[發明專利]用PH緩沖物質和具有磺基的有機兩親性物質的混合溶液涂覆的牙科用種植體及其制造方法有效
| 申請號: | 201480023123.5 | 申請日: | 2014-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN105142565B | 公開(公告)日: | 2018-04-03 |
| 發明(設計)人: | 金秀曔;張一錫;宋住東;嚴泰官;崔圭鈺 | 申請(專利權)人: | (株)奧齒泰種植體 |
| 主分類號: | A61C8/00 | 分類號: | A61C8/00;A61L27/28;A61L27/06 |
| 代理公司: | 北京冠和權律師事務所11399 | 代理人: | 朱健,陳國軍 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | ph 緩沖 物質 具有 有機 兩親性 混合 溶液 牙科 種植 及其 制造 方法 | ||
1.一種生物活性類型親水性牙科用種植體,其作為具有粗糙表面的鈦或鈦合金材質的牙科用種植體,特征在于:
在為了除去污染源而進行了前處理的所述粗糙表面形成包括ⅰ)有機pH緩沖物質及/或無機pH緩沖物質和ⅱ)具有磺基的有機兩親性物質的混合溶液的涂覆層,
所述有機pH緩沖物質,其pKa為8.0以上,并且其為在AMPD、氨、N-二(羥乙基)甘氨酸、甘氨酸、甘氨酰甘氨酸、三(羥甲基)氨基甲烷、N-三(羥甲基)甲基甘氨酸及?;撬嶂羞x擇的至少任意一個以上,
所述無機pH緩沖物質具有氫氧根,并且為在NaOH、KOH、Ca(OH)2、Ba(OH)2、AI(OH)3及Sr(OH)2中選擇的至少任意一個以上,
包括在所述混合溶液的具有磺基的有機兩親性物質包括BES、HEPES、MOPS及TES中至少任意一個以上,
所述混合溶液包括0.05~1.68M具有磺基的有機兩親性物質,并且以所述混合溶液的1~10wt%的范圍包括pH緩沖物質。
2.一種生物活性類型親水性牙科用種植體的制造方法,其特征在于,包括:
第一步驟,準備鈦或鈦合金材質的牙科用種植體;第二步驟,將所述牙科用種植體表面處理為粗糙的表面;第三步驟,對所述處理得粗糙的牙科用種植體表面進行前處理,從而除去污染源;以及第四步驟,在所述經前處理的粗糙的牙科用種植體表面形成包括ⅰ)有機pH緩沖物質及/或無機pH緩沖物質和ⅱ)具有磺基的有機兩親性物質的混合溶液的涂覆層,所述有機pH緩沖物質的pKa為8.0以上,并且所述有機pH緩沖物質為在AMPD、氨、N-二(羥乙基)甘氨酸、甘氨酸、甘氨酰甘氨酸、三(羥甲基)氨基甲烷、N-三(羥甲基)甲基甘氨酸及?;撬嶂羞x擇的至少任意一個以上,所述無機pH緩沖物質具有氫氧根,并且為在NaOH、KOH、Ca(OH)2、Ba(OH)2、AI(OH)3及Sr(OH)2中選擇的至少任意一個以上,
包括在所述混合溶液的具有磺基的有機兩親性物質包括BES、HEPES、MOPS及TES中至少任意一個以上,
在所述第四步驟中,所述混合溶液包括0.05~1.68M具有磺基的有機兩親性物質,并且以所述混合溶液的1~10wt%的范圍包括pH緩沖物質。
3.根據權利要求2所述的生物活性類型親水性牙科用種植體的制造方法,其特征在于:
所述第三步驟的除去污染源的步驟,通過紫外線、RFGD(射頻輝光放電)、氧及常溫等離子體中任意一個以上的方法處理所述處理得粗糙的牙科用種植體表面。
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