[實用新型]用于安置基板的裝置

有效

• 申請號: 201420857302.6
• 申請日: 2014-12-30
• 公開（公告）號: CN204959030U
• 公開（公告）日: 2016-01-13
• 發明（設計）人: A.博伊德;O.費龍;陳曉軍;K.L.格林
• 申請（專利權）人: 艾克斯特朗歐洲公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 侯宇

技術領域

本實用新型涉及一種用于安置基板的裝置，具有多個布置在水平面內的、分別被支承圓圍繞的、分別用于圓盤狀基板的支承座，所述裝置還具有多個在相鄰的支承座之間布置的支架，所述支架空間上相互分隔并且具有定心側面，所述定心側面分別沿著位于水平面內的圓弧線延伸，其中，多個分別位于支承座側面的定心側面各自構成貼靠位置，用于接觸地貼靠所述基板的邊緣的部段，所述定心側面分別配屬于相互不同的支架。

背景技術

這種各類型的裝置構成用于CVD(化學氣相沉積)反應器的基座，并從文獻DE102007023970A1中已知。

未公開的文獻DE102012108986A1描述了一種具有在水平面內布置的支承座的基座，其中，支承座被多個定心側面包圍，其中，每個定心側面具有與支承圓相切的直線延伸的側面部段。

文獻DE102011055061A1描述了一種CVD反應器，其中，放置在放置面上的基板的邊緣被這樣支承，從而使基板中空地放置在其支承座上方。

文獻US2003/0178145A1描述了一種CVD反應器，其中，基板利用其邊緣放置在支撐點上。

根據本實用新型的裝置尤其具有和文獻EP2160759B1所述一樣的可應用在CVD反應器中的基座的設計和功能。被設計為基座的裝置由面狀的石墨件構成，該石墨件在其表面上具有相互間隔的支架。基座的表面構成了水平的放置面，該放置面具有多個尤其均勻布置的支承座。在每個支承座上可以布置一個圓盤形的基板。已知的裝置具有從放置面伸出的支架，該支架分別構成三個貼靠側面。支架在空間上相互分離。定心側面是貼靠側面并且在弧線上延伸。在現有技術中，弧線位于支承座的圓形的平面輪廓線上。兩個相鄰支承座的由弧線所定義的支承圓在兩個相鄰的支架的間隔空間中接觸。利用支架的六角形布置，基板可以定位在六角形布置的放置面上。

此外，由文獻US2013/065403和文獻WO2012/050117還已知用于容納待涂覆的基板的載體。

實用新型內容

由此，本實用新型所要解決的技術問題在于，對所述類型的裝置進行便于使用的改進。

所述技術問題根據本實用新型通過一種裝置解決，所述裝置具有多個布置在水平面內的、分別被支承圓圍繞的、分別用于圓盤狀基板的支承座，所述裝置還具有多個在相鄰的支承座之間布置的支架，所述支架空間上相互分隔并且具有定心側面，所述定心側面分別沿著位于水平面內的圓弧線延伸，其中，多個分別位于支承座側面的定心側面各自構成貼靠位置，用于接觸地貼靠所述基板的邊緣的部段，所述定心側面分別配屬于相互不同的支架，其中規定，多個分別位于支承座側面的定心側面沿著相互不同的圓弧線延伸，該圓弧線的半徑分別大于所述支承圓的半徑，并且所述定心側面僅在相應的貼靠位置上與所述支承圓相切。

所述技術問題根據本實用新型還通過一種裝置解決，所述裝置具有布置在水平面內的、分別用于圓盤形基板的支承座，其中，至少一個位于所述裝置的邊緣附近的支承座這樣設計并且尤其具有凹穴，從而在位于所述支承座上的所述基板的下方構成空腔，所述空腔具有邊緣區域，所述邊緣區域的豎直深度朝著支承圓的圓心的方向變大，其特征在于，所述空腔的邊緣區域具有不同于旋轉對稱結構的延伸走向，其中，在相對于所述支承座的圓心的相等徑向距離處，在朝向所述裝置邊緣的邊緣區域中的豎直高度小于在遠離所述裝置邊緣的邊緣區域中的豎直高度。

根據本實用新型，弧線(定心側面沿該弧線延伸)的走向與支承圓的走向(支承圓的走向相當于基板的平面輪廓)不同。