[發明專利]半導體裝置有效
| 申請號: | 201480026440.2 | 申請日: | 2014-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN105190900B | 公開(公告)日: | 2018-01-30 |
| 發明(設計)人: | 川尻智司;小川嘉壽子 | 申請(專利權)人: | 三墾電氣株式會社 |
| 主分類號: | H01L29/78 | 分類號: | H01L29/78;H01L21/28;H01L21/336;H01L29/41;H01L29/417;H01L29/423;H01L29/739 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司11127 | 代理人: | 李輝,黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 裝置 | ||
1.一種半導體裝置,其特征在于,具有:
第1導電型的第1半導體區域;
第2導電型的第2半導體區域,其配置于所述第1半導體區域的上方;
第1導電型的第3半導體區域,其配置于所述第2半導體區域的上方;
第2導電型的第4半導體區域,其配置于所述第3半導體區域的上方;
絕緣膜,其配置于槽的內壁上,所述槽從所述第4半導體區域的上表面起延伸并貫通所述第4半導體區域和所述第3半導體區域而到達所述第2半導體區域;
控制電極,其在所述槽的側面被配置于所述絕緣膜上,并與所述第3半導體區域相對;
第1主電極,其與所述第1半導體區域電連接;
第2主電極,其與所述第4半導體區域電連接;以及
底面電極,其在所述槽的底面被配置于所述絕緣膜的上方,并且所述底面電極被配置為與所述控制電極分離,
在俯視時,所述槽的延伸方向上的長度比所述槽的寬度大,并且,所述槽的寬度比彼此相鄰的所述槽的間隔寬,
所述底面電極具有主體部和連接部,所述主體部配置于所述槽的底面,所述連接部將該主體部與所述第2主電極電連接,
所述連接部與所述主體部的延伸方向上的端部側相連接,并且所述連接部被配置于所述控制電極的第1控制電極和第2控制電極彼此相對的區域的端部側或該區域的外側。
2.一種半導體裝置,其特征在于,具有:
第1導電型的第1半導體區域;
第2導電型的第2半導體區域,其配置于所述第1半導體區域的上方;
第1導電型的第3半導體區域,其配置于所述第2半導體區域的上方;
第2導電型的第4半導體區域,其配置于所述第3半導體區域的上方;
絕緣膜,其配置于槽的內壁上,所述槽從所述第4半導體區域的上表面起延伸并貫通所述第4半導體區域和所述第3半導體區域而到達所述第2半導體區域;
控制電極,其在所述槽的側面被配置于所述絕緣膜上,并與所述第3半導體區域相對;
第1主電極,其與所述第1半導體區域電連接;以及
第2主電極,其與所述第4半導體區域電連接;以及
底面電極,其在所述槽的底面被配置于所述絕緣膜的上方,并且被配置為與所述控制電極分離,
在俯視時,所述槽的面積比形成在相鄰的所述槽之間的半導體區域的面積大,
所述底面電極具有主體部和連接部,所述主體部配置于所述槽的底面,所述連接部將該主體部與所述第2主電極電連接,
所述連接部與所述主體部的延伸方向上的端部側相連接,并且所述連接部被配置于所述控制電極的第1控制電極和第2控制電極彼此相對的區域的端部側或該區域的外側。
3.根據權利要求1或2所述的半導體裝置,其特征在于,
所述底面電極與所述第2主電極電連接。
4.根據權利要求1或2所述的半導體裝置,其特征在于,
所述控制電極具有第1控制電極和第2控制電極,所述第1控制電極和第2控制電極設置于所述槽的第1側面和與所述第1側面相對的第2側面,并且所述第1控制電極和第2控制電極被配置為隔著所述絕緣膜與所述第3半導體區域相對,
所述底面電極從所述第1側面側朝所述第2側面側延伸。
5.根據權利要求1或2所述的半導體裝置,其特征在于,
所述底面電極具有主體部和連接部,所述主體部配置于所述槽的底面,所述連接部將該主體部和所述第2主電極電連接,
在俯視時,所述主體部形成為帶狀,并且在所述槽的延伸方向上延伸,所述連接部在所述槽的深度方向上延伸。
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