[發明專利]新的晶體形式

在審

• 申請號: 201480015844.1
• 申請日: 2014-03-14
• 公開（公告）號: CN105143197A
• 公開（公告）日: 2015-12-09
• 發明（設計）人: 吳節強
• 申請（專利權）人: VM醫藥有限責任公司
• 主分類號: C07D401/06
• 分類號: C07D401/06;C07D403/06;C07D471/04;C07D487/04
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳文青;朱黎明

1.化合物10的晶體多晶型物形態2：

2.如權利要求1所述的晶體多晶型物，其X射線粉末衍射圖譜包括在大約以下度數的2θ位置的峰：5.1±0.3,12.7±0.4和22.0±0.3。

3.如權利要求1-2中任一項所述的晶體多晶型物，其X射線粉末衍射圖譜還包括在大約以下度數的2θ位置的峰：16.3±0.3和15.5±0.3。

4.如權利要求1-3中任一項所述的晶體多晶型物，其X射線粉末衍射圖譜還包括在大約以下度數的2θ位置的峰：18.5±0.3和19.6±0.3。

5.如權利要求1-4中任一項所述的晶體多晶型物，其X射線粉末衍射圖譜包括五個或更多個大約在選自以下的度數的2θ位置的峰：5.181,9.338,10.301,11.616,12.883,15.580,16.339,17.321,18.560,18.998,19.702,22.048,23.339,23.740,24.00,25.441,28.460,29.219,29.563和31.379。

6.如權利要求1-5中任一項所述的晶體多晶型物，其X射線粉末衍射圖譜包括七個或更多個大約在選自以下度數的2θ位置的峰：5.181,9.338,10.301,11.616,12.883,15.580,16.339,17.321,18.560,18.998,19.702,22.048,23.339,23.740,24.00,25.441,28.460,29.219,29.563和31.379。

7.如權利要求1-6中任一項所述的晶體多晶型物，其X射線粉末衍射圖譜包括十個或更多個大約在選自以下度數的2θ位置的峰：5.181,9.338,10.301,11.616,12.883,15.580,16.339,17.321,18.560,18.998,19.702,22.048,23.339,23.740,24.00,25.441,28.460,29.219,29.563和31.379。

8.如權利要求1-7中任一項所述的晶體多晶型物，其X射線粉末衍射圖譜包括大約在以下度數的2θ位置的峰：5.181,9.338,10.301,11.616,12.883,15.580,16.339,17.321,18.560,18.998,19.702,22.048,23.339,23.740,24.00,25.441,28.460,29.219,29.563和31.379。

9.如權利要求1-8中任一項所述的晶體多晶型物，其X-射線粉末衍射圖譜基本類似于圖4。

10.如權利要求1-9中任一項所述的晶體多晶型物，其差示掃描量熱測定熱分析圖顯示約160℃開始吸熱。

11.如權利要求1-10中任一項所述的晶體多晶型物，其差示掃描量熱測定熱分析圖顯示約163℃的吸熱峰。

12.如權利要求1-11中任一項所述的晶體多晶型物，其差示掃描量熱測定熱分析圖基本類似于圖5。

13.如權利要求1-12中任一項所述的晶體多晶型物，其紅外光譜基本類似于圖17。

14.化合物10的晶體多晶型物形態1：

15.如權利要求14所述的晶體多晶型物，其X射線粉末衍射圖譜包括在大約以下度數的2θ位置的峰：17.1±0.3,19.4±0.3,22.6±0.3和27.4±0.3。

16.如權利要求14-15中任一項所述的晶體多晶型物，其X射線粉末衍射圖譜還包括在大約以下度數的2θ位置的峰：23.3±0.3,20.1±0.3和17.7±0.3。

17.如權利要求14-16中任一項所述的晶體多晶型物，其X射線粉末衍射圖譜還包括在大約以下度數的2θ位置的峰：21.9±0.3和26.8±0.3。