[發明專利]用于測量X射線圖像設備和X射線檢測器中的X射線劑量參數的裝置

有效

• 申請號: 201480031749.0
• 申請日: 2014-05-30
• 公開（公告）號: CN105393142B
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發明（設計）人: T·安福斯
• 申請（專利權）人: 安福斯射線安全股份公司
• 主分類號: G01T1/24
• 分類號: G01T1/24;A61B6/10;H05G1/26
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 金曉

1.一種使用在X射線檢查設備中用于對待檢查的對象進行成像的X射線檢查裝置(205，2051，2052，2053，2054，2055，305，405)，所述X射線檢查設備包括適于提供成像場的X射線源，所述成像場為將要輻射待檢查的對象的X射線陣式，所述X射線檢查裝置包括被配置為測量包括X射線劑量的至少一個放射性參數的傳感器部件(3051)，其特征在于，X射線檢查裝置定位在鄰近所述X射線源(201)的位置中，其中所述位置在主要射線部分中使得減小或消除對再現圖像的干擾，以及所述X射線檢查裝置包括：

殼體(207，3053)，

包封在所述殼體中的所述傳感器部件，所述傳感器部件包括許多層疊的二極管層(30511)，每個二極管層彼此間隔，并且在每個二極管層之間設有改變源輻射的能量含量的輻射過濾器，并且每個二極管層連接到用于產生與所述放射性參數相對應的信號的處理單元，以及

包封在所述殼體中的電子部，所述電子部包括所述處理單元(3052)以及相對應的電子器件(3052)。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述傳感器部件(3051)被配置為測量散射輻射。

3.根據權利要求1所述的裝置，其中所述傳感器部件(3051)被配置為測量直接輻射。

4.根據權利要求1-3中任一項所述的裝置，被配置為布置在X射線源的殼體上并且被配置為檢測穿過設置在殼體中的孔的散射射線。

5.根據權利要求1-3中任一項所述的裝置，被配置為布置在X射線源的殼體的開口處，其中X射線從所述開口冒出，所述裝置至少部分地被定位在圖像場中。

6.根據權利要求1-3中任一項所述的裝置，被配置為布置在X射線源的殼體的內部的位置中，該位置對應于射線離開準直器孔的方向，所述裝置至少部分地被定位在圖像場中。

7.根據權利要求1-3中任一項所述的裝置，被配置為布置在殼體的內部，位于源和準直器之間。

8.根據權利要求1-3中任一項所述的裝置，被配置為布置在準直器的內部或準直器的表面上。

9.根據權利要求1-3中任一項所述的裝置，其中所述放射性參數包括散射X射線的劑量、總劑量、劑量率、峰千伏電壓(kVp)、半值層(HVL)、總過濾、曝光時間、脈沖、脈沖率和劑量/脈沖中的一個或者多個。

10.根據權利要求1-3中任一項所述的裝置，其中所述傳感器包括RF通信部分。

11.根據權利要求1所述的裝置，其中所述處理單元被實現在專用集成電路(ASIC)中。

12.一種用于處理放射性信息的計算機網絡(400)，其特征在于，所述計算機網絡包括X射線檢查設備(401)、數據收集器(407)和數據庫(408)，其中用于對待檢查的對象進行成像的X射線檢查設備(401)包括：

適于提供成像場的X射線源，所述成像場為將要輻射待檢查的對象的X射線陣式，

X射線檢查裝置(205，2051，2052，2053，2054，2055，305，405)，包括被配置為測量包括所述X射線劑量的至少一個放射性參數的傳感器部件(3051)，該X射線檢查裝置還被配置為定位在鄰近所述X射線源的位置中，其中所述X射線檢查裝置被布置在主要射線部分中使得減小或消除對再現圖像的干擾，并且所述X射線檢查裝置包括：

殼體(207，3053)，

包封在所述殼體中的許多層疊的二極管層(30511)，每個二極管層彼此間隔，并且在每個二極管層之間設有改變源輻射的能量含量的輻射過濾器，并且每個二極管層連接到用于產生與所述放射性參數相對應的信號的處理單元，以及

包封在所述殼體中的電子部，所述電子部包括所述處理單元(3052)以及相對應的電子器件。

13.根據權利要求12所述的計算機網絡，其中所述數據庫由中央應用和本地安裝的DICOM、MWL、RDSR、MPPS或DICOMOCR數據收集器構成。