[發明專利]防反射膜及其制造方法

有效

• 申請號: 201480006539.6
• 申請日: 2014-01-27
• 公開（公告）號: CN104956241B
• 公開（公告）日: 2018-06-08
• 發明（設計）人: 岸敦史;上野友德;倉本浩貴
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;B32B7/02;G02B5/30;G02F1/1335;G09F9/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 白麗

1.一種防反射膜，其具有基材和自所述基材側起依次具有的中折射率層、高折射率層及低折射率層，

所述基材的折射率為1.45～1.65的范圍，

所述中折射率層是通過在所述基材上涂布包含粘合劑樹脂與無機微粒的中折射率層形成用組合物并進行固化而形成的，并且折射率為1.67～1.78的范圍，厚度為70nm～120nm，

所述高折射率層的折射率為2.00～2.60的范圍，厚度為14nm～25nm，

所述低折射率層的折射率為1.35～1.55的范圍，厚度為70nm～120nm，

所述防反射膜的反射色相在CIE-Lab表色系統中為0≤a^＊≤15、-20≤b^＊≤0。

2.根據權利要求1所述的防反射膜，其中，所述高折射率層的厚度為10nm～20nm。

3.根據權利要求1所述的防反射膜，其中，所述高折射率層是通過金屬氧化物或金屬氮化物的濺射而形成的、或者是通過一面導入氧使金屬氧化一面進行濺射而形成的。

4.根據權利要求1所述的防反射膜，其中，所述粘合劑樹脂為電離射線固化型樹脂，所述無機微粒是粒徑為1nm～100nm的氧化鋯粒子或氧化鈦粒子。

5.一種防反射膜的制造方法，其包含下述步驟：

在基材上涂布包含粘合劑樹脂與無機微粒的中折射率層形成用組合物并使其固化而形成中折射率層，

在所述中折射率層上濺射金屬氧化物或金屬氮化物、或者一面導入氧使金屬氧化一面進行濺射而形成高折射率層，及

在所述高折射率層上濺射金屬氧化物或金屬氟化物而形成低折射率層，

其中，所述基材的折射率為1.45～1.65的范圍，

所述中折射率層的折射率為1.67～1.78的范圍，厚度為70nm～120nm，

所述高折射率層的折射率為2.00～2.60的范圍，厚度為14nm～25nm，

所述低折射率層的折射率為1.35～1.55的范圍，厚度為70nm～120nm，

所述防反射膜的反射色相在CIE-Lab表色系統中為0≤a^＊≤15、-20≤b^＊≤0。

6.一種帶有防反射膜的偏振片，其包含權利要求1所述的防反射膜。

7.一種圖像顯示裝置，其包含權利要求1所述的防反射膜或權利要求6所述的帶有防反射膜的偏振片。