[發明專利]自行定心處理屏蔽件

有效

• 申請號: 201480010488.4
• 申請日: 2014-03-07
• 公開（公告）號: CN105008581B
• 公開（公告）日: 2017-09-12
• 發明（設計）人: 瑞安·漢森;吉留剛一;尼爾森·易
• 申請（專利權）人: 應用材料公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司11006
• 代理人: 徐金國,趙靜

1.一種用于在基板處理腔室中使用的處理屏蔽件，所述基板處理腔室具有腔室蓋，所述腔室蓋包含耦接至所述腔室蓋的靶，所述處理屏蔽件包含：

伸長環形主體，所述伸長環形主體具有外表面和內表面，所述內表面界定所述主體的中央開口；

唇，所述唇自所述主體的第一端附近的所述主體的所述外表面向外徑向延伸，以使得所述主體的第一部分向所述第一端延伸超過所述唇；

多個開口，所述多個開口位于所述唇中；和

銷，所述銷設置于所述多個開口的至少三個的每一者中并從所述唇突出，以在所述腔室蓋置放于所述處理屏蔽件的頂部時，使所述靶對準于所述處理屏蔽件的頂部上，其中第一銷的中心位于與第二銷的中心成約115度的位置，所述第二銷的所述中心位于與第三銷的中心成約115度的位置，且所述第一銷的所述中心位于與所述第三銷的所述中心成約130度的位置。

2.如權利要求1所述的處理屏蔽件，其中位于所述第一端附近的所述主體的所述內表面圍繞所述靶設置，且與所述靶間隔第一距離。

3.如權利要求2所述的處理屏蔽件，其中當所述腔室蓋呈弧形旋轉至所述處理屏蔽件上時，位于所述第一端附近的所述主體的所述內表面配置為避免接觸所述靶。

4.如權利要求1所述的處理屏蔽件，其中所述多個開口為三個開口。

5.如權利要求1所述的處理屏蔽件，其中在所述第三銷嚙合所述靶之前，所述第一銷和所述第二銷先嚙合所述靶。

6.如權利要求5所述的處理屏蔽件，其中所述第一銷、所述第二銷和所述第三銷嚙合所述靶，以使所述靶的外緣對準為與所述主體的內表面相距第一距離。

7.如權利要求1至6的任一項所述的處理屏蔽件，其中無法將每一銷從所述多個開口的每一者移除。

8.如權利要求1至6的任一項所述的處理屏蔽件，其中每一銷為陶瓷的。

9.一種基板處理腔室，所述基板處理腔室包含：

腔室主體；

腔室蓋，所述腔室蓋設置于所述腔室主體的頂部上，其中所述腔室蓋包含旋轉軸，所述旋轉軸配置將所述腔室蓋旋轉至所述腔室主體上；

靶組件，所述靶組件設置于所述腔室蓋的內部，其中所述靶組件包含耦接至背板的靶材料；和

處理屏蔽件，所述處理屏蔽件設置于所述腔室主體內，且位于所述靶組件之下，所述處理屏蔽件包含：

伸長環形主體，所述伸長環形主體具有外表面和內表面，所述內表面界定所述主體的中央開口；

唇，所述唇自所述主體的第一端附近的所述主體的所述外表面向外徑向延伸，以使得所述主體的第一部分向所述第一端延伸超過所述唇；

多個開口，所述多個開口位于所述唇中；和

銷，所述銷設置于所述多個開口的至少三個的每一者中并從所述唇突出，以在所述腔室蓋置放于所述處理屏蔽件的頂部上時，使所述靶組件對準于所述處理屏蔽件頂部上，其中第一銷的中心位于與第二銷的中心成約115度的位置，所述第二銷的所述中心位于與第三銷的中心成約115度的位置，且所述第一銷的所述中心位于與所述第三銷的所述中心成約130度的位置，其中，所述銷包含伸長主體，所述伸長主體具有：第一表面，所述第一表面具有斜的周緣，其中所述第一表面具有第一直徑；第二表面，所述第二表面與所述第一表面相對，其中所述第二表面具有第二直徑；和側壁，所述側壁位于所述第一表面與所述第二表面之間，其中所述側壁具有凹面部分，所述凹面部分具有第三直徑。

10.如權利要求9所述的基板處理腔室，其中所述唇由所述處理腔室的第一支撐構件支撐，以支撐所述腔室主體內的所述處理屏蔽件。

11.如權利要求9所述的基板處理腔室，其中所述旋轉軸配置為呈弧形將所述腔室蓋旋轉至腔室主體上。

12.如權利要求9至11的任一項所述的基板處理腔室，其中位于所述第一端附近的所述主體的所述內表面圍繞所述靶材料設置，且與所述靶材料間隔第一距離，并且其中當所述靶組件旋轉至所述處理屏蔽件上時，所述第一端附近的所述主體的所述內表面避免與所述靶材料接觸。

13.如權利要求9至11的任一項所述的基板處理腔室，其中所述多個開口為三個開口，每一開口具有銷設置于所述開口中。

14.如權利要求13所述的基板處理腔室，其中所述第一銷和所述第二銷比所述第三銷距離所述旋轉軸更近，且其中在所述第三銷嚙合所述靶組件之前，所述第一銷和所述第二銷先嚙合所述靶組件。