[發明專利]用于測量X射線圖像設備和X射線檢測器中的X射線劑量參數的裝置

有效

• 申請號: 201480031749.0
• 申請日: 2014-05-30
• 公開（公告）號: CN105393142B
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發明（設計）人: T·安福斯
• 申請（專利權）人: 安福斯射線安全股份公司
• 主分類號: G01T1/24
• 分類號: G01T1/24;A61B6/10;H05G1/26
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 金曉

本發明涉及一種用于測量X射線劑量參數的裝置(205，2051，2052，2053，2054，2055，305，405)。所述裝置包括用于檢測所述X射線劑量的檢測器(3051，3052)。所述裝置被配置為定位在鄰近X射線源(201)的位置中，所述X射線源被布置成產生具有用于輻射對象(206)的主要射線部分的射線陣式，其中所述位置以這種方式選取，該方式使得減小或消除時再現圖像的干擾。

技術領域

本發明通常涉及提供X射線設備中的劑量測量，并且更具體地涉及X射線劑量檢測裝置、X射線成像系統以及用于測量X射線成像系統中的X射線劑量的方法。

背景技術

在X射線成像中，例如在醫學X射線成像中，有必要控制輻射水平。因此，例如通過提供電離室而測量X射線劑量。電離室可以作為對象(例如病人)和檢測器/X射線源之間的額外單元而被提供。然而，由于電離室被設置為獨立的部件，用于X射線成像系統的配置耗費寶貴的空間。此外，電離室會被移動位置，并且曝光過程會在無電離室的情況下進行。

圖1是根據現有技術的一種簡化的X射線源殼體100的示意圖。X射線源殼體100包括產生X射線102的X射線管101。X射線102穿過準直器103，并且在這種情況下穿過劑量面積乘積(DAP)計104。

DAP計通常是大面積的透射電離室和相關的電子設備。使用時，電離室被放置成垂直于射束中心軸，并且在完全地截取X射線束的整個區域的位置。DAP與X射線視野大小的信息結合，可以被用于確定從電離室的位置開始在X射線束下游的任何距離處由X射線束產生的平均劑量。

DAP被定義為跨X射線束的劑量的積分。因此，DAP包括場不均勻性效應，諸如陽極跟效應，以及半透明的射束平衡快門(肺快門)的應用。假如入射射束被完全地局限到病人，記錄值可以本質上提供被病人吸收的X射線能量的上限(即無透射或散射)。因為缺少病人中的劑量分布信息，DAP的估計隨機風險的能力下降。最好的方式可能是假設用于所有處于風險中的組織的平均權重因子。這可能導致在某些情況下高估或低估風險。

發明內容

因此，在X射線成像中需要提供劑量測量，需要最小的結構空間，并且定位成不干擾再現圖像。本發明的方案提供了測量許多X射線參數，其中包括總劑量和射線質量。

由于這些原因，X射線參數測量裝置包括用于測量所述參數的檢測器，被配置為定位在鄰近X射線源的位置中，所述X射線源被布置成產生具有用于輻射對象的主要射線部分的射線陣式(formation)。所述位置以這種方式選取，該方式使得減小或消除對再現圖像的干擾。在一種實施例中，所述檢測器被配置為測量散射輻射。在另一種實施例中，所述檢測器被配置為測量直接輻射。在一種實施例中，所述檢測器被布置在X射線源的殼體上，并且被配置為檢測通過設置在殼體中的孔的散射射線。根據第二實施例，所述檢測器被布置在源的殼體的開口處，X射線從開口冒出(emerge)，所述檢測器被至少部分或全部地定位在圖像場中，即輻射待檢查的對象的射線陣式。所述檢測器也可以被布置在源的殼體內的這樣的位置中，該位置對應于射線離開準直器孔的方向，被至少部分或全部地定位在圖像場中，即輻射待檢查的對象的射線陣式。在第四實施例中，所述檢測器被布置在殼體內，位于所述源和準直器之間。在第五實施例中，所述檢測器被布置在準直器內部或者準直器的表面上。

本發明的X射線參數測量裝置可以被配置為測量一種或幾種放射性參數，包括散射X射線的劑量、總劑量、劑量率、峰千伏電壓(kVp)、半值層(HVL)、總過濾、曝光時間、脈沖、脈沖率和劑量/脈沖。

在一種實施例中，所述檢測器包括包封許多層疊的二極管層的殼體，每個二極管層彼此間隔，并且在每個二極管層之間設有輻射過濾器，并且每個二極管層連接到用于產生與所述參數相對應的信號的處理單元。所述檢測器可以包括在一層中包封一個或若干個二極管的殼體。而且，所述檢測器在一種實施例中包括RF通信部分。