[發(fā)明專利]納米粒子區(qū)分裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201480018345.8 | 申請日: | 2014-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN105143499A | 公開(公告)日: | 2015-12-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 內(nèi)山直樹 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社渥美精機 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 劉曉迪 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 粒子 區(qū)分 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及納米粒子的區(qū)分裝置。
背景技術(shù)
在專利文獻1中記載有超微粒子膜形成方法及超微粒子膜形成裝置。該裝置由材料產(chǎn)生蒸氣原子,使其與惰性氣體一同在搬送管中移動而在基板上形成超微粒子膜。以通常的表現(xiàn)對這樣的粒子膜形成裝置及方法改變說法的話,將腔室上下設(shè)置并利用細(xì)管使其連通。而且,將上部腔室抽真空而使冷卻氣體向下部腔室流動。而且,蒸發(fā)了的金屬被冷卻,并且利用壓力差向上部腔室移動。以粒子狀態(tài)被上部腔室的基板捕集。冷卻氣體例如為氦氣或氬氣,通過使其流動來防止粒子移動中的凝聚或粒子成長。
但是,由材料蒸發(fā)的粒子以由蒸發(fā)時的壓力及冷卻力或者蒸發(fā)室與捕集室之間的壓力差而產(chǎn)生的粒子的流速來大致決定粒子徑,但該粒子徑產(chǎn)生偏差。在專利文獻1記載的裝置中,不能夠?qū)⑦@些粒子徑具有偏差的狀態(tài)的粒子一并捕集,不能夠按照各個粒徑區(qū)分捕集。
專利文獻1:(日本)特開2000-297361號公報
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是考慮了上述現(xiàn)有技術(shù)而作出的,其目的在于提供一種能夠?qū)⒂梢环N材料得到的不同粒徑的納米粒子區(qū)分捕集的納米粒子的區(qū)分裝置。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的納米粒子區(qū)分裝置,包括:多個室,其串聯(lián)排列,相互由分隔壁分隔開;生成室,其配設(shè)有應(yīng)蒸發(fā)的材料,并且配置在所述多個室中的一端部;多個成膜室,其配設(shè)有用于將由所述材料生成的納米粒子成膜的基板,為所述多個室中的除了所述生成室之外的室;多個連通管,其為了將相鄰的所述多個室相互連通而分別貫通所述分隔壁設(shè)置;氣體導(dǎo)入管,其與所述生成室連通,用于將冷卻氣體導(dǎo)入;真空配管,其與所述多個室中的在最遠(yuǎn)離所述生成室的位置配置的室即高真空室連通,用于抽真空。
根據(jù)本發(fā)明,由于將高真空室抽真空,故而在由分隔壁分隔開的多個成膜室產(chǎn)生壓力差、即在高真空室到生成室的多個室使壓力逐漸升高這樣的壓力差。因此,粒徑大即重的粒子滯留在遠(yuǎn)離壓力高的高真空室的部位。相反,粒徑最小即最輕的粒子到達到壓力低的高真空室。因此,能夠?qū)⒂梢环N材料得到的不同粒徑的納米粒子區(qū)分捕集。此時,以隨著從高真空室接近生成室,內(nèi)徑變大的方式配置連通管,從而能夠在多個成膜室有效地設(shè)置壓力差。或者,通過隨著接近生成室而增大成膜室的體積,從而能夠在多個成膜室有效地設(shè)置壓力差。或者,通過使用隨著接近生成室而將成膜室的溫度降低這樣的溫度調(diào)節(jié)器,能夠在多個成膜室有效地設(shè)置壓力差。另外,通過將相鄰的連通管的軸線錯開,能夠有效地捕集納米粒子。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的粒子區(qū)分裝置的概略圖;
圖2是本發(fā)明的另一粒子區(qū)分裝置的概略圖;
圖3是本發(fā)明的再一粒子區(qū)分裝置的概略圖。
標(biāo)記說明
1:納米粒子區(qū)分裝置
2:生成室
3:成膜室
4:材料
5:分隔壁
6:連通管
7:基板
8a~8c:納米粒子
9:室
10:氣體導(dǎo)入管
11a~11c:連通管
12:加熱器(溫度調(diào)節(jié)器)
13:高真空室
14:真空配管
15:加熱器
具體實施方式
如圖1所示,本發(fā)明的納米粒子區(qū)分裝置1具有串聯(lián)排列的多個室9。這些室9相互由分隔壁5分隔開。在這多個室9中,配置在一端部的室9作為生成室2而形成。在該生成室2配設(shè)有應(yīng)蒸發(fā)的材料4。在圖示的實施例中,將卷繞成線圈狀的金屬線作為材料4表示。在將金屬線設(shè)為材料4的情況下,例如能夠使用鎂或鎳或者其合金。作為材料4,除了金屬之外能夠使用樹脂或氧化物。在將樹脂設(shè)為材料4的情況下,例如能夠使用尼龍類樹脂或聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、聚環(huán)氧乙烷(PEO)等。
在生成室2還配設(shè)有加熱器15。該加熱器15用于將材料4加熱。作為加熱器15,能夠使用坩鍋或等離子體發(fā)生裝置等。通過由加熱器15將材料4加熱,材料4蒸發(fā)而生成納米粒子8a~8c。另外,生成室2經(jīng)由氣體導(dǎo)入管10與外部連通,從該氣體導(dǎo)入管10導(dǎo)入氦氣及氬氣等冷卻氣體(圖1的箭頭標(biāo)記A方向)。通過該冷卻氣體的導(dǎo)入,防止納米粒子彼此碰撞而使粒徑變大的情況(粒子成長)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





