[發(fā)明專利]導(dǎo)電圖案的制造方法和形成有導(dǎo)電圖案的基板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201480023443.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-04-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105164764B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 內(nèi)田博;篠崎研二;岡崎惠理;大簱英樹(shù);宮村泰直 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昭和電工株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01B13/00 | 分類號(hào): | H01B13/00;B05D3/06;B05D5/12;H01B5/14 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 劉航;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 導(dǎo)電 圖案 制造 方法 形成 | ||
1.一種透明導(dǎo)電圖案的制造方法,其特征在于,所述透明導(dǎo)電圖案具有被燒結(jié)的導(dǎo)電性區(qū)域和未被燒結(jié)的非導(dǎo)電性區(qū)域,
所述制造方法具備:
在基板的至少一個(gè)主面的全部或一部分上形成包含金屬納米絲的金屬納米絲層的工序;和
以規(guī)定圖案對(duì)所述金屬納米絲層照射光,在所述規(guī)定圖案的形狀的區(qū)域?qū)⑺鼋饘偌{米絲層中的金屬納米絲燒結(jié)、賦予導(dǎo)電性的工序,
并且,所述金屬納米絲層包含金屬納米絲和粘合劑樹(shù)脂。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電圖案的制造方法,所述光是隔著以所述圖案的形狀形成有透光部的掩模而照射的脈沖光。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電圖案的制造方法,所述金屬納米絲是銀納米絲。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的透明導(dǎo)電圖案的制造方法,所述金屬納米絲是銀納米絲。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4的任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電圖案的制造方法,通過(guò)對(duì)所述基板進(jìn)行底涂而形成底涂層后,在底涂層上形成所述金屬納米絲層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1~4的任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電圖案的制造方法,所述金屬納米絲層是將金屬納米絲墨涂布于基板的至少一個(gè)主面的全部或一部分面上而形成的,所述金屬納米絲墨包含金屬納米絲、粘合劑樹(shù)脂和分散介質(zhì)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透明導(dǎo)電圖案的制造方法,所述金屬納米絲層是將金屬納米絲墨涂布于底涂層上而形成的,所述金屬納米絲墨包含金屬納米絲、粘合劑樹(shù)脂和分散介質(zhì)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1~4的任一項(xiàng)所述的透明導(dǎo)電圖案的制造方法,所述金屬納米絲層是將金屬納米絲墨涂布于基板的至少一個(gè)主面的全部或一部分面上而形成的,所述金屬納米絲墨是在能夠使所述基板的材料溶解或溶脹的溶劑中分散了金屬納米絲的墨。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電圖案的制造方法,所述金屬納米絲層是將金屬納米絲墨涂布于底涂層上而形成的,所述金屬納米絲墨是在能夠使所述底涂層的材料溶解或溶脹的溶劑中分散了金屬納米絲的墨。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的透明導(dǎo)電圖案的制造方法,所述金屬納米絲層是將金屬納米絲墨涂布于底涂層上而形成的,所述金屬納米絲墨是在能夠使所述底涂層的材料溶解或溶脹的溶劑中分散了金屬納米絲的墨。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的透明導(dǎo)電圖案的制造方法,所述金屬納米絲層是將金屬納米絲墨涂布于基板的至少一個(gè)主面的全部或一部分面上而形成的,所述金屬納米絲墨是在能夠使所述基板的材料溶解或溶脹的溶劑中分散了金屬納米絲的墨。
12.一種形成有透明導(dǎo)電圖案的基板,
在基板的至少一個(gè)主面的全部或一部分上具有包含金屬納米絲的金屬納米絲層,
所述金屬納米絲層具備:
所述金屬納米絲以規(guī)定的圖案被燒結(jié)而成的導(dǎo)電性區(qū)域;和
所述金屬納米絲未被燒結(jié)的非導(dǎo)電性區(qū)域,該非導(dǎo)電性區(qū)域是所述金屬納米絲層的除了所述導(dǎo)電性區(qū)域以外的區(qū)域,
并且,所述金屬納米絲層包含金屬納米絲和粘合劑樹(shù)脂。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的形成有透明導(dǎo)電圖案的基板,所述導(dǎo)電性區(qū)域的表面電阻為200Ω/□以下,所述非導(dǎo)電性區(qū)域的表面電阻為103Ω/□以上。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的形成有透明導(dǎo)電圖案的基板,所述金屬納米絲的直徑的平均值為1nm以上、500nm以下,長(zhǎng)軸的長(zhǎng)度的平均值為1μm以上、100μm以下,縱橫尺寸比的平均值為10以上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于昭和電工株式會(huì)社,未經(jīng)昭和電工株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201480023443.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 透明導(dǎo)電膜用靶、透明導(dǎo)電材料、透明導(dǎo)電玻璃及透明導(dǎo)電薄膜
- 透明導(dǎo)電膜用靶、透明導(dǎo)電材料、透明導(dǎo)電玻璃及透明導(dǎo)電薄膜
- 導(dǎo)電糊劑及導(dǎo)電圖案
- 導(dǎo)電圖案的形成方法、導(dǎo)電膜、導(dǎo)電圖案及透明導(dǎo)電膜
- 導(dǎo)電片和導(dǎo)電圖案
- 導(dǎo)電漿料和導(dǎo)電膜
- 導(dǎo)電端子及導(dǎo)電端子的導(dǎo)電結(jié)構(gòu)
- 導(dǎo)電構(gòu)件及使用多個(gè)導(dǎo)電構(gòu)件的導(dǎo)電電路
- 導(dǎo)電型材和導(dǎo)電裝置
- 透明導(dǎo)電膜用靶、透明導(dǎo)電材料、透明導(dǎo)電玻璃及透明導(dǎo)電薄膜
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過(guò)程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





