[發明專利]玻璃基板的制造方法及玻璃基板制造裝置有效
| 申請號： | 201480006501.9 | 申請日： | 2014-01-31 |
| 公開（公告）號： | CN104968617B | 公開（公告）日： | 2017-07-18 |
| 發明（設計）人： | 鈴木諒;君嶋哲郎 | 申請（專利權）人： | 安瀚視特控股株式會社 |
| 主分類號： | C03B5/225 | 分類號： | C03B5/225 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產權代理有限責任公司11287 | 代理人： | 林斯凱 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 玻璃 制造 方法 裝置 | ||
1.一種玻璃基板的制造方法，包含熔解步驟、澄清步驟及成形步驟，該玻璃基板的制造方法的特征在于：
所述澄清步驟中使用的澄清槽是由鉑或鉑合金構成，且具有用以對所述澄清槽進行通電加熱的凸緣狀的電極，
在所述澄清步驟中，
在經通電加熱的澄清槽內，以具有氣相空間的方式調整液位使熔融玻璃通過，由此進行脫泡，
為了抑制所述電極的發熱而冷卻所述電極，且
所述電極的冷卻是以所述澄清槽的壁的溫度成為超過所述澄清槽的氣相空間內產生的鉑蒸氣凝結的溫度的范圍的方式加以控制。
2.根據權利要求1所述的玻璃基板的制造方法，其中，在所述澄清步驟中，
對所述電極或距離所述電極的位置50cm的范圍內的澄清槽的溫度進行測定，且
基于所述測定出的溫度，調整所述電極的冷卻量。
3.根據權利要求2所述的玻璃基板的制造方法，其中，在所述澄清步驟中，
判定所述測定出的電極或距離電極的位置50cm的范圍內的澄清槽的溫度是否在預先規定的溫度范圍內，當所述判定的結果為測定出的溫度處于所述預先規定的溫度范圍外時，調整所述冷卻量。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的玻璃基板的制造方法，其中，在所述澄清步驟中，使用氧化錫作為澄清劑。
5.根據權利要求1至3中任一項所述的玻璃基板的制造方法，其中，所述電極具有用以使冷媒通過的冷卻管，且
所述澄清步驟是
增減通過所述冷卻管的冷媒的量，由此而調整冷卻量。
6.根據權利要求5所述的玻璃基板的制造方法，其中所述冷媒為氣體。
7.一種玻璃基板制造裝置，包含熔解槽、澄清槽及成形裝置，該玻璃基板制造裝置的特征在于：
所述澄清槽是由鉑或鉑合金構成，且具有用以對所述澄清槽進行通電加熱的凸緣狀的電極，
所述電極是為了抑制所述電極的發熱而被冷卻，且
所述電極的冷卻是以所述澄清槽的壁的溫度成為超過所述澄清槽的氣相空間內產生的鉑蒸氣凝結的溫度的范圍的方式加以控制。
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