[發(fā)明專利]用于平面襯底的極性結(jié)構(gòu)的加工設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201480032194.1 | 申請(qǐng)日: | 2014-06-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105378905B | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | K.霍伊格勒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 阿西斯自動(dòng)系統(tǒng)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 趙辛;宣力偉 |
| 地址: | 德國(guó)紹*** | 國(guó)省代碼: | 德國(guó);DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 平面 襯底 極性 結(jié)構(gòu) 加工 設(shè)備 | ||
1.一種用于平面襯底的極性結(jié)構(gòu)的加工設(shè)備,
○具有中央基礎(chǔ)模塊(8),具有與該中央基礎(chǔ)模塊(8)同心的、旋轉(zhuǎn)支承(14)的旋轉(zhuǎn)軸(10),
○具有相對(duì)于旋轉(zhuǎn)支承(14)的同心的旋轉(zhuǎn)軸(10)極性間隔的、圍繞基礎(chǔ)模塊(8)成組布置的工藝站(6),
○具有通過(guò)旋轉(zhuǎn)支承(14)支承的真空轉(zhuǎn)移室(4),它相對(duì)于工藝站(6)圓周側(cè)密封地定位,
○具有被真空轉(zhuǎn)移室(4)容納的用于襯底的搬運(yùn)裝置(2),和
○具有為真空轉(zhuǎn)移室(4)設(shè)置的用于搬運(yùn)裝置的通過(guò)孔(12),它可以通過(guò)耦聯(lián)閥(7)截止,其特征在于,
○所述旋轉(zhuǎn)支承(14)是可以調(diào)整高度的,
○所述真空轉(zhuǎn)移室(4)徑向相對(duì)于基礎(chǔ)模塊的中心的旋轉(zhuǎn)軸(10)錯(cuò)開(kāi),并且
○通過(guò)所述旋轉(zhuǎn)支承(14)在該中央基礎(chǔ)模塊(8)的基面上在空間自由擺動(dòng)地支承。
2.如權(quán)利要求1所述的加工設(shè)備,其特征在于,徑向相對(duì)于旋轉(zhuǎn)支承(14)錯(cuò)開(kāi)的真空轉(zhuǎn)移室(4)相對(duì)于承載臂(20)可以圍繞平行于旋轉(zhuǎn)支承(14)的旋轉(zhuǎn)軸線(24)旋轉(zhuǎn)。
3.如權(quán)利要求2所述的加工設(shè)備,其特征在于,所述承載臂(20)其相對(duì)于旋轉(zhuǎn)軸線的伸出長(zhǎng)度可以調(diào)整。
4.如權(quán)利要求1或2所述的加工設(shè)備,其特征在于,所述真空轉(zhuǎn)移室(4)相對(duì)于承載臂(20)懸掛地可旋轉(zhuǎn)的連接。
5.如權(quán)利要求1或2所述的加工設(shè)備,其特征在于,所述真空轉(zhuǎn)移室(4)相對(duì)于承載臂(20)可萬(wàn)向擺動(dòng)地支承。
6.如權(quán)利要求5所述的加工設(shè)備,其特征在于,所述耦聯(lián)閥(7)在搬運(yùn)設(shè)備(35)的通過(guò)行程中后置于通過(guò)孔(12)地具有兩個(gè)位于前后的、先后要打開(kāi)的鎖閉蓋(56,57),與壓力源連接的、壓力加載的過(guò)渡室(58)位于鎖閉蓋之間。
7.一種用于平面襯底的搬運(yùn)裝置,
具有用于在空間中可位移的用于襯底(34)的真空轉(zhuǎn)移室(4)的承載裝置(3),
具有容納在真空轉(zhuǎn)移室(4)里面的用于襯底(34)的搬運(yùn)設(shè)備(35),
具有為了真空轉(zhuǎn)移室(4)設(shè)置的用于搬運(yùn)設(shè)備(35)的轉(zhuǎn)移/通過(guò)孔(12),并且
具有前置于轉(zhuǎn)移/通過(guò)孔(12)的、可通斷的耦聯(lián)閥(7),其特征在于,所述承載裝置(3)通過(guò)多臂的機(jī)械手形成,對(duì)于碼垛機(jī)械手作為末端執(zhí)行器在空間中可自由擺動(dòng)地設(shè)有真空轉(zhuǎn)移室(4)。
8.如權(quán)利要求7所述的搬運(yùn)裝置,其特征在于,所述被相對(duì)于機(jī)械手的終端臂(17)可旋轉(zhuǎn)的真空轉(zhuǎn)移室(4)容納的搬運(yùn)設(shè)備(35)相對(duì)于真空轉(zhuǎn)移室(4)的外殼(36)中心地且可旋轉(zhuǎn)地支承并且具有徑向延伸的用于抓取器溜板(38)的導(dǎo)軌(37)。
9.如權(quán)利要求8所述的搬運(yùn)裝置,其特征在于,所述抓取器溜板(38)形成多臂操作機(jī)械手(40)的末端執(zhí)行器,具有相對(duì)于真空轉(zhuǎn)移室(4)中心的徑向的支承。
10.如權(quán)利要求8所述的搬運(yùn)裝置,其特征在于,所述導(dǎo)軌(37)相對(duì)于真空轉(zhuǎn)移室(4)的外殼(36)可調(diào)整行程地支承。
11.如權(quán)利要求7或8所述的搬運(yùn)裝置,其特征在于,所述真空轉(zhuǎn)移室(4)容納至少一存放位置(33)和附屬于通過(guò)位置的定位站(51)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





