[發明專利]玻璃基板的制造方法及玻璃基板制造裝置

有效

• 申請號: 201480000438.8
• 申請日: 2014-03-26
• 公開（公告）號: CN104302584B
• 公開（公告）日: 2017-09-01
• 發明（設計）人: 君嶋哲郎;村上次伸
• 申請（專利權）人: 安瀚視特控股株式會社
• 主分類號: C03B5/027
• 分類號: C03B5/027;C03B5/235;C03C3/083;C03C3/085;C03C3/087;C03C3/091
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司11287
• 代理人: 林斯凱

技術領域

本發明涉及一種制造玻璃基板的玻璃基板的制造方法及進行該制造方法的玻璃基板制造裝置。

背景技術

近年來，在顯示面板領域中，為了提高畫質，像素的高精細化不斷發展。伴隨該高精細化的進展，也對用于顯示面板的玻璃基板期待高品質。例如，在面板的制造步驟中，為了使經高溫下熱處理的玻璃基板不易產生尺寸變化而要求熱收縮小的玻璃基板。另外，對于液晶顯示面板中所使用的玻璃基板，從防止TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶體管)的特性劣化的觀點來看，使用不含或幾乎不含包含Li₂O、Na₂O、K₂O在內的堿金屬氧化物的玻璃。

一股來說，玻璃的應變點越高，所述玻璃基板的熱收縮越小。另外，眾所周知，越是減小玻璃基板的制造步驟中的緩冷速度，玻璃基板的熱收縮越小。因此，即便為相同的玻璃組成，也可以通過充分地減小緩冷速度，而將熱收縮降低到所需要的水平。尤其是，當利用浮式法由熔融玻璃制造玻璃基板時，增長緩冷爐而減小緩冷速度能相對容易地進行，但當使用下拉法(down draw method)制造玻璃基板時，增長緩冷爐從設備上或作業操作上這些方面來看難以實現。因此，在利用下拉法制造滿足對熱收縮的要求的玻璃基板時，利用與以往的玻璃組成相比應變點高的玻璃組成的玻璃(專利文獻1)。

另外，一股來說，所述不含或幾乎不含堿金屬氧化物的公知的玻璃(專利文獻2)與含有堿金屬氧化物也無妨的堿玻璃相比，玻璃的熔融溫度高，且為難熔性。當使用這種玻璃時，為了充分地熔解玻璃原料并防止成為玻璃基板的缺陷的未熔解物流出至后續步驟，必須使熔融步驟中的熔融玻璃溫度高于堿玻璃。

背景技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2010-6649號公報

專利文獻2：日本專利特開2010-235444號公報

發明內容

[發明要解決的問題]

但是，如果以應變點變高的方式調整玻璃組成，那么高溫區域(例如1,500℃以上的溫度)中的粘度變高，而成為難熔性的玻璃。如果高溫區域中的熔融玻璃的粘度變高，那么為了充分地熔解玻璃原料并防止成為玻璃基板的缺陷的未熔解物流出至后續步驟，必須使熔融步驟中的熔融玻璃溫度高于以往。

一股來說，當在熔解槽中由玻璃原料制作熔融玻璃時，在熔解槽內的氣相空間中，通過例如使用燃燒氣體的燃燒器(burner)的加熱，使氣相溫度高溫化而提高熔解槽的壁的溫度，利用來自該壁的輻射熱使所投入的玻璃原料熔解。進而，在熔解槽中，將熔解后所形成的熔融玻璃利用所述輻射熱進行加熱并且經由位于熔解槽的液相中的電極對進行通電加熱，由此使熔融玻璃成為所期望的溫度及粘度。

然而，如果提高所述熔解步驟中的熔融玻璃的溫度，那么原本在澄清步驟中產生氣泡而促進消泡的澄清劑在熔融步驟中在漂浮于熔融玻璃的液面的狀態下產生氧氣，使該氧氣釋放到熔融玻璃外。因此，有澄清劑的澄清能力降低，在澄清步驟中無法充分地減少氣泡的問題。

另外，當制造不含或幾乎不含堿金屬氧化物的難熔性玻璃的玻璃基板時，如果在制作熔融玻璃的熔融步驟中使熔融玻璃的溫度過高，那么原本在澄清步驟中產生氣泡而促進消泡的澄清劑會在熔融步驟中產生氣泡，且該氣泡會釋放到熔融玻璃外。因此，有在澄清步驟中無法充分地減少氣泡的問題。

而且，近年來，從下述情況來看，所述氣泡的問題變得更明顯。

·從環境問題的觀點來看，由于并非使用澄清效果大的As₂O₃，而是使用澄清效果比As₂O₃差的氧化錫，因此在澄清步驟中未進行充分的消泡，氣泡的問題變得明顯。

·由于高溫區域中的熔融玻璃的粘度高，因此澄清步驟中的氣泡的浮升速度變慢。因此，在澄清步驟中未進行充分的消泡，氣泡的問題變得明顯。

因此，本發明的目的在于提供一種即便使用難熔性的玻璃制造玻璃基板時，也可以通過一邊減少未熔解物的產生一邊充分地發揮澄清劑的效果而減少氣泡產生的玻璃基板的制造方法及玻璃基板制造裝置。

[解決問題的技術手段]

本發明的一態樣是玻璃基板的制造方法，包含以下實施方式。

(實施方式1)

一種玻璃基板的制造方法，其特征在于包含：