[發(fā)明專(zhuān)利]研磨用組合物、研磨用組合物制造方法及研磨物制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201480008802.5 | 申請(qǐng)日: | 2014-02-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104995277A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-10-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 土屋公亮;丹所久典;淺田真希;須賀裕介 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 福吉米株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C09K3/14 | 分類(lèi)號(hào): | C09K3/14;B24B37/00 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 研磨 組合 制造 方法 | ||
1.一種研磨用組合物,其包含磨粒、水溶性聚合物和水,
所述研磨用組合物在所述磨粒的含量為0.2質(zhì)量%的濃度時(shí),利用動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定的所述研磨用組合物中包含的顆粒的體積平均粒徑D
所述磨粒的平均一次粒徑D
所述水溶性聚合物選自纖維素衍生物、包含氧化烯單元的聚合物、包含N-乙烯基內(nèi)酰胺型的單體單元的聚合物、包含N-乙烯基鏈狀酰胺的單體單元的聚合物、亞胺衍生物形成的水溶性聚合物、包含具有N-(甲基)丙烯酰基的鏈狀酰胺的單體單元的聚合物、包含具有N-(甲基)丙烯酰基的環(huán)狀酰胺的單體單元的聚合物、乙烯基醇系聚合物以及支鏈淀粉,
所述研磨用組合物的pH值為9.0至12.0。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨用組合物,其中,所述磨粒的平均一次粒徑D
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的研磨用組合物,其中,所述磨粒的平均二次粒徑D
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的研磨用組合物,其中,所述水溶性聚合物的重均分子量為1×10
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的研磨用組合物,其中,所述水溶性聚合物的重均分子量為1×10
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、5中的任一項(xiàng)所述的研磨用組合物,其還含有堿性化合物。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的研磨用組合物,其還含有堿性化合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的研磨用組合物,其還含有堿性化合物。
9.一種研磨用組合物制造方法,其是包含磨粒、水溶性聚合物、堿性化合物和水的研磨用組合物的制造方法,該方法包括:
準(zhǔn)備包含所述磨粒、所述堿性化合物和水的分散液;
準(zhǔn)備包含所述水溶性聚合物和水的水溶液;和
對(duì)所述分散液添加所述水溶液并混合,
此處,所述研磨用組合物在所述磨粒的含量為0.2質(zhì)量%的濃度時(shí),利用動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定的所述研磨用組合物中包含的顆粒的體積平均粒徑D
所述磨粒的平均一次粒徑D
所述水溶性聚合物選自纖維素衍生物、包含氧化烯單元的聚合物、包含N-乙烯基內(nèi)酰胺型的單體單元的聚合物、包含N-乙烯基鏈狀酰胺的單體單元的聚合物、亞胺衍生物形成的水溶性聚合物、包含具有N-(甲基)丙烯酰基的鏈狀酰胺的單體單元的聚合物、包含具有N-(甲基)丙烯酰基的環(huán)狀酰胺單體單元的聚合物、乙烯基醇系聚合物以及支鏈淀粉,
所述研磨用組合物的pH值為9.0至12.0。
10.一種研磨物制造方法,其包括:
向研磨對(duì)象物供給研磨液;和
用所述研磨液對(duì)所述研磨對(duì)象物的表面進(jìn)行研磨;
此處,作為向所述研磨對(duì)象物供給的研磨液,使用如下的研磨液:
所述研磨液包含磨粒、水溶性聚合物和水,
且含有在所述磨粒的含量為0.2質(zhì)量%的濃度時(shí)利用動(dòng)態(tài)光散射法測(cè)定的體積平均粒徑D
所述磨粒的平均一次粒徑D
所述水溶性聚合物選自纖維素衍生物、包含氧化烯單元的聚合物、包含N-乙烯基內(nèi)酰胺型的單體單元的聚合物、包含N-乙烯基鏈狀酰胺的單體單元的聚合物、亞胺衍生物形成的水溶性聚合物、包含具有N-(甲基)丙烯酰基的鏈狀酰胺的單體單元的聚合物、包含具有N-(甲基)丙烯酰基的環(huán)狀酰胺的單體單元的聚合物、乙烯基醇系聚合物以及支鏈淀粉,
所述研磨用組合物的pH值為9.0至12.0。
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