[發(fā)明專利]導(dǎo)電圖案的制造方法和形成有導(dǎo)電圖案的基板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480023443.0 | 申請日: | 2014-04-17 |
| 公開(公告)號: | CN105164764B | 公開(公告)日: | 2018-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 內(nèi)田博;篠崎研二;岡崎惠理;大簱英樹;宮村泰直 | 申請(專利權(quán))人: | 昭和電工株式會社 |
| 主分類號: | H01B13/00 | 分類號: | H01B13/00;B05D3/06;B05D5/12;H01B5/14 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 劉航;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 導(dǎo)電 圖案 制造 方法 形成 | ||
本發(fā)明提供能夠簡易地實現(xiàn)窄間距的導(dǎo)電圖案的制造方法和形成有導(dǎo)電圖案的基板。在基板(10)的至少一個主面的全部或一部分面上形成金屬納米絲層(12),隔著以規(guī)定圖案形成有透光部(14a)的掩模(14)而照射脈沖光,在所述規(guī)定圖案的形狀的區(qū)域?qū)⑺鼋饘偌{米絲層(12)中的金屬納米絲燒結(jié),使所述規(guī)定圖案的形狀的區(qū)域顯現(xiàn)導(dǎo)電性。由此,能夠以簡易的工序制造具備任意圖案的導(dǎo)電圖案的基板。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及導(dǎo)電圖案的制造方法和形成有導(dǎo)電圖案的基板。
背景技術(shù)
近年來,作為便攜式電話機(jī)、便攜式終端或個人計算機(jī)等各種電子設(shè)備,已使用在顯示面板安裝透光性的觸摸屏,一邊通過觸摸屏目視確認(rèn)顯示面板的顯示,一邊用手指等對觸摸屏的表面進(jìn)行操作,由此能夠?qū)﹄娮釉O(shè)備進(jìn)行指示操作的電子設(shè)備。
作為這樣的觸摸屏,已知例如在透明的基板上沿X方向形成了規(guī)定形狀的透明電極圖案,并且沿Y方向(與X方向正交的方向)形成了同樣的透明電極圖案的靜電電容型觸摸屏。
上述觸摸屏中所使用的透明電極圖案,在形成有電極圖案的區(qū)域(導(dǎo)電性區(qū)域)和沒有形成電極圖案的區(qū)域(非導(dǎo)電性區(qū)域)中光學(xué)性質(zhì)產(chǎn)生差別,因此有時能夠視認(rèn)到電極圖案的所謂“圖案可見(骨見え)”會成為問題。為了防止這樣的“圖案可見”,需要使透明電極圖案的交界的間隔極窄。例如,靜電電容型觸摸屏的情況下,需要X方向的電極圖案與Y方向的電極圖案的間隔最大為50μm,優(yōu)選為20μm以下,更優(yōu)選為10μm以下,采用印刷法難以實現(xiàn)這樣的窄間距,因此采用光刻法進(jìn)行圖案化。
作為光刻法的例子,例如下述非專利文獻(xiàn)1中記載了以下工序。
(1)將含有金屬納米絲的導(dǎo)電性墨涂布于基板上的工序。
(2)進(jìn)行燒成,形成透明導(dǎo)電層的工序。
(3)將具有感光性的抗蝕劑形成于上述透明導(dǎo)電層上的工序。
(4)通過與微細(xì)圖案相應(yīng)的適當(dāng)?shù)恼诠庋谀刮g劑賦予光能量的工序。
(5)將所得到的抗蝕劑的潛像,通過使用適當(dāng)?shù)娘@像用溶液進(jìn)行溶出(洗脫)而顯像的工序。
(6)采用適當(dāng)?shù)奈g刻方法將露出的被圖案化膜(透明導(dǎo)電層)除去的工序。
(7)采用適當(dāng)?shù)姆椒▽埓娴目刮g劑除去的工序。
另外,專利文獻(xiàn)1中記載了以下工序。
(1)將在水中分散的含有銀納米絲的導(dǎo)電性墨涂布于基板上的工序。
(2)進(jìn)行燒成,形成銀納米絲網(wǎng)層的工序。
(3)將含有預(yù)聚物的光固化型的基質(zhì)材料形成于所述銀納米絲網(wǎng)層上的工序。
(4)通過與微細(xì)圖案相應(yīng)的適當(dāng)?shù)恼诠庋谀|(zhì)材料賦予光能量的工序。
(5)將非固化區(qū)域通過用溶劑(乙醇)洗滌而除去的工序?;?,使用膠帶、粘著性輥將非固化區(qū)域物理性地除去的工序。
在先技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特表2009-505358號公報
非專利文獻(xiàn)
非專利文獻(xiàn)1:Shih-Hsiang Lai,Chun-Yao Ou,Chia-Hao Tsai,Bor-ChuanChuang,Ming-Ying Ma,and Shuo-Wei Liang;SID Symposium Digest of TechnicalPapers,Vol.39,Issue 1,pp.1200-1202(2008)
發(fā)明內(nèi)容
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