[發明專利]用于電子器件制造裝置的指示器、以及該裝置的設計及/或管理方法有效
| 申請號: | 201480033301.2 | 申請日: | 2014-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN105283516B | 公開(公告)日: | 2018-02-16 |
| 發明(設計)人: | 采山和弘;大城盛作 | 申請(專利權)人: | 株式會社櫻花彩色筆 |
| 主分類號: | C09D11/037 | 分類號: | C09D11/037;C09D11/50;H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京匯思誠業知識產權代理有限公司11444 | 代理人: | 龔敏,王剛 |
| 地址: | 日本國大阪府大阪*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 電子器件 制造 裝置 指示器 以及 設計 管理 方法 | ||
1.一種指示器,其是在電子器件制造裝置中使用的指示器,其特征在于,
(1)所述指示器用于檢測選自由等離子體、臭氧、紫外線、及含自由基氣體構成的組中的至少一種,
(2)所述指示器的形狀與在所述電子器件制造裝置中使用的基板的形狀相同,
(3)所述指示器包括變色層,
(4)所述變色層由墨液組合物形成,所述墨液組合物通過與選自由等離子體、臭氧、紫外線、及含自由基氣體構成的組中的至少一種發生反應而變色或脫色,
(5)通過所述變色層的變色或脫色,檢測是否均勻地對所述基板整體進行了所述電子器件制造裝置內的選自由等離子體、臭氧、紫外線、及含自由基氣體構成的組中的至少一種的處理。
2.根據權利要求1所述的指示器,其特征在于,
所述指示器使用于對所述基板進行選自由氧化、氮化、成膜、雜質添加、清洗及蝕刻構成的組中的至少一種工序的電子器件制造裝置。
3.根據權利要求1或2所述的指示器,其特征在于,
所述指示器包括非變色層,所述非變色層不因與選自由等離子體、臭氧、紫外線、及含自由基氣體構成的組中的至少一種發生反應,而變色或脫色。
4.根據權利要求1或2所述的指示器,其特征在于,
所述變色層在基材的至少一個主面上相鄰地形成。
5.根據權利要求3所述的指示器,其特征在于,
所述非變色層及所述變色層在基材上按順序形成,
所述非變色層在所述基材的主面上相鄰地形成,
所述變色層在所述非變色層的主面上相鄰地形成。
6.一種電子器件制造裝置的設計及/或管理方法,其特征在于,
(1)所述設計及/或管理方法具有如下工序:將檢測選自由等離子體、臭氧、紫外線、及含自由基氣體構成的組中的至少一種的指示器,放置于選自由等離子體、臭氧、紫外線、及含自由基氣體構成的組中的至少一種的處理之下,
(2)所述指示器的形狀與所述電子器件制造裝置中使用的基板的形狀相同,
(3)所述指示器包含變色層,
(4)所述變色層由墨液組合物形成,所述墨液組合物通過與選自由等離子體、臭氧、紫外線、及含自由基氣體構成的組中的至少一種發生反應來變色或脫色,
(5)通過所述變色層的變色或脫色,所述指示器檢測是否均勻地對所述基板整體進行了所述電子器件制造裝置內的選自由等離子體、臭氧、紫外線、及含自由基氣體構成的組中的至少一種的處理。
7.根據權利要求6所述的設計及/或管理方法,其特征在于,
在電子器件制造裝置進行將所述指示器放置于所述處理之下的工序,所述電子器件制造裝置對所述基板進行選自由氧化、氮化、成膜、雜質添加、清洗及蝕刻構成的組中的至少一種工序。
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