[實用新型]一種柱狀旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420830991.1
• 申請日: 2014-12-24
• 公開（公告）號: CN204342870U
• 公開（公告）日: 2015-05-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 談琦
• 申請（專利權(quán)）人: 四川亞力超膜科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 成都宏順專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51227
• 代理人: 周永宏

1.一種柱狀旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于：包括柱狀靶材(4)、用于安裝磁鋼組件(5)的磁鋼安裝芯軸(6)；磁鋼安裝芯軸(6)與柱狀靶材(4)采用同心布置；柱狀靶材(4)的一端與傳動軸(8)連接，另外一端安裝有端部軸頭(1)；所述端部軸頭(1)上設(shè)置有與柱狀靶材(4)和磁鋼安裝芯軸(6)配合的第一凹槽(1.1)和第二凹槽(1.2)；所述磁鋼安裝芯軸(6)一端套接有軸承套(3)；所述軸承套(3)安裝在第二凹槽(1.2)內(nèi)；所述磁鋼安裝芯軸(6)套接有過水軸套(7)，且過水軸套(7)支撐起傳動軸(8)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柱狀旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于：所述傳動軸(8)的外側(cè)套有磁流體密封件(10)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柱狀旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于：所述磁鋼安裝芯軸(6)為中空管，磁鋼安裝芯軸(6)上靠近端部軸頭(1)一端設(shè)有若干孔(12)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柱狀旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于：所述端部軸頭(1)通過第一法蘭(2)安裝在柱狀靶材(4)上。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柱狀旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于：所述柱狀靶材(4)通過第二法蘭(11)與傳動軸(8)連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柱狀旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于：所述過水軸套(7)上開有多個過水孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的柱狀旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于：所述過水軸套(7)上開有代替過水孔的多個過水槽。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柱狀旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于：所述軸承套(3)采用聚四氟乙烯材料制造。

9.根據(jù)權(quán)利要求1、6或7任一所述的柱狀旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，其特征在于：所述的過水軸套(7)采用聚四氟乙烯材料制造。