頭或等離子體發光分析的方法中，由于并非直接觀察各種處理如何對基板(例如半導體晶圓等)的面內分布產生影響，因此伴隨有從測定結果進行的解析作業。

另一方面，這些確認均勻性的作業，在上述各電子器件制造裝置的設計、或使用上述裝置的工序中進行管理時是必不可少的，因此不能省略。

因此，期待開發一種能夠簡便地檢測是否對基板整體均勻地進行了上述處理的技術。

本發明的目的在于提供一種指示器、以及使用上述指示器的裝置的設計及/或管理方法，所述指示器在電子器件制造裝置內，能夠簡便地檢測是否均勻地對基板整體進行了選自由等離子體、臭氧、紫外線、及含自由基氣體構成的組中的至少一種的處理。

解決課題的方法

本發明者為達成上述目的不斷深入研究，其結果，發現通過采用特定的技術能夠達成上述目的，從而完成本發明。

即，本發明涉及下述用于電子器件制造裝置的指示器以及該裝置的設計及/或管理方法。

1.一種指示器，其是用于電子器件制造裝置的指示器，其特征在于，