[實(shí)用新型]用于安置基板的裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420857302.6
• 申請(qǐng)日: 2014-12-30
• 公開（公告）號(hào): CN204959030U
• 公開（公告）日: 2016-01-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: A.博伊德;O.費(fèi)龍;陳曉軍;K.L.格林
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 艾克斯特朗歐洲公司
• 主分類號(hào): C23C16/458
• 分類號(hào): C23C16/458
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 侯宇

1.一種用于安置基板的裝置，具有多個(gè)布置在水平面內(nèi)的、分別被支承圓(6)圍繞的、分別用于圓盤狀基板(3)的支承座(4)，所述裝置還具有多個(gè)在相鄰的支承座(4)之間布置的支架(2、12)，所述支架(2、12)空間上相互分隔并且具有定心側(cè)面(5)，所述定心側(cè)面(5)分別沿著位于水平面內(nèi)的圓弧線延伸，其中，多個(gè)分別位于支承座(4)側(cè)面且分別配屬于相互不同的支架(2、12)的定心側(cè)面(5)各自構(gòu)成貼靠位置(7)，用于接觸地貼靠所述基板(3)的邊緣(3’)的部段，其特征在于，多個(gè)分別位于支承座(4)側(cè)面的定心側(cè)面(5)沿著相互不同的圓弧線延伸，該圓弧線的半徑(R_P)分別大于所述支承圓(6)的半徑(R_W)，并且所述定心側(cè)面(5)僅在相應(yīng)的貼靠位置(7)上與所述支承圓(6)相切。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述定心側(cè)面(5)的半徑(R_P)比所述支承圓(6)的半徑(R_W)大5％至10％。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述定心側(cè)面(5)繞著所述支承圓(6)的圓心最多在20°至40°的圓弧角上延伸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述貼靠位置(7)位于各個(gè)定心側(cè)面(5)的中間，使得所述定心側(cè)面(5)與所述支承圓(6)的圓心(8)的間距在所述支承圓(6)的兩個(gè)周向上隨著距所述貼靠位置(7)越來(lái)越遠(yuǎn)而不斷增大。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述支承座(4)具有凹穴(11)，所述凹穴(11)的最大深度在20μm至60μm之間。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，在所述貼靠位置(7)上在所述支承圓(6)以內(nèi)布置有局部放置區(qū)(10)，用于點(diǎn)狀地在邊緣支承所述基板(3)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述放置區(qū)(10)直接布置在所述支承圓(6)的邊緣上。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，所述放置區(qū)(10)繞所述支承圓(6)的圓心在3°至10°的圓弧角上延伸。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，所述凹穴(11)具有至少一個(gè)圓形的邊緣(13)，該邊緣(13)繞所述支承圓(6)的圓心沿圓弧線延伸。

10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，所述凹穴(11)具有多個(gè)臺(tái)階。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述支架(2、12)具有三個(gè)或四個(gè)定心側(cè)面(5)并且具有三邊或四邊的對(duì)稱結(jié)構(gòu)。

12.一種用于安置基板的裝置，具有布置在水平面內(nèi)的、分別用于圓盤形基板(3)的支承座(4)，其中，至少一個(gè)位于所述裝置的邊緣附近的支承座(4)這樣設(shè)計(jì)并且具有凹穴(11)，從而在位于所述支承座(4)上的所述基板(3)的下方構(gòu)成空腔(17)，所述空腔(17)具有邊緣區(qū)域，所述邊緣區(qū)域的豎直深度朝著支承圓的圓心的方向變大，其特征在于，所述空腔(17)的邊緣區(qū)域具有不同于旋轉(zhuǎn)對(duì)稱結(jié)構(gòu)的延伸走向，其中，在相對(duì)于所述支承座(4)的圓心(8)的相等徑向距離(R₁、R₂)處，在朝向所述裝置的邊緣(1’)的邊緣區(qū)域(R₂)中的豎直高度(H)小于在遠(yuǎn)離所述裝置的邊緣(1’)的邊緣區(qū)域(R₁)中的豎直高度(H)。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其特征在于，所述支承座(4)的底部從其邊緣處開始階梯狀地下降。

14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的裝置，其特征在于，所述支承座(4)的底部在遠(yuǎn)離所述裝置的邊緣(1’)的邊緣區(qū)域中由臺(tái)階(13、14)構(gòu)成，所述臺(tái)階的邊棱繞所述支承座(4)的圓心(8)沿圓弧線延伸，并且所述臺(tái)階的臺(tái)階面(13’、14’、15’)齊平地過(guò)渡至配屬于朝向所述裝置的邊緣(1’)的邊緣區(qū)域且其邊棱沿割線延伸的臺(tái)階(13、14)的臺(tái)階面(13’、14’、15’)。

15.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的裝置，其特征在于，水平面具有基面(15’)，從基面開始，放置區(qū)(10)豎直向上延伸，而所述凹穴(11)豎直向下延伸，其中，至少一個(gè)位于所述裝置的邊緣(1’)附近的支承座(4)在其朝向所述裝置的邊緣(1’)的側(cè)面上構(gòu)成臺(tái)階(15、16)，所述臺(tái)階(15、16)位于所述基面(15’)的豎直上方但位于所述放置區(qū)(10)的豎直下方。