[發明專利]防反射膜及其制造方法

有效

• 申請號: 201480006539.6
• 申請日: 2014-01-27
• 公開（公告）號: CN104956241B
• 公開（公告）日: 2018-06-08
• 發明（設計）人: 岸敦史;上野友德;倉本浩貴
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;B32B7/02;G02B5/30;G02F1/1335;G09F9/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 白麗

本發明提供一種可以高生產率且低成本制造、在寬帶域中具有優異的反射性能(低反射性)、且具有接近中性的優異的反射色相、進而具有優異的機械特性的防反射膜。本發明的防反射膜具有基材、與自基材側起依次具有的中折射率層、高折射率層及低折射率層。基材的折射率為1.45～1.65的范圍，中折射率層是通過在基材上涂布包含粘合劑樹脂與無機微粒的中折射率層形成用組合物并進行固化而形成，其折射率為1.67～1.78的范圍，厚度為70nm～120nm，高折射率層的折射率為2.00～2.60的范圍，厚度為10nm～25nm，低折射率層的折射率為1.35～1.55的范圍，厚度為70nm～120nm。

技術領域

本發明涉及一種防反射膜及其制造方法。更詳細而言，本發明涉及一種包含干式工藝與濕式工藝的防反射膜的制造方法及利用此種制造方法所獲得的防反射膜。

背景技術

一直以來，為了防止外界光映入CRT(Cathode-Ray Tube，陰極射線管)、液晶顯示裝置、等離子顯示面板等顯示器畫面，廣泛使用配置在顯示器畫面的表面的防反射膜。作為防反射膜，已知例如具有由中折射率材料構成的層、由高折射率材料構成的層及由低折射率材料構成的層的多層膜。已知通過使用上述多層膜可獲得高的防反射性能(在寬帶域中低的反射率)。上述多層膜通常是通過蒸鍍法或濺射法等干式工藝(干式法)而形成的。然而，干式工藝存在生產率差、制造成本變高的問題。

為了解決上述問題，提出了下述方案：將干式工藝與如涂覆或涂布那樣的濕式工藝(濕式法)進行組合所獲得的多層防反射膜(例如專利文獻1)。然而，對于以專利文獻1為代表的到目前為止所提出的技術，生產率及成本降低效果均不充分，所獲得的防反射膜的光學特性也均不充分。

然而，防反射膜的防反射性能通常是用視覺反射率Y(％)進行評價的，該視覺反射率越低，防反射性能越優異。然而，如果要降低視覺反射率，則存在反射色相易產生著色的問題。

如上所述，強烈期望一種兼具低的視覺反射率與著色小且接近中性的反射色相的多層防反射膜、及可以以高生產率且低成本獲得此種膜的技術。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2002-243906號公報

發明內容

發明所要解決的技術問題

本發明是為了解決上述現有的技術問題而作出的，其目的在于提供一種在寬帶域中具有優異的反射特性(低反射性)且接近中性的優異的反射色相進而具有優異的機械特性的防反射膜、及可以以高生產率且低成本制造此種防反射膜的方法。

用于解決技術問題的手段

本發明的防反射膜具有基材和自該基材側起依次具有的中折射率層、高折射率層及低折射率層；該基材的折射率為1.45～1.65的范圍；該中折射率層是通過在該基材上涂布包含粘合劑樹脂與無機微粒的中折射率層形成用組合物并進行固化而形成的，并且折射率為1.67～1.78的范圍，厚度為70nm～120nm；該高折射率層的折射率為2.00～2.60的范圍，厚度為10nm～25nm；該低折射率層的折射率為1.35～1.55的范圍，厚度為70nm～120nm。

在一個實施方式中，上述高折射率層的厚度為10nm～20nm。

在一個實施方式中，上述高折射率層是通過金屬氧化物或金屬氮化物的濺射而形成的、或者是通過一面導入氧使金屬氧化一面進行濺射而形成的。

在一個實施方式中，上述粘合劑樹脂為電離射線固化型樹脂，上述無機微粒是粒徑為1nm～100nm的氧化鋯粒子或氧化鈦粒子。